控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備的制作方法
【專利摘要】控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，包括下料裝置，機械混粉裝置，燒結(jié)裝置，粉體氧化裝置，粉體破碎裝置，其特征在于，所述下料裝置包括：設有進料口和出料口的粉體儲罐，所述粉體儲罐側(cè)壁上設有若干第一通孔；設于所述粉體儲罐外壁上的氣室，所述氣室包括與所述粉體儲罐貼合的氣室內(nèi)壁與氣室外殼，所述氣室外殼通過進氣口與氣泵連接，所述氣室內(nèi)壁上設有若干與第一通孔對應的第二通孔，所述氣室與所述粉體儲罐可密封相對轉(zhuǎn)動；控制所述氣室轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機。本實用新型可間歇性吹落附著在粉體儲罐側(cè)壁上粉狀物料，保證粉體儲罐內(nèi)部各組分粉體之間配比的穩(wěn)定。同時，還具有間歇性疏通出料口的功能。
【專利說明】控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于物料添加混粉領域，具體涉及一種控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備。
【背景技術】
[0002]銀氧化錫是生產(chǎn)觸頭常用的材料，具有熱穩(wěn)定性好、耐電弧侵蝕及抗熔焊性能，使用范圍可達10-1000A，從而保證電器運行的可靠性，提高使用壽命，是目前用于在接觸器、繼電器及開關中代替有毒的銀氧化鎘的理想材料。
[0003]目前制備銀氧化錫的主要方法包括內(nèi)氧化法、粉末冶金法、化學鍍法、反應合成法等。其中，粉末冶金法是將銀粉，氧化錫粉在球磨機充分混合，通過下料裝置放入壓料裝置中進行壓型、預燒、燒結(jié)等操作，以提高最終的密度，為提高觸頭材料的密度，加工性能等指標，通常還需要二次加工，如復壓，燒結(jié)和擠壓等。下料裝置一般包括一個粉劑儲罐，用來儲存粉狀物料，下料裝置設有出料口，粉狀物料經(jīng)過出料口進入下一裝置中。在使用中發(fā)現(xiàn)，在重力作用下，粉狀物料容易在出料口處發(fā)生堵塞，造成粉狀物料結(jié)塊等現(xiàn)象發(fā)生，給生產(chǎn)過程帶來不便，此外，粉狀物料吸附在粉劑儲罐內(nèi)壁的情況也常常發(fā)生，粉狀物料一般為多種不同物料的混合，不同種類的物料與粉劑儲罐材料的吸附能力不一樣，造成某些物料更易吸附在粉劑儲罐內(nèi)壁上，從而使得出料口流出的粉狀物料中各種成分的比例發(fā)生改變，使后期材料中物料及添加劑分布不均勻，影響后期產(chǎn)品的質(zhì)量，造成物料浪費和能源人力損耗。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對現(xiàn)有技術中的不足，本實用新型提供了一種控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，能避免粉狀物料吸附在粉劑儲罐內(nèi)壁的情況發(fā)生，避免了不同種類的物料發(fā)現(xiàn)吸附，造成粉狀物料中各種原料和添加劑比例發(fā)生改變的情況發(fā)生，消除后期材料中物料及添加劑分布不均勻、影響后期產(chǎn)品的質(zhì)量、造成物料浪費和能源人力損耗的情況。
[0005]本實用新型通過以下技術方案實現(xiàn):控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，包括下料裝置，機械混粉裝置，燒結(jié)裝置，粉體氧化裝置，粉體破碎裝置，所述下料裝置包括:設有進料口和出料口的粉體儲罐，所述粉體儲罐側(cè)壁上設有若干第一通孔，第一通孔可以為圓形、矩形等簡單幾何圖案，第一通孔盡可能多的均勻分布在粉體儲罐的側(cè)壁能起到更好的吹落粉狀物料效果；設于所述粉體儲罐外壁上的氣室，所述氣室包括與所述粉體儲罐貼合的氣室內(nèi)壁與氣室外殼，所述氣室外殼通過進氣口與氣泵連接，所述氣室內(nèi)壁上設有若干與第一通孔對應的第二通孔，所述氣室與所述粉體儲罐可密封相對轉(zhuǎn)動，所述氣泵往氣室內(nèi)沖入一定的氣體并保持一定的正壓，氣室與粉體儲罐貼合，保證了氣密性，同時當氣室與所述粉體儲罐相對轉(zhuǎn)動時也保證了氣密性，隨著氣室與粉體儲罐相對轉(zhuǎn)動，當?shù)谝煌着c第二通孔重合時，氣體會從氣室內(nèi)通過通孔吹入粉體儲罐中，吹落吸附在粉體儲罐內(nèi)壁上的粉狀物料，保證粉體儲罐內(nèi)部各組分粉體之間配比的穩(wěn)定，當?shù)谝煌着c第二通孔完全錯開時，氣室被密封，同時氣泵通入氣體，保持一定的正壓，此外，當氣室與粉體儲罐相通時，其內(nèi)部氣壓大于外部氣壓，有助于將出料口處的粉狀物料吹落，防止物料堵塞出料口 ；控制所述氣室轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機，電機可以以一定轉(zhuǎn)速勻速轉(zhuǎn)動，或設置其他轉(zhuǎn)動方式。
[0006]作為優(yōu)選，所述粉體儲罐上設有光線傳感器，光線傳感器可以是對稱設于粉體儲罐內(nèi)壁上可見光傳感器、紅外線傳感器、紫外線傳感器等，當粉狀物料未附著在光線傳感器上時，光路通暢，光線傳感器不給出信號，當粉狀物料附著在光線傳感器上并達到一定厚度時，光線傳感器給出信號，該信號可用于控制驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動，進而吹落附著在粉體儲罐側(cè)壁上粉狀物料。
[0007]作為優(yōu)選，所述光線傳感器位于粉體儲罐的上沿內(nèi)側(cè)，保證粉狀物料本身的高度不會蓋住光線傳感器。
[0008]作為優(yōu)選，所述氣室下端設有除粉口，在氣室轉(zhuǎn)動過程中，難免會有一些粉狀物料落入氣室中，可通過打開改除粉口除去氣室中的粉狀物料。
[0009]作為優(yōu)選，所述驅(qū)動電機通過皮帶與所述氣室相連。
[0010]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有以下有益效果:本實用新型可間歇性吹落附著在粉體儲罐側(cè)壁上粉狀物料，保證粉體儲罐內(nèi)部各組分粉體之間配比的穩(wěn)定。同時，還具有間歇性疏通出料口的功能。
[0011 ] 本實用新型內(nèi)置傳感器，能智能控制電機轉(zhuǎn)動。
[0012]本實用新型自動化程度高，節(jié)約人力成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2為本實用新型的氣室內(nèi)壁的示意圖。
[0015]圖3為本實用新型的粉體儲罐的示意圖。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖與【具體實施方式】，對本實用新型做進一步描述。
[0017]控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，包括下料裝置，機械混粉裝置，燒結(jié)裝置，粉體氧化裝置，粉體破碎裝置，所述下料裝置包括:設有進料口 11和出料口 12的粉體儲罐I，所述粉體儲罐I側(cè)壁上設有若干第一通孔14，本實施方式中，第一通孔14為圓形，均勻分布在粉體儲罐I的側(cè)壁上；設于所述粉體儲罐I外壁上的氣室2，所述氣室2包括與所述粉體儲罐I貼合的氣室內(nèi)壁21與氣室外殼27，所述氣室外殼27通過進氣口 23與氣泵連接，所述氣室內(nèi)壁21上設有若干與第一通孔14對應的第二通孔24，所述氣室2與所述粉體儲罐I可密封相對轉(zhuǎn)動；通過皮帶31與所述氣室2連接的驅(qū)動電機3。
[0018]所述粉體儲罐I上設有光線傳感器13，光線傳感器13可以是對稱設于粉體儲罐內(nèi)壁上可見光傳感器、紅外線傳感器、紫外線傳感器等。所述光線傳感器13位于粉體儲罐I的上沿內(nèi)側(cè)，保證粉狀物料本身的高度不會蓋住光線傳感器13。所述氣室2下端設有除粉口 25。
[0019]所述氣泵往氣室2內(nèi)沖入一定的氣體并保持一定的正壓，氣室2與粉體儲罐I貼合，保證了氣密性，同時當氣室2與所述粉體儲罐I相對轉(zhuǎn)動時也保證了氣密性，隨著氣室2與粉體儲罐I相對轉(zhuǎn)動，當?shù)谝煌?4與第二通孔24重合時，氣體會從氣室2內(nèi)通過通孔吹入粉體儲罐I中，吹落吸附在粉體儲罐內(nèi)壁上的粉狀物料，保證粉體儲罐I內(nèi)部各組分粉體之間配比的穩(wěn)定，當?shù)谝煌?4與第二通孔24完全錯開時，氣室2被密封，同時氣泵通入氣體，保持一定的正壓，此外，當氣室2與粉體儲罐I相通時，其內(nèi)部氣壓大于外部氣壓，有助于將出料口 12處的粉狀物料吹落，防止物料堵塞出料口 12。當粉狀物料附著在光線傳感器13上并達到一定厚度時，光線傳感器13給出信號，該信號可用于控制驅(qū)動電機3轉(zhuǎn)動，進而吹落附著在粉體儲罐側(cè)壁上粉狀物料。
[0020]所述氣室2下端設有除粉口 25，在氣室2轉(zhuǎn)動過程中，難免會有一些粉狀物料落入氣室2中，可通過打開改除粉口 25除去氣室2中的粉狀物料。
【權(quán)利要求】
1.控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，包括下料裝置，機械混粉裝置，燒結(jié)裝置，粉體氧化裝置，粉體破碎裝置，其特征在于，所述下料裝置包括:設有進料口( 11)和出料口(12)的粉體儲罐(1)，所述粉體儲罐(I)側(cè)壁上設有若干第一通孔(14);設于所述粉體儲罐(I)外壁上的氣室(2)，所述氣室(2)包括與所述粉體儲罐(I)貼合的氣室內(nèi)壁(21)與氣室外殼(27)，所述氣室外殼(27)通過進氣口(23)與氣泵連接，所述氣室內(nèi)壁(21)上設有若干與第一通孔(14)對應的第二通孔(24)，所述氣室(2)與所述粉體儲罐(I)可密封相對轉(zhuǎn)動；控制所述氣室(2 )轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機(3 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，其特征在于，所述粉體儲罐(I)上設有光線傳感器(13 )。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，其特征在于，所述光線傳感器(13 )位于粉體儲罐(I)的上沿內(nèi)側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3任一項所述的控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，其特征在于，所述氣室(2)下端設有除粉口( 25)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的控制銀氧化錫材料中添加劑分布均勻性的設備，其特征在于，所 述驅(qū)動電機(3 )通過皮帶(31)與所述氣室(2 )相連。
【文檔編號】B65G65/40GK203782217SQ201420160277
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年4月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月3日
【發(fā)明者】孫珂楊 申請人:浙江科揚新材料科技有限公司