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一種納米尖浸潤聚焦的電射流打印方法與流程

文檔序號:11208252閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明一種納米尖浸潤聚焦的電射流打印方法屬于先進制造技術領域,涉及一種納米尖浸潤聚焦的電射流打印方法。該方法中利用納米尖表面毛細結構浸潤聚焦,將阿升級液滴精確輸送至聚焦射流點,從而將電射流打印分辨率由微米尺度提升至納米尺度。方法首先制備并安裝打印裝置,然后通過給墨系統(tǒng)將墨水輸送到納米尖所在的容墨腔,墨水在納米尖毛細浸潤作用下形成聚焦液錐。接著施加浸潤電壓,聚焦液錐在電浸潤作用下進一步銳化;最后施加脈沖電壓,將納米液滴發(fā)射至接收板上。該方法具有打印分辨率高,控制精度好,材料適應性廣等特點,可用于3D納米結構的精細打印制造。實現(xiàn)高精度、低成本、柔性化的電射流納米打印制造。

技術研發(fā)人員:梁軍生;楊金鶴;方旭;張小輝;王大志;馬艷艷;王金鵬;王立鼎
受保護的技術使用者:大連理工大學
技術研發(fā)日:2017.06.23
技術公布日:2017.10.10
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