基膜展平裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種基膜展平裝置，包括進料輥和出料輥，所述進料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進料輥傳動進入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料輥傳出。本實用新型具有能保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象的優(yōu)點。
【專利說明】基膜展平裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及電池加工工具，尤其是涉及一種能保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象的基膜展平裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著涂布技術(shù)的發(fā)展，現(xiàn)已廣泛用于各種【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是在電池生產(chǎn)中，在基膜上涂布一層功能涂層是近年鋰離子電池隔膜改性的一個重要方向。
[0003]現(xiàn)有的涂布機在對電池隔膜進行涂布處理時，由于隔膜厚度較薄，基材本身張力不均勻，所以在涂布過程中常出現(xiàn)打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。
實用新型內(nèi)容
[0004]為解決上述問題，本實用新型目的在于提供一種隔膜涂布機的基膜展平結(jié)構(gòu)，用于保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象，在涂布完成時，使所得制品的外觀與力學(xué)性能均遠優(yōu)于同類產(chǎn)品的基膜展平裝置。
[0005]本實用新型通過以下技術(shù)措施實現(xiàn)的，一種基膜展平裝置，包括進料輥和出料輥，所述進料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進料輥傳動進入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料棍傳出。
[0006]作為一種優(yōu)選方式，所述弧形展平輥包括固定設(shè)置在機架間的弧形軸芯和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯外的輥殼，所述弧形軸芯的為上凸的弧形。
[0007]作為一種優(yōu)選方式，所述弧形展平輥至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置。
[0008]具體的優(yōu)選方式，所述弧形展平輥的弧高為2-10mm。
[0009]具體的優(yōu)選方式，所述基膜在弧形展平輥上形成的包角為10-30°。
[0010]作為一種優(yōu)選方式，所述輥殼由一平皮帶輪傳動。
[0011]本實用新型在進料和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，弧形展平輥可保證其接觸基膜的位置是一個中間高的弧形。從而保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型實施例工作時的剖面示意圖；
[0013]圖2為本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3為本實用新型實施例弧形展平輥的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4為本實用新型實施例弧形展平輥的剖面示意圖。

【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合實施例并對照附圖對本實用新型作進一步詳細說明。
[0017]本實施例的一種基膜展平裝置，請參考圖1至圖3，包括進料輥4和出料輥2，所述進料輥4和出料輥2之間設(shè)置有一弧形展平輥3，基膜I由進料輥4傳動進入經(jīng)弧形展平輥3展平后經(jīng)出料輥2傳出。
[0018]本基膜展平裝置在進料輥4和出料輥2之間設(shè)置有一弧形展平輥3，弧形展平輥3可保證其接觸基膜的位置是一個中間高的弧形。從而保證基膜的平整，減少涂布過程中出現(xiàn)的打皺、漏涂、收卷不平整等現(xiàn)象。
[0019]本實施例的基膜展平裝置，請參考圖2至圖4，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3包括固定設(shè)置在機架5間的弧形軸芯31和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯31外的輥殼32，所述弧形軸芯31的為上凸的弧形。
[0020]本實施例的基膜展平裝置，請參考圖2和圖3，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置6，高度調(diào)節(jié)裝置6通過安裝架7安裝在機架5上。
[0021]本實施例的基膜展平裝置，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，弧形展平輥3的弧高為2-10mm。
[0022]本實施例的基膜展平裝置，請參考圖1，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，基膜I在弧形展平輥3上形成的包角為10-30°。
[0023]本實施例的基膜展平裝置，在前面技術(shù)方案的基礎(chǔ)上具體還可以是，輥殼由一平皮帶輪傳動(圖中未示出)，輥殼可根據(jù)實際使用工況主動旋轉(zhuǎn)。
[0024]以上是對本實用新型基膜展平裝置進行了闡述，用于幫助理解本實用新型，但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制，任何未背離本實用新型原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍的內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基膜展平裝置，其特征在于:包括進料輥和出料輥，所述進料輥和出料輥之間設(shè)置有一弧形展平輥，基膜由進料輥傳動進入經(jīng)弧形展平輥展平后經(jīng)出料輥傳出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥包括固定設(shè)置在機架間的弧形軸芯和旋轉(zhuǎn)包裹在弧形軸芯外的輥殼，所述弧形軸芯的為上凸的弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥至少一端設(shè)置有高度調(diào)節(jié)裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述弧形展平輥的弧高為2-10mmo
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述基膜在弧形展平輥上形成的包角為10-30°。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基膜展平裝置，其特征在于:所述輥殼由一平皮帶輪傳動。
【文檔編號】B05C13/02GK203830233SQ201420111876
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年3月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月12日
【發(fā)明者】王世剛, 鄭星 申請人:深圳市新嘉拓自動化技術(shù)有限公司