技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及具有抗拉部件的流體填充室，以及具有包含有這種流體填充室的鞋底結(jié)構(gòu)的鞋類物品。

背景

鞋類物品通常包括兩個(gè)主要元件，鞋面和鞋底結(jié)構(gòu)。鞋面由多種材料元件(例如織物、泡沫、皮革和合成皮革)形成，其中材料元件被縫合或粘性地結(jié)合在一起以在鞋類的內(nèi)部形成用于舒適且固定地接納足部的空腔。通過材料元件的腳踝開口提供了進(jìn)入空腔的入口，從而有助于足部進(jìn)入空腔和從空腔中離開。另外，系帶被用于修改空腔的尺寸并將足部固定在空腔內(nèi)。

鞋底結(jié)構(gòu)鄰近鞋面的下部部分而定位，并大體定位在足部和地面之間。在很多鞋類物品中，包括運(yùn)動(dòng)鞋類，鞋底結(jié)構(gòu)通常包含鞋內(nèi)底、鞋底夾層和鞋外底。可以定位在空腔內(nèi)并鄰近空腔的下表面定位的鞋內(nèi)底是增強(qiáng)鞋類舒適性的薄的可壓縮部件。可固定到鞋面的下表面并從鞋面向下延伸的鞋底夾層形成鞋底結(jié)構(gòu)的中間層。除了減弱地面反作用力(即，向足部提供緩沖)，鞋底夾層例如還可限制足部運(yùn)動(dòng)或提供穩(wěn)定性。可固定到鞋底夾層的下表面的鞋外底形成鞋類的地面接觸部分，并經(jīng)常由包括紋理的耐久和抗磨材料制成以提高牽引力。

通常，鞋底夾層主要由延伸經(jīng)過鞋類的長度和寬度的泡沫聚合物材料形成，例如聚氨酯或乙烯醋酸乙烯共聚物。在一些鞋類物品中，鞋底夾層可包括增強(qiáng)鞋類的舒適性或性能的各種其他的鞋類元件，包括板、調(diào)節(jié)器、流體填充室、耐久元件或運(yùn)動(dòng)控制部件。在一些構(gòu)造中，這些其他鞋類元件中的任一個(gè)例如可以定位在鞋底夾層以及鞋面和鞋外底中的任一個(gè)之間、嵌在鞋底夾層中、或者由鞋底夾層的泡沫聚合物材料封裝。雖然很多鞋底夾層主要由泡沫聚合物材料形成，但是流體填充室或其他非泡沫結(jié)構(gòu)可形成一些鞋底夾層構(gòu)造的主要部分。

各種技術(shù)可被用于形成用于鞋類物品或其他產(chǎn)品的流體填充室，例如包括雙膜技術(shù)、熱形成技術(shù)和吹模技術(shù)。在雙膜技術(shù)中，兩個(gè)單獨(dú)的聚合物片材在特定位置處結(jié)合在一起。就兩個(gè)聚合物片材結(jié)合在一起而言，熱形成技術(shù)類似于雙膜技術(shù)，而且還包括使用加熱的模具以形成或者以其他方式成形聚合物片材。在吹模技術(shù)中，由熔化的或以其他方式軟化的聚合物材料形成的型坯被放置在具有空腔的模具內(nèi)，其具有室的所需構(gòu)造。加壓空氣引起聚合物材料適合空腔的表面。聚合物材料然后冷卻并保持空腔的形狀，從而形成室。

在上述討論的每個(gè)技術(shù)以后，室被加壓。即，加壓流體被注入室中并且然后密封在室內(nèi)。加壓的一種方法包括在聚合物片材或型坯的剩余部分中形成膨脹導(dǎo)管。為了加壓室，流體通過膨脹導(dǎo)管注入，之后膨脹導(dǎo)管被密封。聚合物片材或型坯的剩余部分，包括膨脹導(dǎo)管然后被修剪或以其他方式去除，以基本完成室的制造。

概述

以下討論可以被包含到鞋類物品和其他產(chǎn)品中的流體填充室的各種特征。在一種構(gòu)造中，流體填充室包括外部屏障和抗拉部件。外部屏障由限定了內(nèi)部空腔的聚合物材料形成。屏障具有限定第一表面的第一部分以及限定第二表面的相對(duì)的第二部分。第一部分具有形成延伸到室中的多個(gè)凹進(jìn)部分的多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域?？估考挥趦?nèi)部空腔內(nèi)，并在屏障的第一部分和屏障的第二部分之間延伸。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第一層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，固定到所述第一層的所述凹進(jìn)區(qū)域的所述部分在多個(gè)區(qū)域中固定到所述第一層，所述多個(gè)區(qū)域的總面積超出所述第一層的整個(gè)面積的一半。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分具有多個(gè)突出區(qū)域，所述多個(gè)突出區(qū)域形成從所述室向外延伸的多個(gè)突出部分。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第一層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分具有多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域，所述第二部分的所述多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域形成延伸到所述室中的多個(gè)凹進(jìn)部分。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第二層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分具有多個(gè)突出區(qū)域，所述第二部分的所述多個(gè)突出區(qū)域形成從所述室向外延伸的多個(gè)突出部分。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第二層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述凹進(jìn)區(qū)域與所述屏障的所述第二部分的所述突出區(qū)域相對(duì)地定位。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分具有多個(gè)突出區(qū)域，所述多個(gè)突出區(qū)域形成從所述室向外延伸的多個(gè)突出部分；并且所述屏障的所述第一部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第一層；并且所述屏障的所述第一部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第一層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分具有多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域，所述第二部分的所述多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域形成延伸到所述室中的多個(gè)凹進(jìn)部分；并且所述屏障的所述第一部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第一層；并且所述屏障的所述第二部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第二層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分具有形成從所述室向外延伸的多個(gè)突出部分的多個(gè)突出區(qū)域，所述屏障的所述第二部分具有形成延伸到所述室中的多個(gè)凹進(jìn)部分的多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域，并且所述屏障的所述第二部分具有形成從所述室向外延伸的多個(gè)突出部分的多個(gè)突出區(qū)域；并且所述屏障的所述第一部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第一層，所述屏障的所述第二部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第二層，并且所述屏障的所述第一部分的所述凹進(jìn)區(qū)域與所述屏障的所述第二部分的所述突出區(qū)域相對(duì)地定位。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室的一部分具有波狀的截面構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述凹進(jìn)區(qū)域具有規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述規(guī)律地重復(fù)格局是基于方網(wǎng)格的。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述抗拉部件是織物抗拉部件。

在一種實(shí)施方式中，本發(fā)明提供了一種具有鞋底結(jié)構(gòu)的鞋類物品，其中所述鞋底結(jié)構(gòu)中包含有如前所述的流體填充室。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室從所述鞋類的腳跟區(qū)域延伸到所述鞋類的足前部區(qū)域。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述凹進(jìn)區(qū)域延伸經(jīng)過所述鞋類的足前部區(qū)域。

在另一種構(gòu)造中，流體填充室包括外部屏障和抗拉部件。外部屏障由限定了內(nèi)部空腔的聚合物材料形成。屏障具有限定第一表面的第一部分以及限定第二表面的相對(duì)的第二部分。屏障的第一部分具有固定到第一層的多個(gè)結(jié)合區(qū)域和未固定到第一層的多個(gè)未結(jié)合區(qū)域?？估考挥趦?nèi)部空腔內(nèi)，并在屏障的第一部分和屏障的第二部分之間延伸。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述多個(gè)結(jié)合區(qū)域的總面積超出所述第一層的整個(gè)面積的一半。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室的所述第二部分具有固定到所述第二層的多個(gè)結(jié)合區(qū)域。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室的所述第二部分具有未固定到所述第二層的多個(gè)未結(jié)合區(qū)域。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述結(jié)合區(qū)域與所述屏障的所述第二部分的所述未結(jié)合區(qū)域相對(duì)地定位。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分具有未固定到所述第一層的多個(gè)未結(jié)合區(qū)域，所述屏障的所述第二部分具有固定到所述第二層的多個(gè)結(jié)合區(qū)域，并且所述屏障的所述第二部分具有未固定到所述第二層的多個(gè)未結(jié)合區(qū)域；并且所述屏障的所述第一部分的所述結(jié)合區(qū)域與所述屏障的所述第二部分的所述未結(jié)合區(qū)域相對(duì)地定位。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室的一部分具有波狀的截面構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述結(jié)合區(qū)域具有規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述規(guī)律地重復(fù)格局是基于方網(wǎng)格的。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述抗拉部件是間隔織物。

在一種實(shí)施方式中，本發(fā)明提供了一種具有鞋底結(jié)構(gòu)的鞋類物品，其中所述鞋底結(jié)構(gòu)中包含有如前所述的流體填充室。

在又一種構(gòu)造中，流體填充室包括外部屏障和抗拉部件。外部屏障由限定了內(nèi)部空腔的聚合物材料形成。屏障具有限定第一表面的第一部分以及限定第二表面的相對(duì)的第二部分。屏障的第一部分具有形成延伸到室中的多個(gè)凹進(jìn)部分的多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域和形成從室向外延伸的多個(gè)突出部分的多個(gè)突出區(qū)域。屏障的第二部分具有形成延伸到室中的多個(gè)凹進(jìn)部分的多個(gè)凹進(jìn)區(qū)域和形成從室向外延伸的多個(gè)突出部分的多個(gè)突出區(qū)域。抗拉部件位于內(nèi)部空腔內(nèi)，并在屏障的第一部分和屏障的第二部分之間延伸。屏障的第一部分的凹進(jìn)部分和突出部分具有第一規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造，并且屏障的第二部分的凹進(jìn)部分和突出部分具有第二規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述凹進(jìn)部分與所述屏障的所述第二部分的所述突出部分相對(duì)地對(duì)齊。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述第一規(guī)律地重復(fù)格局與第一方網(wǎng)格對(duì)齊，并且所述第二規(guī)律地重復(fù)格局與第二方網(wǎng)格對(duì)齊。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第一層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，固定到所述第一層的所述凹進(jìn)區(qū)域的所述部分在多個(gè)區(qū)域中固定到所述第一層，所述多個(gè)區(qū)域的總面積超出所述第一層的整個(gè)面積的一半。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第一層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分的每個(gè)凹進(jìn)區(qū)域的至少一部分固定到所述第二層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分的每個(gè)突出區(qū)域的至少一部分未固定到所述第二層。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述抗拉部件是間隔織物。

在一種實(shí)施方式中，本發(fā)明提供了一種具有鞋底結(jié)構(gòu)的鞋類物品，其中所述鞋底結(jié)構(gòu)中包含有如前所述的流體填充室。

在再一種構(gòu)造中，流體填充室包括外部屏障和抗拉部件。外部屏障由限定了內(nèi)部空腔的聚合物材料形成。屏障具有限定第一表面的第一部分以及限定第二表面的相對(duì)的第二部分。屏障的第一部分具有與第一層接觸的多個(gè)接觸區(qū)域和與第一層分開的多個(gè)分開區(qū)域?？估考挥趦?nèi)部空腔內(nèi)，并在屏障的第一部分和屏障的第二部分之間延伸。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述接觸區(qū)域的總面積超出所述第一層的整個(gè)面積的一半。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第二部分具有與所述第二層接觸的多個(gè)接觸區(qū)域，以及與所述第二層分開的多個(gè)分開區(qū)域。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述接觸區(qū)域與所述屏障的所述第二部分的所述分開區(qū)域相對(duì)地定位。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述室的一部分具有波狀的截面構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述屏障的所述第一部分的所述接觸區(qū)域具有規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述規(guī)律地重復(fù)格局是基于方網(wǎng)格的。

在一個(gè)實(shí)施方案中，所述抗拉部件是間隔織物。

在一種實(shí)施方式中，本發(fā)明提供了一種具有鞋底結(jié)構(gòu)的鞋類物品，其中所述鞋底結(jié)構(gòu)中包含有如前所述的流體填充室。

本發(fā)明的新穎性特征化方面的優(yōu)點(diǎn)和特征在所附權(quán)利要求中被具體指出。然而，為了得到對(duì)新穎性的優(yōu)點(diǎn)和特征的增進(jìn)理解，可以參照以下描述性的主題以及附圖，附圖描述并圖示出與本發(fā)明相關(guān)的不同的構(gòu)造和概念。

附圖描述

當(dāng)結(jié)合附圖閱讀時(shí)，之前的概述和以下的詳述將被更好地理解。

圖1是包含流體填充室的鞋類物品的外側(cè)正視圖。

圖2是鞋類物品的內(nèi)側(cè)正視圖。

圖3是室的透視圖。

圖4是室的分解透視圖。

圖5是室的頂部平面圖。

圖6是室的底部平面圖。

圖7是室的外側(cè)正視圖。

圖8是室的內(nèi)側(cè)正視圖。

圖9A-9C是如圖5中由剖面線9A-9A至9C-9C所限定的流體填充室的截面圖。

圖10是可被用于在制造室的第一過程中使用的第一模具的透視圖。

圖11A-11C是第一模具的側(cè)視圖，描繪了用于制造室的第一過程中的步驟。

圖12A-12C是如圖11A-11C中由剖面線12A-12A至12C-12C所限定的第一模具的示意性截面圖，描繪了用于制造室的第一過程中的步驟。

圖13是可被用于在制造室的第二過程中使用的第二模具的透視圖。

圖14A-14D是第二模具的側(cè)視圖，描繪了用于制造室的第二過程中的步驟。

圖15A-15D是如圖14A-14D中由剖面線15A-15A至15D-15D所限定的第二模具的示意性截面圖，描繪了用于制造室的第二過程中的步驟。

圖16A-16D是與圖5對(duì)應(yīng)的并且描繪了室的其他構(gòu)造的頂部平面圖。

圖17A-17D是與圖9B對(duì)應(yīng)的并且描繪了室的其他構(gòu)造的截面圖。

圖18A-18B是與圖9B對(duì)應(yīng)的并且描繪了室的其他構(gòu)造的截面圖。

圖19A-19C是與圖5對(duì)應(yīng)的并且描繪了室的其他構(gòu)造的頂部平面圖。

圖20A-20C是與圖5對(duì)應(yīng)的并且描繪了室的其他構(gòu)造的頂部平面圖。

圖21是與圖12C對(duì)應(yīng)的并且描繪了第一模具的其他構(gòu)造的示意性截面圖。

圖22A-22E是與圖12A對(duì)應(yīng)的并且描繪了第一模具的其他構(gòu)造的示意性截面圖。

圖23A-23C是包含流體填充室的其他物品的透視圖。

詳述

以下討論和附圖公開了流體填充室的多種構(gòu)造和用于制造室的方法。雖然室已經(jīng)參照具有適合于跑步的構(gòu)造的鞋類進(jìn)行了公開，但是與室相關(guān)的概念可應(yīng)用于各種運(yùn)動(dòng)鞋類類型，例如包括籃球鞋、交叉訓(xùn)練鞋、橄欖球鞋、高爾夫鞋、徒步旅行鞋和靴子、滑雪和滑雪板鞋、足球鞋、網(wǎng)球鞋和步行鞋。與室相關(guān)的概念還可以與通常被認(rèn)為是非運(yùn)動(dòng)的鞋類類型一起使用，包括禮服鞋、拖鞋和涼鞋。除了鞋類以外，室可以結(jié)合到其他類型的服飾和運(yùn)動(dòng)器械，包括頭盔、手套和用于運(yùn)動(dòng)例如橄欖球和曲棍球的保護(hù)襯墊。類似的室還可以結(jié)合到墊子以及家庭物品和工業(yè)產(chǎn)品中所使用的其他可壓縮結(jié)構(gòu)。因此，與本文所公開的概念結(jié)合的室可以與各種產(chǎn)品一起使用。

一般鞋類結(jié)構(gòu)

圖1和2中描繪的鞋類物品10包括鞋面20和鞋底結(jié)構(gòu)30。為參照目的，如圖1和2中所示，鞋類10可分為三個(gè)一般區(qū)域：足前部區(qū)域(forefoot region)11、足中段區(qū)域12和腳跟區(qū)域13。鞋類10還包括外側(cè)面14和內(nèi)側(cè)面15。足前部區(qū)域11一般包括鞋類10的與腳趾和將跖骨與趾骨連接的關(guān)節(jié)對(duì)應(yīng)的部分。足中段區(qū)域12一般包括鞋類10的與足弓區(qū)域?qū)?yīng)的部分。腳跟區(qū)域13一般包括與腳的后部部分包括跟骨對(duì)應(yīng)的鞋類10的部分。外側(cè)面14和內(nèi)側(cè)面15延伸穿過區(qū)域11-13中的每一個(gè)區(qū)域并與鞋類10的相對(duì)側(cè)對(duì)應(yīng)。區(qū)域11-13和側(cè)面14-15不旨在劃分鞋類10的精確區(qū)域。而是，區(qū)域11-13和側(cè)面14-15旨在表示鞋類10的一般區(qū)域以有助于以下討論。除了關(guān)于鞋類10討論之外，區(qū)域11-13和側(cè)面14-15還可關(guān)于其各個(gè)元件，例如鞋面20和鞋底結(jié)構(gòu)30并且關(guān)于足部自身討論。

鞋面20被描繪為具有包含多種材料元件(例如紡織品、泡沫、皮革和合成皮革)的實(shí)質(zhì)上傳統(tǒng)的構(gòu)造，其中多種材料元件被縫合或粘性地結(jié)合在一起以形成用于固定地且舒適地接納足部的內(nèi)部空腔。材料元件可以關(guān)于鞋面20被選擇和定位，以選擇地提供例如耐久性、氣透性、耐磨性、柔性和舒適性的性能。腳跟區(qū)域13中的腳踝開口21提供通向內(nèi)部空腔的入口。另外，鞋面20可包括以傳統(tǒng)方式所使用的鞋帶22，以調(diào)節(jié)內(nèi)部空腔的尺寸，從而將足部固定在內(nèi)部空腔內(nèi)且有助于足部進(jìn)入內(nèi)部空腔和從內(nèi)部空腔離開。鞋帶22可延伸穿過鞋面20中的孔，并且鞋面20的舌狀部分可在內(nèi)部空腔和鞋帶22之間延伸?？紤]到本申請(qǐng)的各個(gè)方面主要涉及鞋底結(jié)構(gòu)30，鞋面20可展示以上討論的一般構(gòu)造或?qū)嵺`中任何其他傳統(tǒng)或非傳統(tǒng)鞋面的一般構(gòu)造。因此，鞋面20的整體結(jié)構(gòu)可以明顯地變化。

鞋底結(jié)構(gòu)30固定到鞋面20并具有在鞋面20和地面之間延伸的構(gòu)造。因此，實(shí)際上，鞋底結(jié)構(gòu)30被定位在足部和地面之間延伸。除了減弱地面反作用力(即向足部提供緩沖)外，鞋底結(jié)構(gòu)30還可提供牽引力、提供穩(wěn)定性并限制各種足部運(yùn)動(dòng)，例如內(nèi)轉(zhuǎn)。

鞋底結(jié)構(gòu)30的主要元件為鞋底夾層31和鞋外底32。鞋底夾層31可以由封裝流體填充室33的聚合物泡沫材料，例如聚氨酯或乙烯醋酸乙烯共聚物形成。除了聚合物泡沫材料和室33以外，鞋底夾層31可包含增強(qiáng)鞋類10的舒適性、性能或地面反作用力減弱特性的一個(gè)或多個(gè)其他的鞋類元件，包括板、調(diào)節(jié)器、耐久元件或運(yùn)動(dòng)控制部件。在鞋類10的某型構(gòu)造中可能不存在的鞋外底32固定到鞋底夾層31的下表面，并且可以由提供用于接合地面的耐用及抗磨表面的橡膠材料形成。另外，鞋外底32還可以是有紋理的以增強(qiáng)鞋類10和地面之間的牽引(即摩擦)性能。鞋底結(jié)構(gòu)30還可以包含鞋內(nèi)底或鞋墊，鞋內(nèi)底或鞋墊通過在鞋面20的空腔中并臨近足部的足底(下部)表面定位，以增強(qiáng)鞋類10的舒適性。

室構(gòu)造

室33以適合用于鞋類應(yīng)用的原始構(gòu)造被分別描繪在圖3-9C中。室33具有大體平坦的構(gòu)造，并且當(dāng)被包含到鞋類10中時(shí)，室33對(duì)應(yīng)于鞋底夾層31的腳跟區(qū)域13。雖然鞋底夾層31的聚合物泡沫材料被描繪為形成鞋底夾層31的側(cè)壁，但是室33可以暴露在側(cè)面14-15中的任一個(gè)或兩者上，以在鞋類10的一些構(gòu)造中形成側(cè)壁的一部分。當(dāng)足部位于鞋面20內(nèi)時(shí)，室33在足部的腳后跟區(qū)域下方延伸，以在各種走動(dòng)運(yùn)動(dòng)，例如跑步和步行期間，減弱當(dāng)鞋底結(jié)構(gòu)30被壓縮在足部和地面之間時(shí)產(chǎn)生的地面反作用力。在其他構(gòu)造中，室33可具有可選擇的范圍，例如在足部的足前部區(qū)域下方延伸，或者在基本所有的足部下方延伸。

室33的主要元件是屏障40和抗拉部件50。屏障40(a)形成室33的外部，(b)限定容納加壓流體和抗拉部件50的內(nèi)部空腔，以及(c)提供用于將加壓流體保持在室33內(nèi)的耐用的密封屏障。屏障40的聚合物材料包括朝著鞋面20定向的上部屏障部分41和朝著鞋外底32定向的相對(duì)的下部屏障部分42，以及圍繞室33的周邊并在屏障部分41和42之間延伸的側(cè)壁屏障部分43?？估考?0定位在內(nèi)部空腔內(nèi)并包括上部抗拉層51、相對(duì)的下部抗拉層52以及在抗拉層51和52之間延伸的多個(gè)連接部件53。上部抗拉層51固定到上部屏障部分41的內(nèi)表面，并且下部抗拉層52固定到下部屏障部分42的內(nèi)表面。雖然以下進(jìn)行了更詳細(xì)的討論，但是粘性結(jié)合或熱結(jié)合中的任一種可被用于將抗拉部件50固定到屏障40。

多個(gè)過程可被用于制造室33，其中的兩個(gè)將在以下更詳細(xì)地討論。通常，制造過程包括(a)將形成屏障部分41-43的一對(duì)聚合物片材固定到抗拉部件50的相對(duì)側(cè)(即，固定到抗拉層51和52)，以及(b)形成連接聚合物片材的周邊并且可以圍繞側(cè)壁屏障部分43延伸的周邊結(jié)合部44。流體然后可被注入內(nèi)部空腔中并被加壓。加壓流體在屏障40上施加向外的力，其旨在分離屏障部分41和42。然而，抗拉部件50被固定到屏障部分41和42中的每一個(gè)以在加壓時(shí)保持室33的所要形狀。更具體地，延伸穿過內(nèi)部空腔的連接部件53通過加壓流體對(duì)屏障40的向外的力而處于受拉狀態(tài)，從而防止了屏障40向外膨脹，并引起室33保持所要形狀。鑒于周圍結(jié)合部44連接聚合物片材以形成防止流體逃逸的密封，抗拉部件50防止屏障40由于流體的壓力而向外膨脹或以其他方式擴(kuò)張。即，抗拉部件50充分地限制了室33的膨脹以保持屏障部分41和42的所要形狀。適當(dāng)構(gòu)造的抗拉部件50可具有任何范圍的構(gòu)造，包括Dua的美國專利申請(qǐng)第12/123,612號(hào)、Rapaport等人的美國專利申請(qǐng)第12/123,646號(hào)、以及Peyton的美國專利申請(qǐng)第12/630,642號(hào)中公開的構(gòu)造范圍。

另外，上部屏障部分41和下部屏障部分42兩者均被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。如以下更詳細(xì)討論的，第一區(qū)域46可以是延伸到室33中的凹進(jìn)區(qū)域，并且第二區(qū)域48可以是從室33向外延伸的突出區(qū)域。通過將屏障40形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48，室33的一個(gè)或多個(gè)性能可被改變，例如室33的柔性、硬度、剛度、抗拉響應(yīng)、壓縮性或力減弱特性。第一區(qū)域46和第二區(qū)域48還可以增強(qiáng)室33的美觀質(zhì)量，例如室33的感觀。另外，將屏障40形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可改變室33的緩沖性能的分布。

室33內(nèi)的流體可以在2和350千帕斯卡(即，大約51磅/平方英寸)或更多之間被加壓。除了空氣和氮?dú)庖酝?，流體可包括在授予Rudy的美國專利第4,340,626號(hào)中公開的任何氣體。在一些構(gòu)造中，室33可包含允許個(gè)人調(diào)節(jié)流體壓力的閥或其他結(jié)構(gòu)。另外，室33可被包含到流體系統(tǒng)中，類似于授予Dojan等人的美國專利第7,409,779號(hào)中公開的流體系統(tǒng)，其根據(jù)例如跑步類型或穿戴者的重量改變屏障40內(nèi)的壓力。

各種各樣的聚合物材料可被用于屏障40。在選擇用于屏障40的材料時(shí)，可以考慮材料的工程特性(例如，抗拉強(qiáng)度、伸展特性、疲勞特征、動(dòng)態(tài)模數(shù)和損耗角正切)以及用于防止被屏障40包含的流體擴(kuò)散的材料性能。例如，當(dāng)由熱塑性氨基鉀酸酯形成時(shí)，屏障40可具有大約1.0毫米的厚度，但是厚度可以在例如從0.25至2.0毫米或更多的范圍內(nèi)。除了熱塑性氨基鉀酸酯以外，可適用于屏障40的聚合物材料的示例包括聚氨酯、聚酯、聚酯型聚氨酯和聚醚聚氨酯。屏障40還可以由如在授予Mitchell等人的美國專利第5,713,141和5,952,065號(hào)中公開的包括熱塑性聚氨酯和乙烯-乙烯醇共聚物的交替層的材料形成。還可以使用該材料上的改變，其中中間層由乙烯-乙烯醇共聚物形成，鄰近中間層的層由熱塑性聚氨酯形成，并且外層由熱塑性聚氨酯和乙烯-乙烯醇共聚物的重新組合的材料形成。用于屏障40的另一適當(dāng)材料是如在授予Bonk等人的美國專利第6,082,025和6,127,026號(hào)中公開的柔性微表層隔膜，其包括氣體屏障材料和彈性材料的交替層。另外的適當(dāng)?shù)牟牧瞎_在授予Rudy的美國專利第4,183,156和4,219,945號(hào)中。其他適當(dāng)?shù)牟牧习òw材料的熱塑性膜，例如在授予Rudy的美國專利第4,936,029和5,042,176號(hào)中公開的，以及包括聚酯型多元醇的聚氨酯，例如在授予Bonk等人的美國專利第6,013,340、6,203,868和6,321,465號(hào)中公開的。

為了有助于抗拉部件50和屏障40之間的結(jié)合，聚合物附加層可被用于抗拉層51和52中的每一個(gè)。加熱時(shí)，附加層軟化、熔化或以其他方式開始變化狀態(tài)，從而與屏障部分41和42的接觸導(dǎo)致屏障40和附加層中每一個(gè)中的材料混合或以其他方式連接在一起。從而，冷卻時(shí)，附加層被永久地與屏障40連接，從而將抗拉部件50與屏障40連接在一起。在一些構(gòu)造中，如在授予Thomas等人的美國專利第7,070,845號(hào)中公開的，熱塑性絲或帶可以出現(xiàn)在抗拉層51和52中以有助于與屏障40的結(jié)合，或者粘結(jié)劑可被用于固定屏障40和抗拉部件50。

第一區(qū)域和第二區(qū)域構(gòu)造

制造過程期間，能量(例如射頻能量或熱量形式的)和壓力可以改變抗拉部件50的結(jié)構(gòu)以產(chǎn)生造型。即，能量和壓力可改變連接部件53的有效長度。更具體地，能量、壓力或兩者可以(a)使連接部件53的部分變形，或者(b)引起屏障40或附加層的聚合物材料滲入抗拉部件50，從而實(shí)際上縮短連接部件53的長度。根據(jù)作用的能量和壓力的程度，在整個(gè)變形和聚合物材料的滲入期間，連接部件53可以被實(shí)際上縮短。

如圖3-9C中所描繪的，上部屏障部分41和下部屏障部分42兩者被形成為包括位于屏障部分41和42中的方形區(qū)域中的多個(gè)第一區(qū)域46。第一區(qū)域46可以是延伸到室33中的凹進(jìn)部分。因此，第一區(qū)域46可以是上部屏障部分41、下部屏障部分42或兩者的凹進(jìn)區(qū)域。上部屏障部分41的第一區(qū)域46的至少一部分可以固定到上部抗拉層51。并且，下部屏障部分42的第一區(qū)域46的至少一部分可以固定到下部抗拉層52。鄰近或者與第一區(qū)域46對(duì)齊的連接部件53的部分可以比抗拉部件50的其他連接部件53具有更短的有效長度，這可能是因?yàn)樽饔玫哪芰?、作用的壓力或兩者?dǎo)致的。另外，制造過程期間在第一區(qū)域46處施加到屏障40(例如，通過模制)的輪廓或形狀可作用于第一區(qū)域46的向內(nèi)延伸部分。

類似地，上部屏障部分41和下部屏障部分42兩者還可被形成為包括多個(gè)第二區(qū)域48。第二區(qū)域48可以是從室33向外延伸的突出部分。因此，第二區(qū)域48可以是上部屏障部分41或下部屏障部分42中任一個(gè)的突出區(qū)域。上部屏障部分41的第二區(qū)域48的部分可被不固定到上部抗拉層51。并且，下部屏障部分42的第二區(qū)域48的部分可被不固定到下部抗拉層52。換句話說，鄰近或者與第二區(qū)域48對(duì)齊的抗拉部件50的部分可以不延伸到第二區(qū)域48的部分。通過屏障40內(nèi)的加壓流體施加在屏障40上的向外的力可導(dǎo)致第二區(qū)域48的部分向外延伸到比抗拉部件50固定到的屏障40的區(qū)域更大的程度。另外，在第二區(qū)域48處通過模制作用到屏障40的輪廓或形狀可有助于第二區(qū)域48的向外延伸。

如圖4-6和9A-9C中所描繪的，上部屏障部分41的第一區(qū)域46與下部屏障部分42的第二區(qū)域48相對(duì)地定位，并且上部屏障部分41的第二區(qū)域48與下部屏障部分42的第一區(qū)域46相對(duì)地定位。即，第一區(qū)域46基本與第二區(qū)域48相對(duì)地定位在室33上。

在一些構(gòu)造中，第一區(qū)域46可以是結(jié)合或以其他方式連接到抗拉部件50的屏障40的部分。因此，第一區(qū)域46可以是上部屏障部分41、下部屏障部分42或兩者的結(jié)合區(qū)域。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的第一區(qū)域46可以固定到上部抗拉層51，而下部屏障部分42的第一區(qū)域46可被固定到下部抗拉層52。

另外，在一些構(gòu)造中，第二區(qū)域48可以是結(jié)合或以其他方式連接到抗拉部件50的屏障40的部分。因此，第二區(qū)域48可以是上部屏障部分41、下部屏障部分42或兩者的未結(jié)合區(qū)域。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的第二區(qū)域48可處于未固定到上部抗拉層51的狀態(tài)，而下部屏障部分42的第二區(qū)域48可處于未固定到下部抗拉層52的狀態(tài)。

在一些構(gòu)造中，第一區(qū)域46的部分可以在多個(gè)區(qū)域中被固定到上部抗拉層51或下部抗拉層52。在這些構(gòu)造中，多個(gè)區(qū)域的總面積可超出上部抗拉層51、下部抗拉層52中的任一個(gè)或兩者的整個(gè)面積的一半。在一些構(gòu)造中，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局可以僅與上部抗拉層51或下部抗拉層52中的僅一部分對(duì)齊。在這些構(gòu)造中，第一區(qū)域46的部分可以在多個(gè)區(qū)域中被固定到上部抗拉層51或下部抗拉層52，并且這些多個(gè)區(qū)域的總面積可超出與第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局相關(guān)的抗拉層51或52的面積的一半。

在一些構(gòu)造中，第一區(qū)域46可以是屏障40的部分，在該部分中屏障40接觸抗拉部件50。因此，第一區(qū)域46可以是上部屏障部分41、下部屏障部分42或兩者的接觸區(qū)域。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的第一區(qū)域46可以緊鄰或與上部抗拉層51接觸，而下部屏障部分42的第一區(qū)域46可以緊鄰或與下部抗拉層52接觸。

另外，在這些構(gòu)造中，第二區(qū)域48可以是與抗拉部件50分開的屏障40的部分。因此，第二區(qū)域48可以是上部屏障部分41、下部屏障部分42或兩者的分開區(qū)域。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的第二區(qū)域48可以不緊鄰或不與上部抗拉層51接觸，或者可以以其他方式與上部抗拉部件51分開，而下部屏障部分42的第二區(qū)域48可以不緊鄰或不與下部抗拉層52接觸，或者可以以其他方式與下部抗拉部件52分開。

如圖9A-9C中所描繪的，上部屏障部分41的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域可具有在延伸到室33中和從室33中向外延伸之間正弦地交替的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。該正弦形的變化可以在上部屏障部分41上的多于一個(gè)的方向上延伸。換句話說，延伸到室33中的上部屏障部分41的第一區(qū)域46和從室33中向外延伸的上部屏障部分41的第二區(qū)域48可以以類似于裝蛋箱材料表面的方式在上部屏障部分41的表面上延伸。同時(shí)，下部屏障部分42的對(duì)齊區(qū)域中的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域可具有與上部屏障部分41的第一區(qū)域46相對(duì)定位的第二區(qū)域48，并且還可具有與上部屏障部分41的第二區(qū)域48相對(duì)定位的第一區(qū)域46。接著，下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48自身可以在延伸到室33中和從室33中向外延伸之間正弦地變化，并且可以在穿過下部屏障部分42的多于一個(gè)的方向上正弦地變化。因此，室33的各種區(qū)域可具有波狀的截面構(gòu)造。

如圖3-6中所描繪的，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48具有棋盤形或按規(guī)律重復(fù)的格局的構(gòu)造。更具體地，上部屏障部分41的第一區(qū)域46具有基本八邊形的構(gòu)造，其每一個(gè)在四邊上與其他第一區(qū)域46毗連，并且在另外四邊上與第二區(qū)域48毗連。另外，第一區(qū)域46形成上部屏障部分41被結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。同時(shí)，上部屏障部分41的第二區(qū)域48具有基本方形的構(gòu)造，其每一個(gè)在四邊上與第一區(qū)域46毗連。第一區(qū)域46和第二區(qū)域48中的每一個(gè)還可具有各種其他形狀，其組合以覆蓋室30的表面。例如，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可具有圓形形狀、橢圓形形狀、細(xì)長形狀、三角形形狀、五邊形形狀、梯形形狀或任何其他規(guī)則或不規(guī)則的形狀。另外，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的形狀在上部屏障部分41和上部屏障部分42上都是可以變化的。

基本八邊形的第一區(qū)域46和基本方形的第二區(qū)域48以第一規(guī)律重復(fù)的格局在上部屏障部分41上規(guī)則交替。類似地，上部屏障部分42的第一區(qū)域46具有基本八邊形的構(gòu)造，并且上部屏障部分42的第二區(qū)域48具有基本方形的構(gòu)造，并且上部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以第二規(guī)律重復(fù)的格局在下部屏障部分42上規(guī)則交替。如圖5-6中所描繪的，第一規(guī)律重復(fù)的格局是基于第一方網(wǎng)格并與其對(duì)齊，并且第二規(guī)律重復(fù)的格局是基于第二方網(wǎng)格并與其對(duì)齊。另外，因?yàn)榈谝粎^(qū)域46基本與第二區(qū)域48相對(duì)地定位在室33上，所以第二規(guī)律重復(fù)的格局相對(duì)于第一規(guī)律重復(fù)的格局實(shí)質(zhì)上具有180度的偏移或者相差。

如圖4和9A-9C中所描繪的，抗拉部件50是織物抗拉部件。在一些構(gòu)造中，抗拉部件50具有間隔織物的構(gòu)造，其包括上部抗拉層51、相對(duì)的下部抗拉層52以及在抗拉層51和52之間延伸的多個(gè)連接部件53。在這些構(gòu)造中，上部抗拉層51、下部抗拉層52和連接部件53可被形成為包括織物元件。

第一制造過程

各種制造過程可被用于形成室33。適合用于形成室33的一些制造過程可使用如圖10中所描繪的第一模具60。例如，熱形成過程可使用第一模具60以形成室33。第一模具60具有上部模具部分61和下部模具部分62。上部模具部分61和下部模具部分62兩者具有第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68。

現(xiàn)將討論如圖11A-12C中所描繪的，用于使用第一模具60形成室33中使用的適當(dāng)?shù)闹圃爝^程。通常，過程包括(a)通過焊接或其他方式連接上部聚合物層和下部聚合物層以限定內(nèi)部空腔、將抗拉部件50定位在內(nèi)部空腔內(nèi)、并且形成將抗拉部件50密封在內(nèi)部空腔內(nèi)的周邊結(jié)合部44，來形成室33的前身，(b)膨脹室33的前身，以及(c)通過利用第一模具區(qū)域66向室33的前身施加至少第一程度的壓力并且利用第二模具區(qū)域68施加至少第二程度的壓力，分別在上部屏障部分41、上部屏障部分42或兩者中形成第一區(qū)域46和第二區(qū)域48，來利用第一模具60形成室33。

首先，如上大體討論的，在形成第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以前，并獨(dú)立于使用第一模具60，形成室33的前身。用于形成室33的前身的適當(dāng)過程公開在例如Rapaport的美國專利申請(qǐng)第12/123,646號(hào)中。

一旦室33的前身已經(jīng)形成并膨脹，則第一模具60就被用于壓縮室33的前身，并在室33的前身上形成第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。參照?qǐng)D10，所繪第一模具60包括上部模具部分61和相對(duì)的下部模具部分62。上部模具部分61和下部模具部分62兩者具有限定多個(gè)第一模具區(qū)域66和多個(gè)第二模具區(qū)域68的表面。第一模具區(qū)域66可以是從上部模具部分61和下部模具部分62向外延伸的突出部分，并且第二模具區(qū)域68可以是延伸到上部模具部分61和下部模具部分62中的凹進(jìn)部分。

上部模具部分61的第一模具區(qū)域66與下部模具部分62的第二模具區(qū)域68相對(duì)地定位，并且上部模具部分61的第二模具區(qū)域68與下部模具部分62的第一模具區(qū)域66相對(duì)地定位。即，第一模具區(qū)域66基本與第二模具區(qū)域68相對(duì)地定位在模具部分61和62上。

如圖10-12C中所描繪的，上部模具部分61的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域可具有在從上部模具部分61向外延伸和延伸到上部模具部分61中之間正弦地交替的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68。該正弦形的變化可以在上部屏障部分41上的多于一個(gè)的方向上延伸。換句話說，從上部模具部分61向外延伸的第一模具區(qū)域66和延伸到上部模具部分61中的第二模具區(qū)域68可以以類似于裝蛋箱材料表面的方式在上部模具部分41上延伸。同時(shí)，下部模具部分62的一個(gè)或多個(gè)對(duì)齊區(qū)域可具有與上部模具部分61的第一模具區(qū)域66相對(duì)定位的第二模具區(qū)域68，并且還可具有與上部模具部分61的第二模具區(qū)域68相對(duì)定位的第一模具區(qū)域66。

模具部分61和62的表面可被限定使得當(dāng)?shù)谝荒＞?0關(guān)閉時(shí)，模具部分61和62的表面在整個(gè)表面上相互齊平地緊靠。即，當(dāng)?shù)谝荒＞?0關(guān)閉時(shí)，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的表面在模具部分61和62的所有位置處相互接觸并重疊。可選擇地，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可被限定使得當(dāng)?shù)谝荒＞?0關(guān)閉時(shí)，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在少于穿過模具部分61和62的所有位置處相互齊平地緊靠，或者在穿過模具部分61和62的一些或所有位置處相互齊平地緊靠，或者在穿過模具部分61和62的一些或所有位置處相互不緊靠。例如，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可被構(gòu)造使得當(dāng)模具部分61和62被置于一起時(shí)，在第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的中間區(qū)域之間比第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的其他區(qū)域之間具有更大的間隔。作為可選擇的示例，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可被構(gòu)造使得當(dāng)模具部分61和62被置于一起時(shí)，在第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的中間區(qū)域之間具有更小的間隔。

如圖11A和12A所示，使用第一模具60時(shí)，室33的前身首先定位在上部模具部分61和下部模具部分62之間。更特別地，上部屏障部分41朝著上部模具部分61定向，并且下部屏障部分42朝著下部模具部分62定向。

如圖11B和12B中所描繪的，在室33的前身已經(jīng)定位以后，第一模具60關(guān)閉使得室33的前身被壓縮在上部模具部分61和下部模具部分62之間。模具區(qū)域66和68的部分可將不同程度的壓縮作用到上部屏障部分41和下部屏障部分42。即，屏障部分41和42的區(qū)域可被第一模具區(qū)域66的部分更多地壓縮，并且屏障部分41和42的區(qū)域可被第二模具區(qū)域68的部分更少地壓縮。

雖然通過第一模具區(qū)域66施加到屏障部分41和42的壓縮程度可能不同于通過第二模具區(qū)域68施加到屏障部分41和42的壓縮程度，但是通過模具區(qū)域66和68兩者施加的壓縮程度可包括壓縮的共同程度。模具區(qū)域66和68可被限定為具有不同的形狀或構(gòu)造，以允許模具區(qū)域66和68向屏障部分41和42施加不同程度的壓縮，因?yàn)槟＞邊^(qū)域66和68是被限定在模具部分61和62的表面中的。換句話說，與由模具部分61和62施加的壓縮相關(guān)的壓縮的共同或全部程度可包括在由第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68兩者施加的壓縮的程度中。因此，不同程度的壓縮可以通過第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68兩者施加到室33的前身，包括壓縮的共同或全部程度。

在壓縮室33的前身中，間隙69可能存在于上部屏障部分41和上部模具部分61之間，或者在下部屏障部分42和下部模具部分62之間。例如，如圖12B中所描繪的，間隙69存在于上部屏障部分41和上部模具部分61中的第二模具區(qū)域68的部分之間。類似地，間隙69存在于下部屏障部分42和下部模具部分62中的第二模具區(qū)域68的部分之間。間隙69的存在、尺寸或范圍可以通過由第二模具區(qū)域68施加到室33的前身上的壓縮程度來構(gòu)造。例如，通過模具部分61和62施加的、包括在由第二模具區(qū)域68施加的壓縮程度中的壓縮的共同或全部程度可構(gòu)造間隙69的存在、尺寸或范圍。接著，間隙69的存在、尺寸或范圍可影響由第二模具區(qū)域68形成的第二區(qū)域48的存在、尺寸或范圍。

第一模具60可以是層壓裝置。即，上部模具部分61可以將上部屏障部分41的部件固定到上部抗拉層51。類似地，下部模具部分62可以將下部屏障部分42的部件固定到下部抗拉層52。壓縮時(shí)，射頻能量(RF能量，例如熱量)可以通過第一模具60發(fā)出，以加熱屏障部分41和42以及抗拉部件50。更特別地，射頻能量可以經(jīng)過上部模具部分61和下部模具部分62之間。經(jīng)過上部模具部分61和下部模具部分62之間的射頻能量的大小至少部分地依賴于上部模具部分61和下部模具部分62之間的間距。考慮到屏障部分41和42以及第二模具區(qū)域68之間的間隙69，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可暴露于不同大小的射頻能量。另外，如上所討論的，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可暴露于不同大小的壓力。因此，屏障40和抗拉部件50之間結(jié)合部的存在、范圍或特征在第一區(qū)域46和第二區(qū)域48之間可以是不同的。

更特別地，壓縮和加熱可導(dǎo)致上部屏障部分41的部分與上部抗拉層51結(jié)合，并且可導(dǎo)致下部屏障部分42的部分與下部抗拉層52結(jié)合。另外，由于模具區(qū)域66和68的構(gòu)造而導(dǎo)致的壓縮和射頻能量上的差別可以實(shí)際上縮短一些連接部件53的長度。更具體地，壓縮和加熱可以(a)使連接部件53的部分變形，或者(b)引起來自屏障部分41或42的部分的聚合物材料滲入抗拉部件50，從而實(shí)際上縮短壓縮和加熱最大的區(qū)域中的連接部件53的長度。根據(jù)壓縮和輻射的程度，聚合物材料的變形和滲入兩者可導(dǎo)致連接部件53的縮短。因此，作用在第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68處的壓縮和輻射可以將第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的構(gòu)造有效地賦予抗拉部件50和室33。

在一些構(gòu)造中，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可以將屏障40的不同部分壓縮到不同的程度。上部屏障部分41的較大壓縮區(qū)域的部分可以通過上部模具部分61的第一模具區(qū)域66被壓縮到第一程度的壓力。同時(shí)，上部屏障部分41的較少壓縮區(qū)域的部分可以通過上部模具部分61的第二模具區(qū)域68被壓縮到第二程度的壓力，第一程度的壓力大于第二程度的壓力。類似地，下部屏障部分42的較大壓縮區(qū)域的部分可以通過下部模具部分62的第一模具區(qū)域66壓縮到第三程度的壓力。同時(shí)，下部屏障部分42的較少壓縮區(qū)域的部分可以通過下部模具部分62的第二模具區(qū)域68壓縮到第四程度的壓力，第三程度的壓力大于第四程度的壓力。接著，由第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68施加到上部屏障部分41的壓力程度上的區(qū)別自身可不同于由第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68施加到下部屏障部分42的壓力程度。

在一些構(gòu)造中，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可以相對(duì)于模具部分61和62，或者進(jìn)入模具部分61和62中或者從其向外，具有不同的范圍。第一模具區(qū)域66的部分可具有凸形構(gòu)造，從模具部分61和62向外延伸。因此，第一模具區(qū)域66可以是上部模具部分61、下部模具部分62或兩者的凸形區(qū)域。同時(shí)，在一些構(gòu)造中，第二模具區(qū)域68的部分可具有延伸到模具部分61和62中的凹形構(gòu)造。因此，第二模具區(qū)域68可以是上部模具部分61、下部模具部分62或兩者的凹形區(qū)域。

上部模具部分61的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68具有棋盤形或規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。類似地，下部模具部分62的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68具有棋盤形或規(guī)律地重復(fù)格局的構(gòu)造。如圖10中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在上部模具部分61上以第一規(guī)律地重復(fù)格局規(guī)則地交替變化。類似地，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在下部模具部分62上以第二規(guī)律地重復(fù)格局規(guī)則地交替變化。在第一示例性制造過程中，第一規(guī)律重復(fù)的格局是基于第一方網(wǎng)格并與其對(duì)齊，并且第二規(guī)律重復(fù)的格局是基于第二方網(wǎng)格并與其對(duì)齊。另外，因?yàn)榈谝荒＞邊^(qū)域66基本與第二模具區(qū)域68相對(duì)地定位在模具60上，所以第二規(guī)律重復(fù)的格局相對(duì)于第一規(guī)律重復(fù)的格局實(shí)質(zhì)上具有180度的偏移或者相差。

與第一模具區(qū)域66對(duì)齊的上部聚合物屏障41的至少一部分可被固定到上部抗拉層51，而與第二模具區(qū)域68對(duì)齊的上部聚合物屏障41的至少一部分可不被固定到上部抗拉層51。類似地，與第一模具區(qū)域66對(duì)齊的下部聚合物屏障42的至少一部分可被固定到下部抗拉層52，而與第二模具區(qū)域68對(duì)齊的下部聚合物屏障42的至少一部分可不被固定到下部抗拉屏障52。因此，在一些構(gòu)造中，上部屏障部分41的每個(gè)更大壓縮區(qū)域的至少一部分可被固定到上部抗拉層51。類似地，下部屏障部分42的每個(gè)更大壓縮區(qū)域的至少一部分可被固定到下部抗拉層52。

在一些構(gòu)造中，多個(gè)結(jié)合區(qū)域可通過第一模具60的壓縮形成在屏障部分41和42中。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的每個(gè)結(jié)合區(qū)域的至少一部分可以是延伸到上部屏障部分41中的凹進(jìn)部分。類似地，下部屏障部分42的每個(gè)結(jié)合區(qū)域的至少一部分可以是延伸到下部抗拉層52中的凹進(jìn)部分。

在一些構(gòu)造中，多個(gè)未結(jié)合區(qū)域可通過第一模具60的壓縮形成在屏障部分41和42中。在這些構(gòu)造中，上部屏障部分41的每個(gè)未結(jié)合區(qū)域的至少一部分可以是從上部屏障部分41中向外延伸的突出部分。類似地，下部屏障部分42的每個(gè)未結(jié)合區(qū)域的至少一部分可以是從下部屏障部分42中向外延伸的突出部分。

在一些構(gòu)造中，第一模具區(qū)域66可以是從模具部分61和62向外延伸的凸出部分，并且可接觸屏障部分41和42以賦予延伸到室33中的凹進(jìn)部分的第一區(qū)域46某一構(gòu)造。另外，第二模具區(qū)域68可以是延伸到模具部分61和62中的凹進(jìn)部分，并且可鄰近屏障部分41和42定位以賦予從室33中向外延伸的突出部分的第二區(qū)域48某一構(gòu)造。

如圖11C和12C中所描繪的，在壓縮室33的前身以后，第一模具60打開，具有在室33的屏障部分41和42中形成的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。第一區(qū)域46可以形成在被第一模具區(qū)域66壓縮的屏障部分41和42的部件中。類似地，第二區(qū)域48可以形成在被第二模具區(qū)域68壓縮的屏障部分41和42的部件中。因此，室33可以通過在室33的前身中形成第一區(qū)域46和第二區(qū)域48來形成。

在上述制造過程中，在室33的前身中形成周邊結(jié)合部，然后室33的前身膨脹，接著通過壓縮步驟在室33的前身中產(chǎn)生第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以形成室33。作為選擇，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以通過壓縮步驟產(chǎn)生在上部聚合物層和下部聚合物層中，然后可以形成周邊結(jié)合部以限定室33，并且室33然后可以膨脹。作為另一選擇，周邊結(jié)合部可以形成在室33的前身中，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48然后可以通過用于形成室33的壓縮步驟產(chǎn)生在室33的前身中，并且室33然后可以膨脹。換句話說，在各種實(shí)施方式中，上述制造過程中的步驟可以以任意的順序形成。

第二制造過程

適合用于形成室33的其他制造過程可以使用如圖13中所描繪的第二模具160。例如，熱形成過程可使用第二模具160以形成室33。第二模具160具有上部模具部分161和下部模具部分162。上部模具部分161具有上脊部163。下部模具部分162具有下脊部164和可移動(dòng)插入件165。上部模具部分161和可移動(dòng)插入件165兩者均具有第一模具區(qū)域166和第二模具區(qū)域168。

現(xiàn)在將討論如圖14A-15D中所描繪的用于使用第二模具160形成室33的適當(dāng)制造過程。通常，該過程包括利用第二模具160，用于(a)將抗拉部件50結(jié)合到聚合物層171和172中的每一個(gè)，(b)成形聚合物層171和172，并且(c)在聚合物層171和172之間形成周邊結(jié)合部。

最初，室33的構(gòu)件，即抗拉部件50以及聚合物層171和172中的一個(gè)或多個(gè)被加熱至有助于構(gòu)件之間結(jié)合的溫度。用于抗拉部件50以及用于形成屏障40的聚合物層171和172的具體材料，以及其被加熱的具體溫度可以是本領(lǐng)域中適用于有助于結(jié)合的任何材料和溫度。各種輻射加熱器、射頻加熱器或其他設(shè)備可被用于加熱室33的構(gòu)件。在一些制造過程中，第二模具160可被加熱使得第二模具160和室33的構(gòu)件之間的接觸將構(gòu)件溫度升高至有助于結(jié)合的水平。

加熱以后，如圖14A和15A中所描繪的，室33的構(gòu)件定位在模具部分161和162之間。為了準(zhǔn)確地定位構(gòu)件，可以使用梭形框架或其他設(shè)備。一旦定位，則模具部分161和162朝彼此移動(dòng)并開始靠近構(gòu)件，使得(a)上部模具部分161的上脊部163接觸上部聚合物層171，(b)下部模具部分162的下脊部164接觸下部聚合物層172，以及(c)聚合物層171和172開始圍繞抗拉部件50彎曲，以延伸到位于第二模具160內(nèi)的空腔中。因此，構(gòu)件相對(duì)于第二模具160定位，并且發(fā)生最初的成形和定位。

空氣可以通過模具部分161和162中的各種真空口從聚合物層171和172周圍的區(qū)域中部分地排出。排出空氣的目的是將聚合物層171和172拉向與第二模具160的各種輪廓相接觸。這確保了聚合物層171和172根據(jù)第二模具160的輪廓被正確地成形。注意到，聚合物層171和172可以伸展以圍繞抗拉部件50延伸并延伸到第二模具160中。與室33中的屏障40的厚度相比，聚合物層171和172可以呈現(xiàn)更大的厚度。聚合物層171和172的原始厚度與屏障40的最終厚度之間的差別可以因?yàn)樵跓嵝纬蛇^程的該階段期間發(fā)生的伸展而發(fā)生。

為了提供用于將聚合物層171和172拉向與第二模具160的各種輪廓相接觸的第二手段，聚合物層171和172與鄰近的抗拉部件50之間的區(qū)域可以被加壓。在該方法的準(zhǔn)備階段，注射針可以定位在聚合物層171和172之間，并且注射針可以被定位使得當(dāng)?shù)诙＞?60關(guān)閉時(shí)脊部163和164包住注射針。氣體然后可以從注射針中射出使得聚合物層171和172接合脊部163和164，從而在聚合物層171和172之間形成膨脹導(dǎo)管。氣體然后可以經(jīng)過膨脹導(dǎo)管，從而進(jìn)入并加壓最接近抗拉部件50的區(qū)域。結(jié)合真空，內(nèi)部壓力確保聚合物層171和172接觸第二模具160的不同部分。

隨著第二模具160進(jìn)一步關(guān)閉，如圖14B和15B中所描繪的，脊部163和164將聚合物層171和172結(jié)合在一起，從而形成周邊結(jié)合部44。另外，由不同彈簧175支撐的可移動(dòng)插入件165可以壓下，以在構(gòu)件上施加壓力，從而將聚合物層171和172結(jié)合到抗拉部件50。如上所討論的，附加層或熱塑性絲可被包含到抗拉部件50中，以有助于抗拉部件50以及聚合物層171和172之間的結(jié)合。通過可移動(dòng)插入件165施加在構(gòu)件上的壓力確保了附加層或熱塑性絲形成與聚合物層171和172的結(jié)合。

如圖13-15D中所描繪的，上部模具部分161和可移動(dòng)插入件165兩者具有限定多個(gè)第一模具區(qū)域146和多個(gè)第二模具區(qū)域148的表面。第一模具區(qū)域166可以是從上部模具部分161和下部模具部分162向外延伸的突出部分，并且第二模具區(qū)域168可以是延伸到上部模具部分161和下部模具部分162中的凹進(jìn)部分。如上關(guān)于第一模具60所討論的，第一模具區(qū)域166和第二模具區(qū)域168可以施加不同大小的射頻能量、不同大小的壓力或兩者。另外，彈簧175的使用可以施加共同或全部大小的壓力至第一模具區(qū)域166和第二模具區(qū)域168兩者。接著，作用在第一模具區(qū)域166和第二模具區(qū)域168上的壓縮和輻射可以實(shí)際上將第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的構(gòu)造賦予抗拉部件50和室33。

當(dāng)結(jié)合完成時(shí)，如圖14C和15C中所描繪的，第二模具160打開并且室33以及聚合物層171和172的多余部分被去除并被允許冷卻。流體可以通過膨脹導(dǎo)管173注入室33中。另外，密封過程可被用于在加壓以后密封鄰接室33的膨脹導(dǎo)管173。如圖14D和15D中所描繪的，聚合物層171和172的多余部分然后被去除，從而完成室33的制造。作為選擇，進(jìn)行膨脹和去除多余材料的順序可以顛倒。作為制造中的最后步驟，室33可被測(cè)試并且然后被包含到鞋類10的鞋底夾層31中。

其他室構(gòu)造

室33以適用于鞋類應(yīng)用的構(gòu)造分別描繪在圖3-9C中。室33可具有任何還適用于鞋類應(yīng)用的多種其他構(gòu)造。如上所討論的，并且如圖3-6中所描繪的，第一區(qū)域46可具有基本八邊形的構(gòu)造，并且第二區(qū)域48可具有基本方形的構(gòu)造。另外，如關(guān)于第一模具60的上述討論，不同大小的壓力可通過第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68兩者作用到室33，包括共同或全部大小的壓力。

例如，如上所討論的并且如圖5和9B中所描繪的，第一共同或全部大小的壓力或第一共同或全部大小的壓縮通過模具部分61和62施加以形成基本八邊形的第一區(qū)域46和基本方形的第二區(qū)域48，并且基本八邊形的第一區(qū)域46形成上部屏障部分41結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。在其他構(gòu)造中，其他的共同或全部大小的壓力可以通過模具部分61和62施加。換句話說，第一模具60在第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的變形中可被壓縮至不同的程度。然后，模制期間共同或全部大小的壓力或共同或全部大小的壓縮中的變化可以影響第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的構(gòu)造。例如，改變共同或全部大小的壓力或共同或全部大小的壓縮可導(dǎo)致連續(xù)或連接的第一區(qū)域46的形成以及不連續(xù)或不連接的第二區(qū)域48的形成。

例如，如圖16A和17A中所描繪的，在另一構(gòu)造中，對(duì)應(yīng)于第二、小量的壓縮，第一區(qū)域46具有基本方形的構(gòu)造。同時(shí)，第二區(qū)域48具有基本方形的構(gòu)造，并且形成其中上部屏障部分41未結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。

在如圖16B和17B中所描繪的又一構(gòu)造中，并且對(duì)應(yīng)于在圖16A和17A中所繪小量壓縮與圖5和9B中所繪第一大小壓縮之間的第三、中量壓縮，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48具有基本方形的構(gòu)造。因?yàn)橛稍摰谌笮〉膲嚎s形成，所以第一區(qū)域46不形成如由第一大小的壓縮形成的其中上部屏障部分51結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。類似地，第二區(qū)域48不形成如由第二大小的壓縮形成的其中上部屏障部分51未結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。更確切地，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48被形成為具有在交替穿過上部屏障部分41中的類似尺寸大小。

在如圖16C和17C中所描繪的再一構(gòu)造中，并且對(duì)應(yīng)于大于圖5和9B中所繪第三大小壓縮的第四、中量壓縮，第一區(qū)域46具有基本八邊形的構(gòu)造，并且形成其中上部屏障部分41未結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域。同時(shí)，第二區(qū)域48具有基本方形的構(gòu)造。相比于由第一大小的壓縮形成的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48，由第四大小的壓縮形成的第一區(qū)域46較小。因此，作為由第四大小的壓縮形成的、其中上部屏障部分41未結(jié)合到抗拉部件50的連續(xù)區(qū)域具有穿過上部屏障部分41的更大范圍。

在如圖16D和17D中所描繪的再一構(gòu)造中，并且對(duì)應(yīng)于第五、大量的壓縮，第一區(qū)域46具有基本方形的構(gòu)造，而沒有形成第二區(qū)域48。換句話說，在第五、大量的壓縮下，上部屏障部分41基本沒有突出區(qū)域、未結(jié)合區(qū)域、以及與抗拉部件50隔開的區(qū)域。

如圖3-9C中所描繪的，抗拉部件50包括上部抗拉層51、下部抗拉層52和連接部件53。在又一構(gòu)造中，抗拉部件50可以以其他方式構(gòu)造。例如，抗拉部件50可具有鄰近上部屏障部分41的第一表面和鄰近下部屏障部分42的第二表面，并且抗拉部件50可以在上部屏障部分41和下部屏障部分42之間延伸?？蛇x擇地，抗拉部件50可具有授予Peyton的美國專利申請(qǐng)第12/630,642號(hào)中公開的任意范圍的構(gòu)造，并且可延伸穿過室33的內(nèi)部空腔。另外，抗拉部件50或抗拉部件50的第一表面可被以第一方式結(jié)合到、連接到、或以其他方式固定到上部屏障部分41，而抗拉部件50或與第一表面相對(duì)的抗拉部件50的第二表面可被以第二方式結(jié)合到、連接到、或以其他方式固定到下部屏障部分42。

如圖3-9C中所描繪的，室33具有基本平坦的構(gòu)造。在其他構(gòu)造中，上部屏障部分41、下部屏障部分42中的任一個(gè)或兩者可被形成為具有除了第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的輪廓之外的輪廓。例如，在另一構(gòu)造中，如圖18A中所描繪的，室33具有其中室33的周邊區(qū)域是向內(nèi)彎曲或朝向彼此的輪廓，向室33提供杯狀或袋狀，例如腳跟墊狀的構(gòu)造。

如圖3-9C中所描繪的，屏障部分41和42兩者可被形成為包括第一區(qū)域46、第二區(qū)域48或兩者。在其他構(gòu)造中，第一區(qū)域46、第二區(qū)域48或兩者可被選擇地形成在上部屏障部分41或下部屏障部分42中的任一個(gè)上，并且另一屏障部分可被形成為不包括第一區(qū)域46、第二區(qū)域48或兩者。

全部或附加輪廓可被以多種方式賦予室33。例如，在如圖18B中所描繪的又一構(gòu)造中，模制期間作用到室33的周邊區(qū)域的壓縮大小大于模制期間作用到室33的中間區(qū)域的壓縮大小。換句話說，模制期間作用到室33的壓縮大小在周邊區(qū)域和中間區(qū)域之間增加。接著，室33的周邊區(qū)域中的第二區(qū)域48比起室33的中間具有更大的向外范圍，其基本沒有第二區(qū)域48。換句話說，室33具有杯狀或袋狀，例如腳跟墊狀的構(gòu)造。因此，通過控制模制期間在室33上施加的壓縮大小，室33可被給予任何范圍的輪廓，例如杯狀輪廓、漸縮輪廓和弧形輪廓。向室33賦予全部或附加輪廓或錐形的其他方式包括在授予Dua的美國專利申請(qǐng)第12/123,612中和授予Rapaport等人的美國專利申請(qǐng)第12/123,646中公開的賦予輪廓或錐形的方式范圍。

如圖3-6中所描繪的，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以與第一方網(wǎng)格對(duì)齊的第一規(guī)律地重復(fù)格局在上部屏障部分41上規(guī)則地交替，并且第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以與第二方網(wǎng)格對(duì)齊的第二規(guī)律地重復(fù)格局在下部屏障部分42上規(guī)則地交替。在其他構(gòu)造中，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以以其他方式交替。例如，如圖19A中所描繪的，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以以與六邊形網(wǎng)格對(duì)齊的規(guī)律地重復(fù)格局在上部屏障部分41上規(guī)則地交替。在另一示例中，如圖19B中所描繪的，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以以與三角形網(wǎng)格對(duì)齊的規(guī)律地重復(fù)格局在上部屏障部分41上規(guī)則地交替。在再一示例中，如圖19C中所描繪的，第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以具有不規(guī)則形狀，或者可以以不規(guī)則或不成格局的構(gòu)造在上部屏障部分41上交替。

如圖3-6中所描繪的，室33具有對(duì)應(yīng)于鞋底夾層31的腳跟區(qū)域13的構(gòu)造，其中屏障部分41和42的方形區(qū)域被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。在其他實(shí)施方式中，室33可對(duì)應(yīng)于鞋底夾層31的其他區(qū)域，并且屏障部分41和42的其他區(qū)域可被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。例如，如圖20A中所描繪的，與鞋底夾層31的腳跟區(qū)域13對(duì)應(yīng)的室33的基本全部的屏障部分41可被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。在另一示例中，如圖20B中所描繪的，與鞋底夾層31的足前部區(qū)域11對(duì)應(yīng)的室33的基本全部的屏障部分41可被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。在又一示例中，如圖20C中所描繪的，與鞋底夾層31的足前部區(qū)域11、足中段區(qū)域12和腳跟區(qū)域13對(duì)應(yīng)的室33的基本全部的屏障部分41可被形成為包括第一區(qū)域46和第二區(qū)域48。換句話說，室33可對(duì)應(yīng)于鞋底夾層31的腳跟區(qū)域13、鞋底夾層31的足前部區(qū)域11、基本全部的鞋底夾層31、或者鞋底夾層31的任一或任意多個(gè)區(qū)域。

如圖3-6和9A-9C中所描繪的，上部屏障部分41的第一區(qū)域46與下部屏障部分42的第二區(qū)域48相對(duì)地定位，并且上部屏障部分41的第二區(qū)域48與下部屏障部分42的第一區(qū)域46相對(duì)地定位。換句話說，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局關(guān)于下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局實(shí)質(zhì)上具有180度的偏移或者相差。在其他構(gòu)造中，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48可以分別關(guān)于下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48以其他方式定位。例如，如圖21中所描繪的，上部屏障部分41的第一區(qū)域46與下部屏障部分42的第一區(qū)域46相對(duì)地定位，并且上部屏障部分41的第二區(qū)域48與下部屏障部分42的第二區(qū)域48相對(duì)地定位。換句話說，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局關(guān)于下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局可以實(shí)質(zhì)上不具有偏移或者相差，并且可以替代地與下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局實(shí)質(zhì)上對(duì)齊或同相。在其他構(gòu)造中，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局可以關(guān)于下部屏障部分42的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48具有任意的偏移或者相差。

如圖3-6中所描繪的，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局的軸線與下部屏障部分42上的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局的軸線對(duì)齊。在其他構(gòu)造中，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局的格局軸線可以關(guān)于下部屏障部分42上的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局的軸線旋轉(zhuǎn)一些角度。例如，上部屏障部分41的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局可以被形成為關(guān)于下部屏障部分42上的第一區(qū)域46和第二區(qū)域48的格局具有45度的旋轉(zhuǎn)。

以上討論的室33具有適用于鞋類的構(gòu)造。除了鞋類以外，具有類似構(gòu)造的室可被包含到除了鞋類以外的產(chǎn)品中。例如，如圖23A中所描繪的，室33可以被構(gòu)造適用于包含到在瑜伽期間使用的墊子210，或用作提供用于坐在或者躺在地上的舒適表面的露營墊。在另一示例中，如圖23B中所描繪的，室33可以被構(gòu)造適用于包含到背包220的支撐帶222中。在又一示例中，如圖23C中所描繪的，室33可以被構(gòu)造適用于包含到用于與座位230一起使用的座墊232中。

其他制造過程

在第一制造過程中，如圖10-12C中所描繪的，上部模具部分61的第一模具區(qū)域66與下部模具部分62的第二模具區(qū)域68相對(duì)地定位，并且上部模具部分61的第二模具區(qū)域68與下部模具部分62的第一模具區(qū)域66相對(duì)地定位。換句話說，上部模具部分61的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的格局關(guān)于下部模具部分62的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的格局實(shí)質(zhì)上具有180度的偏移或者相差。在其他構(gòu)造中，上部模具部分61的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可以關(guān)于下部模具部分62的第二模具區(qū)域68和第一模具區(qū)域66以其他方式定位。例如，如圖21中所描繪的，上部模具部分61的第一模具區(qū)域66可以與下部模具部分62的第一模具區(qū)域66相對(duì)地定位，并且上部模具部分61的第二模具區(qū)域68可以與下部模具部分62的第二模具區(qū)域68相對(duì)地定位。換句話說，上部模具部分61的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的格局關(guān)于下部模具部分62的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的格局可以實(shí)質(zhì)上不具有偏移或者相差，并且可以替代地與下部模具部分62的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68的格局實(shí)質(zhì)上對(duì)齊或同相。

在第一制造過程中，如圖10-12C中所描繪的，模具部分61和62的第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在從模具部分61和62中向外延伸以及延伸到模具部分61和62中之間正弦地交替。在其他構(gòu)造中，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68可以在從模具部分61和62中向外延伸和延伸到模具部分61和62中之間以其他方式交替，并且在截面構(gòu)造、高度或?qū)挾壬峡梢圆煌＠?，如圖22A中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在截面上具有在從模具部分61和62中向外延伸以及延伸到模具部分61和62中之間交替的基本矩形或方形的構(gòu)造。在另一示例中，如圖22B中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在截面上具有在從模具部分61和62中向外延伸以及延伸到模具部分61和62中之間交替的基本梯形的構(gòu)造。在又一示例中，如圖22C中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在截面上具有在從模具部分61和62中向外延伸以及延伸到模具部分61和62中之間交替的基本三角形或鋸齒形的構(gòu)造。在再一示例中，如圖22D中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68在截面上具有在從模具部分61和62中向外延伸以及延伸到模具部分61和62中之間交替的非正弦但部分曲線的構(gòu)造。在又一示例中，如圖22E中所描繪的，第一模具區(qū)域66和第二模具區(qū)域68朝著模具部分61和62的周邊比朝著模具部分61和62的中心更寬。

本發(fā)明如上且在參照多種構(gòu)造的附圖中公開。然而，本公開用于的目的是提供與本發(fā)明相關(guān)的各種特征和概念的示例，不限制本發(fā)明的范圍。相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，可以對(duì)以上描述的構(gòu)造做出多種變化和修改，而不偏離如所附權(quán)利要求中限定的本發(fā)明的范圍。