本發(fā)明涉及硫化工裝,具體為一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝。
背景技術:
1、人工硐室型高壓儲氣庫是一種用于儲存天然氣或其他氣體的設施,通常建造于地下巖層中,為了確保儲氣庫的密封性,一些環(huán)形結構的儲氣庫常常在儲兩端設置截面為l狀且整體結構為環(huán)形的密封層,密封層經(jīng)過硫化處理,以提高儲氣庫的密封性能并提供額外的機械強度,繼而提高整體結構的穩(wěn)定性和耐久性,確保儲氣庫長期可靠運行。
2、目前,環(huán)形儲氣庫為了提高密封層與硐室的貼合度以及安裝的便利度,通常會選擇拼接式的密封層,拼接式密封層主要采用一個貼合在硐室內(nèi)周面的環(huán)形密封單元、一個貼個在硐室端面的環(huán)形密封單元拼接在一起構成截面為l狀的環(huán)形密封層,且為了進一步提高整體的密封性以及穩(wěn)定性和耐久性,會在密封層安裝后進一步的進行硫化處理。
3、現(xiàn)有的硫化處理裝置對環(huán)形儲氣庫端部的密封層進行硫化處理的過程中,通常只是簡單的沿著密封層環(huán)形方向間歇移動硫化頭依次對密封層進行硫化處理,其在整體硫化質(zhì)量的控制方面以及硫化工作便利度、精度以及工作效率方面均有待進一步的提高。
技術實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明提供人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,以解決相關技術中針對硐室內(nèi)拼接的密封層進行硫化處理時,現(xiàn)有硫化裝置難以可靠控制整體硫化質(zhì)量、硫化工作便利度以及效率低,進而影響密封層硫化質(zhì)量和施工效率的問題。
2、本發(fā)明提供了一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,該人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝包括與側密封層相對應的硫化頭一、與端密封層相對應的硫化頭二,側密封層與端密封層拼接構成截面為l狀密封區(qū),硫化頭一和硫化頭二配合構成截面為l狀的硫化區(qū);用于控制硫化頭一和硫化頭二先貼靠相應的側密封層和端密封層、然后沿著相應的側密封層和端密封層移動直至構成截面為l狀的硫化區(qū)、最后壓緊相應側密封層和端密封層的控制機構,所述控制機構包括定位座以及移動路徑為傾斜狀的滑動座,定位座根據(jù)硐室體的側面和端面對滑動座進行定位,使滑動座只需要沿著傾斜的移動路徑滑動即可同步控制硫化頭一與硫化頭二貼合或分離,滑動座上設置有控制組件,控制組件同步控制硫化頭一和硫化頭二沿著相應的側密封層和端密封層移動直至構成截面為l狀的硫化區(qū)然后壓緊;支架機構,所述支架機構包括基座,基座上設置有旋轉(zhuǎn)座,旋轉(zhuǎn)座上滑動設置有縱移座,縱移座上滑動設置有橫移座,定位座安裝在橫移座上,滑動座滑動安裝在橫移座上。
3、在一種可能實施的方式中,所述控制組件包括與滑動座滑動連接的第一滑塊以及與第一滑塊滑動連接的第二滑塊,且第二滑塊的滑動方向與第一滑塊的滑動方向相互垂直,第一滑塊數(shù)量為二且分別與硫化頭一和硫化頭二對應,滑動座上設置有限位件,限位件分別對硫化頭一和硫化頭二進行限位;當硫化頭一和硫化頭二構成截面為l狀的硫化區(qū)時,限位件對硫化頭一和硫化頭二進行限位,使硫化頭一和硫化頭二壓緊相應的側密封層和端密封層,其中,第一滑塊上連接有螺桿,螺桿上螺紋連接有控制套,控制套均轉(zhuǎn)動連接在滑動座上,控制套外側嚙合連接有控制桿,控制桿滑動連接在滑動座上,控制桿之間嚙合連接有同步齒輪。
4、在一種可能實施的方式中,所述定位座包括固定基體和限位組件,限位組件通過固定基體安裝在橫移座上,限位組件數(shù)量為二且垂直分布,垂直分布的限位組件分別對應端面和側面,且與端面對應的限位組件通過與端面抵靠接觸對橫移座進行限位、與側面對應的限位組件通過與側面抵靠接觸對橫移座進行限位。
5、在一種可能實施的方式中,所述限位組件包括螺紋套設有調(diào)節(jié)套的螺紋桿和滾動設置有接觸件的連接端,連接端固定連接在螺紋桿的端部,螺紋桿與固定基體滑動連接,調(diào)節(jié)套與固定基體轉(zhuǎn)動連接,其中,連接端為弧形結構,接觸件為圓柱狀,且接觸件數(shù)量若干并沿著連接端的外弧面分布。
6、在一種可能實施的方式中,所述基座包括移動架,移動架上滑動設置有抵撐件,抵撐件抵靠在硐室體和移動架之間并使移動架處于穩(wěn)固的位置狀態(tài)。
7、在一種可能實施的方式中,所述移動架上滑動設置有中心定位架,旋轉(zhuǎn)座轉(zhuǎn)動連接在中心定位架上,中心定位架與抵撐件之間設置有行程加倍組件,行程加倍組件控制中心定位架與抵撐件同步同向移動且抵撐件的移動距離為中心定位架位移距離的二倍,其中,所述行程加倍組件包括第一齒條、齒輪組以及第二齒條,齒輪組嚙合在第一齒條與第二齒條之間并使第一齒條的行程為第二齒條的二倍。
8、在一種可能實施的方式中,所述限位件為楔形結構且數(shù)量若干,硫化頭一與硫化頭二上均設置有若干楔形接觸區(qū),若干楔形接觸區(qū)與限位件一一對應且楔形接觸區(qū)與相應的限位件配合形成若干限位點。
9、本發(fā)明實施例中的上述一個或多個技術方案,至少具有如下技術效果之一:1、本發(fā)明中的硫化頭一與硫化頭二以先貼靠在相應的側密封層和端密封層上,然后移動并施加一定的力作用在側密封層和端密封層上,在即將硫化之前,進一步促使端密封層與側密封層緊密的拼接在一起,最后壓緊進行硫化處理,同時結合定位座根據(jù)硐室體的側面和端面對滑動座的定位,使滑動座只需要沿著移動路徑移動即可準確便捷的控制硫化頭一和硫化頭二與相應的側密封層和端密封層貼合或分離,一方面提高了環(huán)形密封區(qū)硫化過程的穩(wěn)定性與可靠性,相應的提高硫化的質(zhì)量,另一方面,在前述基礎上,提高了硫化過程的便利度和穩(wěn)定性,相應的提高硫化的效率,整體有效的提高了硐室內(nèi)密封層的硫化質(zhì)量和施工效率。
10、2、本發(fā)明通過限位件定點的對硫化頭一和硫化頭二進行限位,使硫化頭一和硫化頭二在拼接構成弧形硫化區(qū)時,進一步使硫化頭一和硫化頭二壓緊相應的側密封層和端密封層,進一步提高硫化的質(zhì)量。
11、3、本發(fā)明中的支架機構為控制機構提供穩(wěn)定的安裝環(huán)境并根據(jù)硐室體的側面對硫化頭一和硫化頭二的旋轉(zhuǎn)中心進行限定,提高硫化處理過程的穩(wěn)定性和準確度,便于高效的進行硫化處理工作。
1.一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:包括與側密封層(1)相對應的硫化頭一(2)、與端密封層(3)相對應的硫化頭二(4),側密封層(1)與端密封層(3)拼接構成截面為l狀密封區(qū),硫化頭一(2)和硫化頭二(4)配合構成截面為l狀的硫化區(qū);
2.根據(jù)權利要求1所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述控制組件(53)包括與滑動座(52)滑動連接的第一滑塊(531)以及與第一滑塊(531)滑動連接的第二滑塊(532),且第二滑塊(532)的滑動方向與第一滑塊(531)的滑動方向相互垂直,第一滑塊(531)數(shù)量為二且分別與硫化頭一(2)和硫化頭二(4)對應,滑動座(52)上設置有限位件(533),限位件(533)分別對硫化頭一(2)和硫化頭二(4)進行限位;當硫化頭一(2)和硫化頭二(4)構成截面為l狀的硫化區(qū)時,限位件(533)對硫化頭一(2)和硫化頭二(4)限位,使硫化頭一(2)和硫化頭二(4)壓緊相應的側密封層(1)和端密封層(3)。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述定位座(51)包括固定基體(511)和限位組件(512),限位組件(512)通過固定基體(511)安裝在橫移座(94)上,限位組件(512)數(shù)量為二且垂直分布,垂直分布的限位組件(512)分別對應端面(8)和側面(7),且與端面(8)對應的限位組件(512)通過與端面(8)抵靠接觸對橫移座(94)進行限位、與側面(7)對應的限位組件(512)通過與側面(7)抵靠接觸對橫移座(94)進行限位。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述限位組件(512)包括螺紋套設有調(diào)節(jié)套(5121)的螺紋桿(5122)和滾動設置有接觸件(5123)的連接端(5124),連接端(5124)固定連接在螺紋桿(5122)的端部,螺紋桿(5122)與固定基體(511)滑動連接,調(diào)節(jié)套(5121)與固定基體(511)轉(zhuǎn)動連接。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述連接端(5124)為弧形結構,接觸件(5123)為圓柱狀,且接觸件(5123)數(shù)量若干并沿著連接端(5124)的外弧面分布。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述基座(91)包括移動架(911),移動架(911)上滑動設置有抵撐件(912),抵撐件(912)抵靠在硐室體(6)和移動架(911)之間并使移動架(911)處于穩(wěn)固的位置狀態(tài)。
7.根據(jù)權利要求6所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述移動架(911)上滑動設置有中心定位架(913),旋轉(zhuǎn)座(92)轉(zhuǎn)動連接在中心定位架(913)上,中心定位架(913)與抵撐件(912)之間設置有行程加倍組件(914),行程加倍組件(914)控制中心定位架(913)與抵撐件(912)同步同向移動且抵撐件(912)的移動距離為中心定位架(913)位移距離的二倍。
8.根據(jù)權利要求2所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述第一滑塊(531)上連接有螺桿(534),螺桿(534)上螺紋連接有控制套(535),控制套(535)均轉(zhuǎn)動連接在滑動座(52)上,控制套(535)上嚙合連接有控制桿(536),控制桿(536)滑動連接在滑動座(52)上,控制桿(536)之間嚙合連接有同步齒輪(537)。
9.根據(jù)權利要求2或8所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述限位件(533)為楔形結構且數(shù)量若干,硫化頭一(2)和硫化頭二(4)上均設置有楔形接觸區(qū)(538),楔形接觸區(qū)(538)與限位件(533)一一對應且若干楔形接觸區(qū)(538)與相應的限位件(533)配合形成若干限位點。
10.根據(jù)權利要求7所述的一種人工硐室密封層環(huán)向硫化工裝,其特征在于:所述行程加倍組件(914)包括第一齒條(9141)、齒輪組(9142)以及第二齒條(9143),齒輪組(9142)嚙合在第一齒條(9141)與第二齒條(9143)之間并使第一齒條(9141)的行程為第二齒條(9143)的二倍。