抗靜電表面保護膜的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種貼合于偏光板、相位差板、顯示器用透鏡膜等光學部件（下面，有 時也稱"光學用膜"）的表面上的抗靜電表面保護膜。更詳細而言，提供一種對被粘附體的 污染少、無經(jīng)時劣化且具有優(yōu)良的抗剝離靜電性能的抗靜電表面保護膜。
【背景技術】
[0002] 目前，當制造、搬運偏光板、相位差板、顯示器用透鏡膜、防反射膜、硬涂膜、觸摸面 板用透明導電膜等的光學用膜、W及使用了它們的顯示器等光學產(chǎn)品時，通過在該光學用 膜的表面貼合表面保護膜而防止后續(xù)工序中的表面污染、刮傷。為了節(jié)省對表面保護膜進 行剝離后再進行貼合的勞力和時間從而提高作業(yè)效率，對作為產(chǎn)品的光學用膜的外觀檢查 而言，有時也在光學用膜上貼合著表面保護膜的狀態(tài)下直接實施。
[0003]W往W來，為了在光學產(chǎn)品的制造工序中防止傷痕和污垢的附著，通常使用在基 材膜的單面設置了粘結劑層的表面保護膜。表面保護膜是通過微粘結力的粘結劑層被貼合 于光學用膜上。將粘結劑層設定為微粘結力的原因在于，為了將使用完畢的表面保護膜從 光學用膜表面剝離而去除時，能夠容易地進行剝離，并且為了防止粘結劑附著并殘留在作 為被粘附體產(chǎn)品的光學用膜上（所謂的防止粘結劑殘留的發(fā)生）的現(xiàn)象。
[0004]近年來，在液晶顯示面板的生產(chǎn)工序中，由于將貼合于光學用膜上的表面保護膜 剝離而去除時產(chǎn)生的剝離靜電壓，會破壞用于控制液晶顯示面板的顯示畫面的驅(qū)動1C等 電路部件，還有液晶分子的取向會損傷，雖然該些現(xiàn)象發(fā)生的件數(shù)少但也在發(fā)生。
[0005] 另外，為了減少液晶顯示面板的電耗，液晶材料的驅(qū)動電壓趨于降低，隨之驅(qū)動1C 的擊穿電壓也趨于降低。最近，要求將剝離靜電壓控制在+0. 7kV~一0. 7kV的范圍內(nèi)。
[0006]因此，為了防止從作為被粘附體的光學用膜上剝離表面保護膜時因剝離靜電壓高 所引起的缺陷，有人提出了一種表面保護膜，其使用了含有用于降低剝離靜電壓的抗靜電 劑的粘結劑層。
[0007] 例如，在專利文獻1中，公開了一種使用由烷基H甲基饋鹽、含羥基的丙帰酸類聚 合物、聚異氯酸醋組成的粘結劑的表面保護膜。
[000引另外，在專利文獻2中，公開了一種由離子性液體和酸值為1. 0W下的丙帰酸聚合 物組成的粘結劑組合物、W及使用了該組合物的粘結片類。
[0009] 另外，在專利文獻3中，公開了一種由丙帰酸聚合物、聚離多元醇化合物、通過陰 離子吸附性化合物處理過的堿金屬鹽組成的粘結劑組合物、W及使用了該組合物的表面保 護膜。
[0010] 另外，在專利文獻4中，公開了一種由離子性液體、堿金屬鹽、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 (TCW下的聚合物組成的粘結劑組合物、W及使用了該組合物的表面保護膜。
[0011] 另外，在專利文獻5、6中，公開了在表面保護膜的粘結劑層中混合聚離改性聚娃 氧焼的技術內(nèi)容。
[0012] 上述專利文獻1~4中，在粘結劑層內(nèi)部添加有抗靜電劑，但粘結劑層的厚度越 厚，并且隨著時間的推移，抗靜電劑從粘結劑層向表面保護膜所貼合的被粘附體移動的量 會越多。另外，在LR(LowReflective)偏光板、AG(AntiGlare)-LR偏光板等的光學用膜 中，由于采用聚娃氧焼化合物或氣化物等對光學用膜表面施加了防污染處理，因此，當從作 為被粘附體的光學用膜上剝離該光學用膜所使用的表面保護膜時，剝離靜電壓變高。
[0013] 另外，如專利文獻5、6所述，當在粘結劑層中混合了聚離改性聚娃氧焼時，難W對 表面保護膜的粘結力進行微調(diào)。另外，由于在粘結劑層內(nèi)混合有聚離改性娃氧焼，因此，當 在基材膜上涂布、干燥粘結劑組合物的條件發(fā)生變化時，表面保護膜上形成的粘結劑層表 面的特性微妙地發(fā)生變化。并且，從保護光學用膜表面的觀點出發(fā)，無法使粘結劑層的厚度 設定為極薄。因此，根據(jù)粘結劑層的厚度，需要增加粘結劑層內(nèi)混合的聚離改性聚娃氧焼的 添加量，結果容易污染被粘附體表面，隨時間的粘結力和對被粘附體的污染性發(fā)生變化。
[0014] 近年來，伴隨著3D顯示器（立體視覺顯示器）的普及，有在偏光板等光學用膜的 表面貼合FPR(圖案相位差膜，F(xiàn)ilmPatternedRetarder)膜的情況。剝離在偏光板等光 學用膜的表面所貼合的表面保護膜后，貼合FH?膜。但是，當偏光板等的光學用膜表面被表 面保護膜使用的粘結劑、抗靜電劑所污染時，存在難W粘接FH?膜的問題。因此，對該用途 上使用的表面保護膜而言，要求其對被粘附體的污染少。
[0015] 另一方面，在一些液晶面板制造廠商中，作為表面保護膜對被粘附體的污染性的 評價方法，是采用如下方法：對偏光板等的光學用膜上貼合的表面保護膜進行一次剝離，在 混入了氣泡的狀態(tài)下進行再貼合，對再貼合后的物件在規(guī)定條件下加熱處理，然后剝離表 面保護膜并觀察被粘附體的表面。在該種評價方法中，即使被粘附體的表面污染是微量的， 若在混入氣泡的部分與表面保護膜的粘結劑相接觸的部分之間存在被粘附體表面污染的 差異，則會作為氣泡痕跡（有時也稱作"氣泡污痕"）殘留。因此，作為對被粘附體表面的污 染性的評價方法，會是非常嚴格的評價方法。近年來，即使是W該種嚴格的評價方法進行判 定的結果，也需要對被粘附體的表面污染性方面沒有問題的表面保護膜。但目前的狀況是， 在W往所提出的使用了含有抗靜電劑的粘結劑層的表面保護膜中，難W解決該課題。
[0016]因此，需要一種在光學用膜中使用的表面保護膜，其對被粘附體的污染非常少、且 對被粘附體的污染性沒有經(jīng)時變化（不隨著時間推移發(fā)生變化）。并且，需要將從被粘附體 上剝離時的剝離靜電壓抑制得低的表面保護膜。
[0017] 現(xiàn)有技術文獻 [001引專利文獻
[0019] 專利文獻1 ;日本特開2005-131957號公報
[0020] 專利文獻2 :日本特開2005-330464號公報
[0021] 專利文獻3 ;日本特開2005-314476號公報
[0022] 專利文獻4 ;日本特開2006-152235號公報
[0023] 專利文獻5 ;日本特開2009-275128號公報
[0024] 專利文獻6 :日本特許第4537450號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[00巧]發(fā)明要解決的課題
[0026]為了解決該課題，本發(fā)明人等進行了精也研究。
[0027]為了減少對被粘附體的污染并且也減少抗靜電性能的經(jīng)時變化，需要降低被推測 是污染被粘附體的原因的抗靜電劑的添加量。但是，當降低抗靜電劑的添加量時，會導致從 被粘附體上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓變高。本發(fā)明人等研究了在不增加抗靜電劑 添加量的絕對量的情況下較低地抑制從被粘附體上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓的方 法。其結果發(fā)現(xiàn)，不在粘結劑組合物中添加抗靜電劑并進行混合而形成粘結劑層，而是涂布 粘結劑組合物并進行干燥而層疊粘結劑層后，通過對粘結劑層表面賦予適量的抗靜電劑成 分，能夠較低地抑制從作為被粘附體的光學用膜上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓，并基 于上述發(fā)現(xiàn)完成了本發(fā)明。
[0028] 本發(fā)明就是鑒于上述情況而完成的，其課題在于提供一種對被粘附體的污染少、 且具有無經(jīng)時劣化（不隨著時間推移發(fā)生劣化）的優(yōu)良的抗剝離靜電性能的抗靜電表面保 護膜。
[0029] 解決課題的方法
[0030]為了解決上述課題，本發(fā)明抗靜電表面保護膜的技術思想在于，在涂布粘結劑組 合物并進行干燥而層疊粘結劑層后，對該粘結劑層的表面賦予適量的2(TC下是液體的聚娃 氧焼（silicone、娃麗）類化合物和抗靜電劑，由此，能夠較低地抑制對被粘附體的污染性， 而且能夠較低地抑制從作為被粘附體的光學用膜上剝離時的剝離靜電壓。
[0031]為了解決上述課題，本發(fā)明提供一種抗靜電表面保護膜，其是依次經(jīng)過下述工序 (1)~（2)進行制造而成，
[0032] 工序（1);在由具有透明性的樹脂構成的基材膜的單面上形成由粘結劑組合物構 成的粘結劑層的工序，
[0033]該粘結劑組合物包括：含有（A)烷基的碳原子數(shù)為C4~C18的（甲基）丙帰酸醋 單體中的至少一種、W及選自于作為可共聚單體組的由炬）含羥基的可共聚單體、（C)含駿 基的可共聚單體、值）聚亞烷基二醇單（甲基）丙帰酸醋單體和巧）不含羥基而含氮的己 帰基單體或含烷氧基的（甲基）丙帰酸烷基醋單體所組成的可共聚單體組中的至少一種的 共聚物的丙帰酸類聚合物；還包括（巧二官能W上的異氯酸醋化合物、佑）交聯(lián)促進劑、(H) 麗-帰醇互變異構體化合物，
[0034] 工序（2);將在樹脂膜單面上層疊含有抗靜電劑的剝離劑層而成的剝離膜，通過 所述剝離劑層貼合于前述粘結劑層的表面上的工序，
[00巧]前述剝離劑層是通過含有W二甲基聚娃氧焼作為主要成分的剝離劑、2(TC下是液 體的聚娃氧焼（silicone)類化合物和前述抗靜電劑的樹脂組合物來形成，前述粘結劑層 的剝離靜電壓為±〇.6kVW下。
[0036] 另外，優(yōu)選前述炬）含羥基的可共聚單體是選自于由（甲基）丙帰酸8-羥基辛醋、 (甲基）丙帰酸6-羥基己醋、（甲基）丙帰酸4-羥基下醋、（甲基）丙帰酸2-羥基己醋、 N-羥基（甲基）丙帰醜胺、N-輕甲基（甲基）丙帰醜胺、N-輕己基（甲基）丙帰醜胺所組 成的化合物組中的至少一種W上。
[0037]另外，優(yōu)選前述（C)含駿基的可共聚單體是選自于由（甲基）丙帰酸、（甲基）丙 帰酸駿己醋、（甲基）丙帰酸駿戊醋、2-(甲基）丙帰醜氧基己基六氨鄰苯二甲酸、2-(甲基） 丙帰醜氧基丙基六氨鄰苯二甲酸、2-(甲基）丙帰醜氧基己基鄰苯二甲酸、2-(甲基）丙帰 醜氧基己基玻巧酸、2-(甲基）丙帰醜氧基己基馬來酸、駿基聚己內(nèi)醋單（甲基）丙帰酸醋、 2-(甲基）丙帰醜氧基己基四氨鄰苯二甲酸所組成的化合物組中的至少一種W上。
[0038]另外，優(yōu)選值）聚亞烷基二醇單（甲基）丙帰酸醋單體為選自聚亞烷基二醇單（甲 基）丙帰酸醋、甲氧基聚亞烷基二醇（甲基）丙帰酸醋、己氧基聚亞烷基二醇（甲基）丙帰 酸醋中的至少一種W上。
[0039]另外，優(yōu)選前述丙帰酸類聚合物作為前述可共聚單體組含有前述巧）不含羥基而 含氮的己帰基單體或者含烷氧基的（甲基）丙帰酸烷基醋單體中