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一種微流控塑料芯片注射成型模具的制作方法

文檔序號(hào):4408547閱讀:138來源:國知局
專利名稱:一種微流控塑料芯片注射成型模具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及微流控芯片的制造技術(shù),特別提供了一種專用于制作塑料芯片基材的固化模具。
本實(shí)用新型提供了一種微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于模具主要由底板(1)、模板(2)、定型板(3)、封閉板(4)、立柱(5)、螺母A(6)組合而成;其中模板(2)上表面具有芯片通道形狀的凸起;定型板(3)中部具有固定立柱的通孔A(31);封閉板(4)中部具有開口M4~M12的螺孔(41),芯片進(jìn)出口位置具有芯片進(jìn)出口形狀的通孔B(42);底板(1)、模板(2)、定型板(3)、封閉板(4)由下至上依次疊合并夾緊,立柱(4)插入封閉板(4)上的通孔B(42)中,螺母A(5)螺合于封閉板(4)的螺孔(41)中。
本實(shí)用新型微流控塑料芯片注射成型模具中,定型板(3)底部可以具有容納模板(2)的凹槽。
本實(shí)用新型微流控塑料芯片注射成型模具中,底板(1)、模板(2)、定型板(3)、封閉板(4)可以用夾具壓緊固定;或者另增加一夾緊板(7),在所述底板(1)、定型板(3)和夾緊板(7)的相對(duì)應(yīng)位置開有固定用通孔,用固定螺母B(8)壓緊固定。
本實(shí)用新型微流控塑料芯片注射成型模具中,所述底板(1)可以為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6;所述模板(2)可以為金屬材料、玻璃、單晶硅板,表面光潔度范圍為4~12;所述定型板(3)可以為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6;所述封閉板(4)可以為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6。
本實(shí)用新型與常規(guī)PDMS固化模具相比,具有下述優(yōu)點(diǎn)1省去硅基片切割等前處理步驟。
2PDMS芯片一次成型,省去切邊等后續(xù)處理。
3通過注塑加壓的方式固化PDMS芯片,同時(shí)解決了PDMS芯片表面翹曲,模具水平調(diào)節(jié),PDMS芯片形狀單一,不同批次芯片不重復(fù)等問題。
4澆口為螺口,使封閉體系和系統(tǒng)加壓一步完成。
權(quán)利要求1.一種微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于模具主要由底板(1)、模板(2)、定型板(3)、封閉板(4)、立柱(5)、螺母A(6)組合而成;其中模板(2)上表面具有芯片通道形狀的凸起;定型板(3)中部具有芯片形狀的通孔A(31);封閉板(4)中部具有開口M4~M12的螺孔(41),芯片進(jìn)出口位置具有固定立柱(5)的通孔B(42);底板(1)、模板(2)、定型板(3)、封閉板(4)由下至上依次疊合并夾緊,立柱(5)插入封閉板(4)上的通孔B(42)中,螺母A(5)螺合于封閉板(4)的螺孔(41)中。
2.按權(quán)利要求1所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于另增加一夾緊板(7);在所述底板(1)、定型板(3)和夾緊板(7)的相對(duì)應(yīng)位置開有固定用通孔,用圓定螺母B(8)壓緊固定。
3.按權(quán)利要求1所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于所述定型板(3)底部具有容納模板(2)的凹槽。
4.按權(quán)利要求1或2所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于所述底板(1)為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6。
5.按權(quán)利要求1或2所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于所述模板(2)為金屬材料、玻璃、單晶硅板,表面光潔度范圍為4~12。
6.按權(quán)利要求1或2所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于所述定型板(3)為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6。
7.按權(quán)利要求1或2所述微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于所述封閉板(4)為金屬材料、PMMA、Teflon、PC塑料板,表面光潔度范圍為3.2~6。
專利摘要一種微流控塑料芯片注射成型模具,其特征在于模具主要由底板、模板、定型板、封閉板、立柱、螺母A組合而成;模板上表面具有芯片通道形狀的凸起;定型板中部具有芯片形狀的通孔A;封閉板中部具有開口M4~M12的螺孔,芯片進(jìn)出口位置具有芯片進(jìn)出口形狀的通孔B;底板、模板、定型板、封閉板由下至上依次疊合并夾緊,立柱插入封閉板上的通孔B中,螺母A螺合于封閉板的螺孔中。用本實(shí)用新型模具成型的芯片形狀尺寸均一,不需要后續(xù)的處理。
文檔編號(hào)B29C33/00GK2550156SQ0227423
公開日2003年5月14日 申請(qǐng)日期2002年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月18日
發(fā)明者戴忠鵬, 羅勇, 林炳承 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所
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