一種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，其特征在于包括如下組分：氧化劑1～2份，有機(jī)螯合劑2～3份，有機(jī)胺0.2～1份，磨料氧化鎂溶膠1～15份，去離子水20～30份，以重量份計(jì)；所述氧化劑為過氧醋酸或過氧異丁酸；所述有機(jī)胺為三乙胺或二異丁基胺。本發(fā)明組分形成中性及堿性的拋光液，可采用多種拋光摩擦顆粒的方法來提高拋光效果，大大降低了對(duì)硬盤邊緣的拋光損失，且對(duì)拋光機(jī)沒有任何腐蝕效應(yīng)，增加了拋光機(jī)的壽命。
【專利說明】一種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種拋光液及其制備方法，具體涉及一種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]拋光時(shí)表面處理常用的方法之一，目的是為了消除表面的細(xì)微不平，使得表面具有鏡面光澤。拋光不但能美化產(chǎn)品，還是保證產(chǎn)品質(zhì)量、延長使用壽命及發(fā)展新品種的重要手段，有時(shí)也能起到產(chǎn)品升值的作用。
[0003]拋光可以分為機(jī)械拋光、化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光，拋光液主要用于化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光。機(jī)械拋光主要利用的是拋光輪與拋光膏的精細(xì)磨料對(duì)零件進(jìn)行輕微切削和研磨，除去基體表面的細(xì)微不平，達(dá)到降低表面粗糙度的目的。拋光膏是由磨料和油脂兩大部分組成的，由于所用的磨料不同，油脂種類的差異，使拋光膏形成了多種不同的產(chǎn)品，使用在不同的場(chǎng)合。
[0004]化學(xué)拋光時(shí)金屬表面上微觀的凸起處在化學(xué)拋光液中的溶解速度比在微觀凹下去處的快，結(jié)果表面逐漸整平而獲得光滑、光亮表面的過程。
[0005]電化學(xué)拋光是對(duì)金屬制品表面進(jìn)行精加工的一種電化學(xué)方法，即把金屬工件置于所組成的電拋光液中，作為陽極進(jìn)行處理，降低工件表面微觀結(jié)構(gòu)的粗糙度，從而獲得鏡面般的光澤表面。一般對(duì)于難以用機(jī)械、化學(xué)方式拋光的或形狀較為復(fù)雜且光潔度要求高的工件多采用電化學(xué)拋光。
[0006]現(xiàn)有的拋光液為酸性，具有一定的腐蝕性，應(yīng)用于計(jì)算機(jī)硬盤時(shí)容易對(duì)計(jì)算機(jī)硬盤的邊緣產(chǎn)生損傷，且容易影響拋光機(jī)的壽命。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明目的:本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能夠堿性、對(duì)硬盤邊緣無損傷的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液。
[0008]本發(fā)明的另一目的在于提供這種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法。
[0009]技術(shù)方案:本發(fā)明所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，包括如下組分:氧化劑I~2份，有機(jī)螯合劑2~3份，有機(jī)胺0.2~1份，磨料氧化鎂溶膠I~15份，去離子水20~30份，以重量份計(jì)；
所述氧化劑為過氧醋酸或過氧異丁酸；有機(jī)螯合劑為檸檬酸銨；所述有機(jī)胺為三乙胺
或二異丁基胺。
[0010]優(yōu)選地，還包括表面活性劑0.2~0.5份。
`[0011 ] 進(jìn)一步優(yōu)選地，所述表面活性劑為磷酸鹽表面活性劑或環(huán)氧醚酯表面活性劑。
[0012]本發(fā)明所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的一種制備方法為:在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至7~10制得。[0013]本發(fā)明所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的另一種制備方法為:在去離子水中加入有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至7~10，在使用之前加入氧化劑并攪拌均勻。
[0014]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是:本發(fā)明組分形成中性及堿性的拋光液，可采用多種拋光摩擦顆粒的方法來提高拋光效果，大大降低了對(duì)硬盤邊緣的拋光損失，且對(duì)拋光機(jī)沒有任何腐蝕效應(yīng)，增加了拋光機(jī)的壽命。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明的保護(hù)范圍不局限于所述實(shí)施例。
[0016]實(shí)施例1:本發(fā)明計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，包括如下組分:氧化劑1份，有機(jī)螯合劑2份，有機(jī)胺0.2份，磷酸鹽表面活性劑0.2份，磨料氧化鎂溶膠1份，去離子水20份，以重量份計(jì)；所述氧化劑為過氧醋酸；所述有機(jī)胺為三乙胺。
[0017]計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法為:在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至7制得。
[0018]實(shí)施例2:本發(fā)明計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，包括如下組分:氧化劑2份，有機(jī)螯合劑3份，有機(jī)胺1份，環(huán)氧醚酯表面活性劑0.5份，磨料氧化鎂溶膠6份，去離子水30份，以重量份計(jì)；所述氧化劑為過氧異丁酸；所述有機(jī)胺為二異丁基胺。
[0019]所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法為:在去離子水中加入有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至10，在使用之前加入氧化劑并攪拌均勻。
[0020]實(shí)施例3:本發(fā)明計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，包括如下組分:氧化劑1.5份，有機(jī)螯合劑
2.5份，有機(jī)胺0.5份，磨料氧化鎂溶膠15份，去離子水25份，以重量份計(jì)；所述氧化劑為過氧醋酸；所述有機(jī)胺為三 乙胺。
[0021]所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法為:在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)螯合劑和磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至9制得。
[0022]如上所述，盡管參照特定的優(yōu)選實(shí)施例已經(jīng)表示和表述了本發(fā)明，但其不得解釋為對(duì)本發(fā)明自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本發(fā)明的精神和范圍前提下，可對(duì)其在形式上和細(xì)節(jié)上作出各種變化。
【權(quán)利要求】
1.一種計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，其特征在于包括如下組分:氧化劑I~2份，有機(jī)螯合劑2~3份，有機(jī)胺0.2~1份，磨料氧化鎂溶膠I~15份，去離子水20~30份，以重量份計(jì)； 所述氧化劑為過氧醋酸或過氧異丁酸；有機(jī)螯合劑為檸檬酸銨；所述有機(jī)胺為三乙胺或二異丁基胺。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，其特征在于:還包括表面活性劑0.2~0.5 份。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液，其特征在于:所述表面活性劑為磷酸鹽表面活性劑或環(huán)氧醚酯表面活性劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法，其特征在于: 在去離子水中加入氧化劑、有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至7~10制得。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3所述的計(jì)算機(jī)硬盤拋光液的制備方法，其特征在于: 在去離子水中加入有機(jī)螯合劑、表面活性劑、磨料氧化鎂溶膠后，攪拌均勻，再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)PH值至7~10，在使用之前加 入氧化劑并攪拌均勻。
【文檔編號(hào)】C09G1/02GK103881585SQ201410157503
【公開日】2014年6月25日 申請(qǐng)日期:2014年4月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月21日
【發(fā)明者】楊飏, 宋奇吼 申請(qǐng)人:楊飏, 宋奇吼