專利名稱：基片儲存盒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于儲存和攜帶一個基片(例如用于制造半導體元件或液晶顯示器的光掩模或光掩模胚件)的基片儲存盒，具體地說，本發(fā)明涉及一種用于依次地儲存和攜帶基片的基片儲存盒，該盒甚至可以儲存和攜帶具有一個薄膜的光掩模。
相關(guān)技術(shù)在一種用來依次地儲存和攜帶基片的常規(guī)的基片儲存盒中，例如，包括通過鉸鏈連接的一個主體和一個蓋體，一個分別裝在主體和蓋體的內(nèi)表面上用來固定所儲存的物品的固定件，主體和蓋體相連接部分的外表面應(yīng)相互齊平，并且鉸鏈和它的嚙合部分設(shè)置在一個比連接部分更低的位置上(例如，參照日本已審查的實用新型公開號6-30686)。眾所周知，一個儲存盒設(shè)有一個盒主體，一個蓋體，以及一個蓋固定帶，并通過設(shè)置在盒主體和蓋體的內(nèi)面上的對置的銷等支承伸出部分、與設(shè)置在盒主體上的環(huán)繞體，來阻止基片沿上下方向和橫向擺動(參照日本未經(jīng)審查的專利公開號10-142773)。
但是，在日本已審查的實用新型公開號6-30686中所描述的基片儲存盒存在以下的問題，當蓋體打開時，光掩?；蝾愃莆飼c主體一起被抬起，因此，污染物將會方便地載留其中并附著在光掩模或類似物上，從而使基片的外觀產(chǎn)生缺陷，另一個問題是，由于通過裝在支承件內(nèi)部的圓柱形伸出部分直接按壓光掩模的正面和背面來實現(xiàn)光掩模在上，下方向上的支承，從而將使基片受到污染。
在日本未經(jīng)審查的專利公開號10-142773中所描述的基片儲存盒存在以下問題，由于直接按壓基片(例如光掩模)的正面和背面，并且使用一個塑料制成的支承伸出部分進行支承，因此，基片將會受到污染，或者支承伸出部分(例如柱)將會發(fā)生損壞。
近來，光掩模或類似物品的圖形的小型化和高密度導致對其高質(zhì)量要求的提高，從而導致對光掩模或類似物品的基片儲存盒的以下性能提出更高的要求，例如灰塵產(chǎn)生少，防止損壞，防止污染以及便于操作。
如上所述，在常規(guī)的基片儲存盒內(nèi)，基片的定位和支承是分別實現(xiàn)的，因此容易產(chǎn)生灰塵，很難保持基片的高質(zhì)量。
發(fā)明簡述根據(jù)上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種用于儲存基片(例如光掩模)的廉價基片儲存盒，該儲存盒自身具有便于清洗，干燥等特性，其中基片儲存盒可以在儲存和攜帶過程中防止基片損壞和由于在盒內(nèi)部產(chǎn)生灰塵而造成的污染，該基片儲存盒便于使用并且在基片放入和取出的過程中限制灰塵的產(chǎn)生。
為了解決以上問題，本發(fā)明的基片儲存盒使用了這樣的結(jié)構(gòu)，使得對基片的定位和支承是同時完成的。
本發(fā)明提供一種儲存有一個具有頂面和底面的基片的儲存盒，其形狀與基片的形狀相符合，該儲存盒包括一個上蓋和一個下蓋，上蓋通過一個鉸鏈與下蓋相連接，以便自如地打開和關(guān)閉下蓋，并且在下蓋和上蓋之間形成一個嚙合部分，其中下支承件設(shè)置在下蓋的多個位置上，每個下支承件都與基片的底面一側(cè)上的一對邊緣相接觸，而上支承部分設(shè)置在上蓋的多個位置上，每個上支承件都與基片的頂面一側(cè)上的一對邊緣相接觸。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，基片和基片儲存盒最好是正方形的。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，下支承件和上支承件中的每個支承件最好都包括與一對邊緣相接觸的一對支承部分。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，在每個下支承件和上支承件中的每一對支承部分最好包括一個與邊緣相接觸的斜面。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，下蓋的下支承件和上蓋的上支承件最好是彼此對稱地設(shè)置，并且具有彼此對稱的形狀。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，最好還包括一個鎖緊件，該鎖緊件設(shè)置在下蓋上的比該盒的厚度方向的中心更靠近下蓋側(cè)的位置上，以便將上蓋和下蓋密封，其中，鉸鏈設(shè)置在上蓋上的比該盒的厚度方向的中心更靠近上蓋側(cè)的位置上。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，在下蓋和上蓋之間的嚙合件最好是從鉸鏈朝鎖緊件的方向向下傾斜地延伸，而且下蓋的鎖緊件這一側(cè)形成一個空間，以便使自動傳送臂的指形物從基片的下方插入。
本發(fā)明提供的基片儲存盒包括一個臺階部分，該臺階部分最好是分別設(shè)置在下蓋和上蓋內(nèi)的四個角的外表面，該臺階部分可以是從其它部分降下來而成形的。
本發(fā)明提供的基片儲存盒最好是還包括一個設(shè)置在下蓋的臺階部分與和下蓋的臺階部分相對應(yīng)的上蓋的臺階部分之間的夾緊件，其中，該夾緊件固定并支承該下蓋和上蓋。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，在下蓋和上蓋內(nèi)的凹凸部分最好都是圓形的。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，下蓋和上蓋最好都是由導電塑料制成的。
本發(fā)明提供的基片儲存盒，其中，每個下支承件最好是與下蓋一起整體成形的，每個上支承件最好是與上蓋一起整體成形的。
按照本發(fā)明提供的基片儲存盒，基片的定位和支承是通過基片四個角處的頂面一側(cè)和底面一側(cè)上的各兩個邊緣同時實現(xiàn)的，由此，都不是直接地壓住基片(例如光掩模)的正面和背面，因此在儲存和攜帶的過程中，由于盒內(nèi)產(chǎn)生灰塵而導致的基片的損壞或者基片的污染就可以防止。
當打開上蓋時，放置基片的下蓋不會隨上蓋而抬起，這樣就限制了在放入和取出基片時產(chǎn)生灰塵，并且盒本身具有優(yōu)良的清洗和干燥等特性。
此外，基片的下支承件和上支承件是分別與下蓋和上蓋整體成形的，因此增強了下支承件和上支承件的剛性，并且防止了它們損壞。由此防止了因支承件損壞而導致的基片的損壞和污染。下蓋上的下支承件與上蓋上的上支承件是彼此對稱的，所以該儲存盒容易成形，從而可提供一種廉價的基片儲存盒。
附圖簡介

圖1是本發(fā)明的基片儲存盒的第一個較佳的實施例的一個平面圖，圖中示出了該盒處于打開狀態(tài)下的情況。
圖2是在示于圖1的基片儲存盒中沿A-A截面截取的一個側(cè)剖面圖。
圖3是一個透視圖，圖中示出了在本發(fā)明的第一個較佳的實施例中的基片儲存盒的上支承件和下支承件。
圖4是本發(fā)明的基片儲存盒的第一個較佳的實施例的一個側(cè)剖面圖，圖中示出了該盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況。
圖5是本發(fā)明的基片儲存盒的第一個較佳的實施例的一個側(cè)視圖，圖中示出了該盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況。
圖6是本發(fā)明的基片儲存盒的第二個較佳的實施例的一個平面圖，圖中示出了該盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況，其中，該基片儲存盒的四個角中每個角的厚度比該盒的整體厚度要更薄一些。
圖7是本發(fā)明的基片儲存盒的第二個較佳的實施例的一個側(cè)視圖，圖中示出了該盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況，其中，該基片儲存盒的四個角中每個角的厚度比該盒的整體厚度要更薄一些。
圖8是一個平面圖，圖中示出了圖6中的基片儲存盒的四個角中的每個角處于由一個夾緊件夾緊著的情況。
圖9是一個側(cè)視圖，圖中示出了圖7中的基片儲存盒的四個角中的每個角處于由起著盒座作用的該夾緊件夾緊著的情況，以及該基片儲存盒被垂直地放置。
最佳實施例詳述下面，將參照附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行說明。
圖1是本發(fā)明的基片儲存盒的第一個較佳的實施例的一個平面圖，圖中示出了該盒處于打開狀態(tài)下的情況。圖2是在示于圖1的基片儲存盒中沿A-A截面截取的一個側(cè)剖面圖。
如圖1和2中所示，基片儲存盒1中儲存有一個多邊形(四邊形)的基片7，該基片具有一個頂面7a和一個底面7b，該儲存盒具有與基片7相對應(yīng)的多邊形(四邊形)的形狀?；瑑Υ婧?設(shè)有一個下蓋3和一個通過鉸鏈與4與下蓋3相連接的上蓋2，并且還設(shè)有一個在下蓋3與上蓋2之間形成的嚙合部分13。
基片7在頂面7a上有四個邊緣7c，并且在底面7b上也有四個邊緣7c。
儲存在本發(fā)明的基片儲存盒1中的基片7是一種例如用來制造半導體元件或液晶顯示元件的光掩模(也稱為掩模原版)或者光掩模胚件這樣的基片，并且主要是由低熱膨脹玻璃或硅玻璃制成具有光屏蔽膜的基片。通常設(shè)置有光屏蔽膜或圖形的一個主要表面為方形?；耐庑纬叽缬蓸藴室?guī)定。就本發(fā)明的基片7而論，一個具有薄膜的基片可以通過加厚儲存盒1而儲存于其中。
如上所述，上蓋2和下蓋3是通過鉸鏈4而互相連接在一起的，以便可以打開和關(guān)閉。本發(fā)明的鉸鏈4是可以拆卸的。因此，上蓋2可以通過將上蓋2相對于下蓋3打開約270°后再經(jīng)過鉸鏈4而方便地從下蓋3上卸下?；瑑Υ婧?的結(jié)構(gòu)做成可以在上蓋2經(jīng)過鉸鏈4從下蓋3上卸下后，再以該角度通過鉸鏈4重新將上蓋2方便地安裝在下蓋3上。這樣，當清洗(或其他類似工作)儲存盒時，就可以方便地將蓋2，3分別進行清洗和干燥。
基片的四個上支承件5中的每個支承件被相應(yīng)地設(shè)置在上蓋2的內(nèi)表面上的四個角中的每個角上?；乃膫€下支承件6中的每個支承件被相應(yīng)地設(shè)置在下蓋3的內(nèi)表面上的四個角中的每個角上。每個上支承件5和下支承件6都可以與相應(yīng)的蓋2，3分別地制成，然后與蓋接合，然而，為了便于成形以及支承件的強度和精度更高起見，最好將每個上支承件5和下支承件6與相應(yīng)的蓋2，3整體地制成。
基片的每個上支承件5和下支承件6都設(shè)有一對支承部分5a和一對支承部分6a，每對支承部分大體上為L形，用來支承基片7的一對邊緣7c。每對支承部分5a和6a的相交角為90°(每對支承部分大體上為L形)。支承部分5a的長度不一定與支承部分6a的長度相等。但是，由于基片7(例如光掩模)的主表面大體上為方形，因而支承部分5a和6a的長度最好彼此相等，以便形成在幾何方面無制約性的對稱形狀。應(yīng)當注意，在支承一個圓形基片7的情況下，應(yīng)設(shè)有與圓形基片7的形狀相對應(yīng)的支承部分5a和6a，由此可以取得與基片7大體上為L形時的相同效果。在圖3中，為方便起見，只示出了下支承部分6，但是，上支承部分5具有與下支承部分6基本上相同的結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明中，每個用來支承基片7的大體上為L形的支承部分5a和6a具有一個斜面，并且其結(jié)構(gòu)做成可以只與基片7的一側(cè)上的邊緣7c相接觸。在圖1和2中，基片7這樣放置在分別處于下蓋3的四個角內(nèi)的支承件6上，使得在基片7的下表面7b上的四個角中的兩個邊緣7c分別與支承部分6a的兩個斜面11相接觸，由此基片7就可以由支承部分6a的斜面11定位和支承。也就是說，基片7可以由下支承件6的八個下支承部分6a牢固地支承在基片7的底面7b的四個角中的每個角內(nèi)兩個彼此正交的相鄰邊緣7c上。
下面，將詳細說明本發(fā)明中用于基片7的下支承件6。圖3是一個透視圖，圖中示出了在基片儲存盒1的下蓋3的四個角上的下支承件6的一個實施例。
每個用來支承基片7的邊緣7c并且由L形中的兩個部分所包圍的支承部分6a具有一個斜面11。斜面11的角度應(yīng)該是一個可以用來定位和支承基片7的角度，該角度的范圍為15°至75°(相對于下蓋的底面3來說)。當斜面11的角度小于15°時，由于角度太小，第二次出現(xiàn)相同的支承位置的機會減少，基片7的支承強度是不夠的。當斜面11的角度超過75°時，基片7的尺寸公差的范圍就將不夠，從而可能引起基片7的損傷。該斜面的角度范圍比較好是在30°至60°，以便增加支承件6的機械強度，提高基片7的支承特性和作用在基片7上的力的散布特性，以及提高基片7的尺寸公差的范圍。斜面11的角度最好是45°，這樣就可以使作用在基片7上的沿上下方向與沿橫向的力相等。
如圖3所示，在本發(fā)明中，為了防止在基片7與基片儲存盒1之間由于基片的7的偏斜而造成的接觸，以及為了減輕在下支承件6的基片7邊緣7c支承部分6a上產(chǎn)生的應(yīng)力，最好在作為大體上為L形的兩側(cè)的兩個支承部分6a之間的相交位置設(shè)有一個空隙12。圖3示出了一個實例，其中，在大體上為L形的兩個支承部分6a之間的相交位置附近，通過切去一個柱形樹脂而形成空隙12。
此外，在本發(fā)明中，兩個支承部分6a可以彼此分離并且成90°相交，從而形成一個山形(由兩個不平行部分形成)。但是，如上所述的大體上的L形對于改進下支承件6的強度來說是更可取的。應(yīng)當注意，上支承件5設(shè)置在上蓋2上與下支承件6相對應(yīng)的一個位置，其結(jié)構(gòu)基本上與下支承件6相同。
其次，通過關(guān)閉上蓋2，在基片7的頂面7a上的四個角中的每個角內(nèi)的兩個邊緣7c就分別與上支承件5的兩個斜面11相接觸，從而支承并夾緊基片7。也就是說，與底面7b的一側(cè)相同，基片7在頂面7a的四個角中的每個角中正交并且相鄰的兩個邊緣上由上支承件5的八個支承部分5a支承和固定。
圖4是一個側(cè)剖面圖，圖中示出了上蓋2處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況。
如圖4中所示，基片7以這樣的方式被固定，使得在其頂面7a和底面7b中的每個面上的四個角內(nèi)的邊緣7c既定位在上蓋2上的上支承件5的支承部分5a中的斜面11上，又定位在下蓋3上的下支承件6的支承部分6a中的斜面11上，同時，也就阻止了基片7沿上下方向和橫向的移動?；?不會由于在其運輸時所產(chǎn)生的振動而發(fā)生移動，因而，基片7也就不會受到損傷，并且由于產(chǎn)生灰塵而引起的基片7的污染也不會發(fā)生。
圖5是一個側(cè)視圖，圖中示出了本發(fā)明的第一個較佳的實施例中的基片儲存盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況。如圖5中所示，在本發(fā)明中，鉸鏈4設(shè)置在一個比基片儲存盒1的厚度方向的中心更高的位置上，用來把上蓋2和下蓋3鎖緊在一起的鎖緊件9和10設(shè)置在一個比鉸鏈4更低的位置上。因此，在基片儲存盒1的上蓋2與下蓋3之間的嚙合件13具有一個從鉸鏈4朝著鎖緊件9和10向下傾斜地延伸的傾斜面。
本發(fā)明的基片儲存盒的結(jié)構(gòu)已如上所述。因此，如圖2中所示，當打開基片儲存盒1的蓋時，下蓋3的鉸鏈側(cè)不會被抬起。所以，在本發(fā)明中，不會像常規(guī)的儲存盒中發(fā)生的情況那樣，發(fā)生由于下蓋3的鉸鏈側(cè)被抬起而使灰塵卷入的問題，或者由于外來物質(zhì)附著在基片7上而使基片盒1的外觀變差的問題。在圖2中所示的較佳的實施例中，上蓋2從其處于關(guān)閉時的位置打開一個約185°的角度。
此外，在本發(fā)明中，除上述在圖5中的結(jié)構(gòu)以外，鎖緊件9和10還可以設(shè)置在一個比基片儲存盒1的厚度方向的中心更低的位置上。當打開上蓋2時，一個其尺寸大到足以將自動傳送臂的一個指狀物插入其中的空間7s在基片7的下面形成。因此，當打開上蓋2以取出其中的基片7時，自動傳送臂的指狀物就可以在基片7的下面插入，從而不需要人的幫助就可以將在基片儲存盒1中的基片7取出或放入。此外，鎖緊件9和10的夾子適合于由自動傳送臂來打開和關(guān)閉，因而，將在基片儲存盒1中的基片7取出和放入的工作可以自動進行，基片儲存盒1就可以可靠地輸送。
如圖6和7中所示，在包括上支承件5和下支承件6的基片儲存盒1內(nèi)的四個角中的每個角的厚度可以比基片儲存盒1的整體厚度更薄一些。
圖6是本發(fā)明的基片儲存盒的第二個較佳的實施例的一個平面圖，圖中示出了該盒處于關(guān)閉狀態(tài)下的情況，其中，在包括上支承件5和下支承件6的基片儲存盒1內(nèi)的四個角中的每個角的厚度比該盒的整體厚度更薄一些。圖7是圖6中的儲存盒的一個側(cè)視圖。在圖6和圖7中，與圖1，2和5中相同的零件具有相同的標號。
在圖6和7中，臺階部分14可以通過在基片儲存盒1的上蓋2和下蓋3中的每個蓋的四個角中的每個角的外表面上進行加工，使該處的厚度較薄而形成。借助于在四個角上加工出的較薄的外表面厚度，光掩模7就可以方便地儲存在儲存盒1中，并且盒1可以被牢固地鎖緊。由于四個角包括支承件5和6，所以每個支承件5和6的高度就可以降低，從而支承件5和6改進了其作為支承件的剛度。由于使四個角變薄并設(shè)置臺階部分14上，就可以將基片儲存盒1在其內(nèi)側(cè)(靠近支承件5和6處)而不是在下蓋3的最外周邊上固定，因而由于該裝置的這種結(jié)構(gòu)，灰塵產(chǎn)生的不良影響將不會發(fā)生。
圖8是一個平面圖，圖中示出了圖6中的基片儲存盒1的四個角由夾緊件15固定的情況。在本發(fā)明中，夾緊件15如圖8中所示，固定在基片儲存盒1的四個角內(nèi)形成的上述臺階部分14上，因而可以牢固地鎖緊上蓋2和下蓋3。由于在儲存盒1的四個角內(nèi)的厚度較薄，可以方便地安裝和取下夾緊件15。此外，可以將安裝后包括夾緊件15的厚度的四個角內(nèi)的厚度制成在基片儲存盒1的整體厚度范圍內(nèi)。因此，夾緊件15將不會在基片儲存盒1的儲存和運送的過程中產(chǎn)生阻礙。
夾緊件15可以由塑料，橡膠，金屬鉗或固定帶制成。
圖9是一個側(cè)視圖，圖中示出了在圖7中的基片儲存盒1的四個角中的每個角由起著盒座作用的夾緊件15夾緊的情況，此時基片儲存盒1被垂直地放置。如圖9所示，通過使用起盒座作用的夾緊件15，本發(fā)明的基片儲存盒1可以像書一樣垂直整齊地放置在掩模儲存架(或其他類似物)中。當一個IC標記或其他類似物固定在基片儲存盒1的外部時，就可以將在該儲存架內(nèi)的基片儲存盒1自動地取出和放入。此外，可以自動地傳送基片儲存盒1，以及基片7可以自動地取出和放入基片儲存盒1。因此，可以減少手工勞動，并由此減少了由于灰塵所引起的質(zhì)量問題，基片7的質(zhì)量和生產(chǎn)率都可以提高，從而可以實現(xiàn)高質(zhì)量掩模的制造，傳送和儲存。
上蓋2，下蓋3，支承件5和6的材料中的每一種材料都最好是具有較少的灰塵產(chǎn)生，良好的清洗特性和良好的干燥特性的可重復利用的材料。當基片儲存盒1在其運送過程(或其他類似過程)中起電時，光掩模圖形就可能由于放電現(xiàn)象而遭到毀壞，或者基片7由于吸收了空氣中的灰塵而受到污染。因此，上蓋2，下蓋3，支承件5和6的材料中的每一種材料都最好是用導電塑料制成。這種導電塑料可以由樹脂制成，例如，一種其名稱為“BAYON”(由日本吳市化學工業(yè)有限公司制造)的產(chǎn)品，或者一種其名稱為Novalloy(由日本Daicel聚合物有限公司制造)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品具有一種小電阻橡膠顆粒散布在硬樹脂中的結(jié)構(gòu)。
一個用來作為在上蓋2與下蓋3之間的嚙合部分13中的密封墊的墊片可以由氟化橡膠制成，例如，一種其名稱為Fluoroplas(由日本NICHIAS公司制造)的產(chǎn)品。
在本發(fā)明中，凸形的墊片8設(shè)置在上蓋2的嚙合部分13的嚙合位置上，與墊片8相對應(yīng)的下蓋3的嚙合部分13則制成凹形，因而就可以將該嚙合部分牢固地密封。另一個嚙合部分可以設(shè)置在墊片8的內(nèi)側(cè)。因此，在鎖緊件9和10松開的情況下，即使墊片8的密封特性不再保持，嚙合部分仍然部分地重疊，從而阻止了外來物質(zhì)從外部進入基片儲存盒1的內(nèi)部。因此，在把基片7儲存到基片儲存盒中以后，不需要像常規(guī)的儲存盒那樣用一條膠帶把上蓋2和下蓋3的嚙合部分固定。
在本發(fā)明中，當將上蓋2放置在下蓋3的頂部時，墊片8還可以用來作為一種減震材料。
在本發(fā)明中，用鉸鏈4可將上蓋2與下蓋3拆卸。另外，鎖緊件9和10通過一個部位以上的位置來進行鎖緊。但是，該基片儲存盒也可以做成這樣的結(jié)構(gòu)，例如，鎖緊件9和10設(shè)置在兩個位置上，當上蓋2和下蓋3嚙合時可以通過一個夾子將鎖緊件9和10鎖緊，并且可以通過按下該夾子而使鎖緊件9和10松開。
當打開基片儲存盒1(該盒中已經(jīng)儲存有基片7)的上蓋2和下蓋3時，基片7的圖形表面最好是朝下，以避免灰塵從外界落下并附著在圖形表面上。本發(fā)明的基片儲存盒1可以以這種方式制成，使得上蓋2和下蓋3是對稱的(鉸鏈4和鎖緊件9和10除外)。這樣，基片儲存盒1就可以從上蓋2和下蓋3的兩側(cè)打開，這種結(jié)構(gòu)的優(yōu)點是，在光掩模制造的內(nèi)部處理(或其他類似處理)中，上蓋2和下蓋3可以根據(jù)需要任選地打開。
在本發(fā)明的基片儲存盒1中，最好將各個角部和凹凸部分制成圓形，從而使基片儲存盒在樹脂成型時不會產(chǎn)生氣孔問題，灰塵不易集中在儲存盒1的各個角部和凹凸部分，并使清洗和干燥更加方便。
本發(fā)明的基片儲存盒1可以以這樣一種方式制成，使得上蓋2和下蓋3可以與基片支承部分5和6制成一個整體，由此可以提供一個具有高剛度和高質(zhì)量的廉價的基片儲存盒。此外，由于在與基片7直接接觸的儲存盒部分才使用導電材料，從而防止了基片7受到外來物質(zhì)的影響。
此外，本發(fā)明的基片儲存盒1的一個外表面上設(shè)有一個條形碼標號或者IC標記，因而，可以對每個基片儲存盒進行產(chǎn)品管理。
實例1下面，將對上述較佳實施例的詳細實例進行說明。
為了制造一個專門用于六寸(外部尺寸6×6×0.25(厚度)英寸)光掩模的基片儲存盒，需要做出一個用于包括鉸鏈4和鎖緊件9和10的儲存盒1(外部尺寸220×230×22(厚度)毫米)的上蓋2和下蓋3的鑄塑模。使用Novalloy(商標名)樹脂(日本Daicel聚合物有限公司制造)做出每個具有3毫米樹脂厚度的上蓋2和下蓋3。在上蓋2上的與下蓋3相嚙合處提供一個凸形的嚙合部分，該凸形的嚙合部分作為墊片8，由彈性聚酯樹脂制成，并且在下蓋3的相對應(yīng)的部分處提供一個凹形的嚙合部分。鉸鏈4以這樣一種方式提供，使得上蓋2和下蓋3是可分離的。鎖緊件9和10在兩個位置上提供，因而當上蓋2與下蓋3相嚙合時，它們將由夾子鎖緊，并且可以通過按下該夾子而將它們松開。
在每個上蓋2和下蓋3的內(nèi)表面上的四個角處，四個支承件5和四個支承件6都分別地與上蓋2和下蓋3結(jié)合成一個整體。每個支承件5和6具有30×30×10(高度)毫米的尺寸，它們都從每個上蓋2和下蓋3的內(nèi)表面伸出。每個用于基片邊緣7c的L形支承部分5a和6a，具有20×20×20(離開該蓋的底面的高度)毫米的尺寸，并在每個支承件5和6的內(nèi)側(cè)中的每個角處伸出。每個支承件5和6都與每個上蓋2和下蓋3結(jié)合成一個整體。用于基片邊緣7c的每個支承部分5a和每個支承部分6a，其中的每個都由成90°相交的L形的兩個側(cè)面所包圍，都有一個在該兩個側(cè)面中的每個側(cè)面處所形成的斜面11，該斜面11與對應(yīng)蓋的內(nèi)表面所成的角度為45°。柱狀的空隙12設(shè)置在L形的兩個側(cè)面的相交位置處。除鉸鏈4和鎖緊件9和10外，上蓋2和下蓋3沿著上下方向是對稱的，從而形成基片儲存盒1。
然后，當打開上述的上蓋2時，將六寸(外部尺寸6×6×0.25(厚度)英寸)的光掩模7放置在儲存盒1的下蓋3上，并使光掩模7的圖形表面朝下。在四個角中的每個角內(nèi)的掩模7的底面7b上的兩個邊緣7c分別與支承件6的基板邊緣7c的支承部分6a的兩個斜面11相接觸，從而將掩模7牢固地定位和支承。因此，掩模7就通過在底面7b上的四個角中的每個角內(nèi)垂直地相交的兩個相鄰邊緣支承在支承件6的八個斜面11上。
然后，將上蓋2關(guān)閉和鎖緊，由此在掩模7的頂面7a上的四個角中的每個角內(nèi)的兩個邊緣7c就與在上蓋2上的支承件5的兩個斜面11相接觸，從而使掩模7被支承和固定。也就是說，該光掩模也與底面7b一樣，通過在頂面7a上的四個角中的每個角內(nèi)垂直地相交的兩個相鄰邊緣7c也被牢固地支承和固定在八個斜面11上。
對比例1根據(jù)常規(guī)的技術(shù)，需要做出一個用于六寸光掩模的基片儲存盒(225×225×41毫米)，該盒的上蓋和下蓋由BAYON樹脂制成并且能夠互相分離。該儲存盒設(shè)有一個用來定位掩模的外周邊的外周邊固定部分，以及一個用來固定掩模的由BAYON樹脂制成的柱形伸出部分，固定部分和伸出部分分別設(shè)置在上蓋和下蓋內(nèi)，以便支承掩模。作為與掩模的接觸部分的柱形伸出部分的上端用硅樹脂覆蓋，以便減輕接觸時的碰撞。六寸光掩模放置在儲存盒上，使光掩模的圖形面朝下，然后由上和下柱形部分所固定。接著，上蓋和下蓋的嚙合部分就由膠帶密封，并且在四個角內(nèi)用樹脂夾子夾緊。
灰塵產(chǎn)生特性的比較在相同條件下，對本發(fā)明在實例1中的基片儲存盒和在對比例1中的常規(guī)的基片儲存盒在同一條件下進行強制灰塵產(chǎn)生試驗，以便比較它們的灰塵產(chǎn)生特性。測量條件將光掩模分別儲存在本發(fā)明的基片儲存盒和常規(guī)的基片儲存盒內(nèi)，然后，使它們振動兩小時。在儲存每個掩模以前和在儲存并振動每個掩模以后，分別通過一個激光反射型GM外來物質(zhì)測量儀(由日本日立有限公司制造)，對該每個掩模測量在其上的外來物質(zhì)的尺寸大小(微米)，并比較外來物質(zhì)增加的數(shù)量。測量面積為130×130毫米，平均值可以通過分別對本發(fā)明的儲存盒和常規(guī)的儲存盒中的四個掩模進行灰塵產(chǎn)生試驗來確定。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在本發(fā)明的儲存盒中產(chǎn)生的灰塵的數(shù)量是在常規(guī)的儲存盒中產(chǎn)生的灰塵數(shù)量的1/7。
權(quán)利要求
1.一種儲存有一個具有頂面和底面的基片的儲存盒，其形狀與基片的形狀相符合，該儲存盒包括一個下蓋；和一個上蓋，該上蓋通過一個鉸鏈與下蓋相連接，以便打開和關(guān)閉下蓋，并且在下蓋和上蓋之間形成一個嚙合部分，其中下支承件設(shè)置在下蓋的多個位置上，每個下支承件都與基片的底面一側(cè)上的一對邊緣相接觸；以及上支承件設(shè)置在上蓋的多個位置上，每個上支承件都與基片的頂面一側(cè)上的一對邊緣相接觸。
2.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，其中，基片和基片儲存盒的形狀為正方形。
3.權(quán)利要求2中所述的基片儲存盒，其中，下支承件與上支承件中的每個支承件都包括與一對邊緣相接觸的一對支承部分。
4.權(quán)利要求3中所述的基片儲存盒，其中，每個下支承件和上支承件的每一對支承部分都包括與該邊緣相接觸的一個斜面。
5.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，其中，下蓋的下支承件和上蓋的上支承件彼此對稱地設(shè)置，并且具有彼此對稱的形狀。
6.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，還包括一個鎖緊件，該鎖緊件設(shè)置在下蓋上的比該盒的厚度方向的中心更靠近下蓋側(cè)的位置上，以便將上蓋和下蓋閉合，其中鉸鏈設(shè)置在上蓋上的比該盒厚度方向的中心更靠近上蓋側(cè)的位置上。
7.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，其中，在下蓋和上蓋之間的嚙合件從鉸鏈朝著鎖緊件方向向下傾斜地延伸，在下蓋的鎖緊件一側(cè)，形成有用于從基片的下方插入自動傳送臂的指形物的空間。
8.權(quán)利要求2中所述的基片儲存盒，其中，一個臺階部分分別設(shè)置在下蓋和上蓋的四個角的外表面，該臺階部分可以是從其它部分降下來而形成的。
9.權(quán)利要求8中所述的基片儲存盒，還包括一個設(shè)置在下蓋的臺階部分與和下蓋的臺階部分相對應(yīng)的上蓋的臺階部分之間的夾緊件，其中，該夾緊件固定并支承下蓋和上蓋。
10.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，其中，在下蓋和上蓋內(nèi)的凹凸部分都是圓形的。
11.權(quán)利要求10中所述的基片儲存盒，其中，下蓋和上蓋都是由導電塑料制成的。
12.權(quán)利要求1中所述的基片儲存盒，其中，每個下支承件都是與下蓋一起整體成形的，每個上支承件都是與上蓋一起整體成形的。
全文摘要
一種基片儲存盒，其中，上蓋和下蓋通過一個鉸鏈相連接，因此可以自如地打開和關(guān)閉，基片的上支承件和下支承件從盒蓋的內(nèi)表面伸出。下蓋的下支承件對基板的四個角的底面上的兩個邊緣定位并同時進行支承。當關(guān)閉下蓋以便儲存基片時，在基片的四個角處的頂面上的兩個邊緣由上蓋的上支承件固定。
文檔編號B65D85/86GK1852845SQ200480026589
公開日2006年10月25日 申請日期2004年9月15日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月16日
發(fā)明者中前聰 申請人:大日本印刷株式會社