專利名稱：一種太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種太陽能電池的鍺襯底片，具體涉及一種太陽能鍺襯底片的上蠟工藝。
背景技術(shù)：
國內(nèi)外生產(chǎn)超薄(150μπι)太陽能鍺襯底片工藝中，化學(xué)機械拋光有如下幾種工藝:無臘拋光(Template拋光)和有臘拋光，而很多公司都采用無臘拋光技術(shù)。無臘拋光工藝中的Template模板含有玻璃纖維、樹脂等多種材料，其根據(jù)不同片子的直徑，內(nèi)設(shè)有凹槽，此Template能夠牢固貼在金屬載體上或者陶瓷盤上，在凹槽上噴淋純水，即可把晶片吸附進行化學(xué)機械拋光。首先將腐蝕后鍺片進行貼膜，貼膜后測試五點厚度，然后對貼膜的鍺片進行g(shù)rind打磨,打磨目的是避免拋光過程中貼膜與Template模板的凹槽產(chǎn)生磨損和毛刺。打磨后，將鍺片貼在Template模板的凹槽內(nèi)進行化學(xué)機械拋光，拋光結(jié)束后，用紫外燈照射將膜與鍺片進行分離。無蠟拋光工藝存在工藝操作繁瑣(增加背面貼膜、打磨、貼膜與鍺片分離工序)和Template模板使用前后保養(yǎng)的問題，如果貼膜或未打磨好，拋光液容易進入Template模板的凹槽內(nèi)，使其背部造成背侵,易跑片造成滿盤破損等缺點。有蠟拋光又分為固體蠟上盤和液體蠟上盤兩種，目前固體蠟拋光技術(shù)主要是人工上蠟拋光。人工操作前，將陶瓷盤進行加熱， 達到一定溫度(大于固體蠟的軟化點溫度)后，將固體蠟涂抹在加熱的陶瓷盤上，蠟涂均勻后，將鍺片粘貼在陶瓷盤上，然后人工按壓使其鍺片完全粘在陶瓷盤上，轉(zhuǎn)至冷卻臺冷卻后進行化學(xué)機械拋光。就人工操作而言，同一個人操作都難免存在差異，且人工上蠟存在很多問題:其一，蠟?zāi)ず穸炔蝗菀卓刂疲黄涠?，人工壓片每個人對鍺片的作用力不同，有大有小，鍺片強度會受到影響；其三，如取消人工壓片，采用機器操作，也存在缺點，固體蠟的流動性較差，蠟?zāi)?nèi)的氣泡擠壓不出來，使得鍺片表面有UR (日光燈下觀察表面凹凸不平)，TTV控制不均勻(ΤΤν〈15μπι)。隨著國內(nèi)外客戶對外延太陽能鍺襯底片的技術(shù)要求越來越高，以上幾種工藝無法滿足工藝要求。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種操作簡單、蠟?zāi)ず穸染鶆蚯也挥绊戞N片表面質(zhì)量的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法。技術(shù)方案:本發(fā)明提供了一種太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，包括以下步驟:
(1)將鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤上，背面向上，主面向下，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動；
(2)將液體蠟一次性滴在鍺片的中心位置，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)?，使用甩蠟機進行甩蠟轉(zhuǎn)速平均，故蠟?zāi)ず穸纫子诳刂疲烧{(diào)整甩蠟盤的轉(zhuǎn)速以獲得所需的蠟?zāi)ず穸?，且形成的蠟?zāi)ず穸纫恢拢舷灳鶆颍?br> (3)將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，用紅外燈進行烘烤，將液體蠟中的有機溶劑烘干，因有機溶劑有較強的滲透性，故祛除有機溶劑可有效避免污染物通過有機溶劑沾染到鍺片表層，保持鍺片表面的潔凈度，同時，防止有機溶劑危害人體健康；
(4)將鍺片背面向下粘貼在加熱的陶瓷盤上，使用壓片機進行壓片，冷卻后待拋光。優(yōu)選的，所述甩蠟盤的轉(zhuǎn)速為1500 2000r/min，甩蠟時間為8 15s，由于轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，液體蠟在離心力的作用下均勻鋪開，所述轉(zhuǎn)速保證形成的蠟?zāi)ず穸仍?-3 μ m之間，設(shè)置的甩蠟時間在使鍺片背面上無遺漏的覆蓋到液體蠟的同時，防止由于甩蠟過程過長或甩蠟過于劇烈造成蠟?zāi)べ|(zhì)量下降的問題，同時保證鍺片上蠟完全和蠟?zāi)ず穸冗m中，具體甩蠟盤轉(zhuǎn)速和甩蠟時間根據(jù)鍺片的大小確定。優(yōu)選的，所述液體蠟的滴蠟量為f 3ml，滴蠟用量由鍺片的尺寸決定，所述滴蠟量保證鍺片被蠟?zāi)ね耆采w，同時不會造成多余液體蠟浪費。優(yōu)選的，所述紅外燈的加熱溫度為140 180°C，加熱時間在30s以內(nèi)，一方面可將液體蠟稍加凝固，以不發(fā)生流動為準(zhǔn)，以便壓片時能將鍺片穩(wěn)固的粘貼在陶瓷盤上，另一方面，可將蠟液中的有機溶劑蒸發(fā)完全。優(yōu)選的，所述壓片的壓力為0.05 1.5Mpa，壓片時間5 10s，壓片時鍺片受力均勻，故，壓片后鍺片的TTV (平整度)良好，且液體蠟的蠟?zāi)?nèi)氣泡可全部擠出，防止因氣泡影響鍺片的TTV，可通過壓片壓力和壓片時間控制鍺片TTV的生產(chǎn)要求，避免因人工壓片造成的鍺片強度降低問題。為了提高滴蠟環(huán)境的潔凈程度，步驟(I廣步驟(4)在室溫20°C以上、濕度在40% 60%范圍內(nèi)的環(huán)境中進行，減少浮塵量及漂浮度，此時鍺片足夠潔凈，如若鍺片表面灰塵顆粒過多，會造成甩蠟過程中，蠟?zāi)ず穸炔痪鶆颍瑝浩瑫r鍺片表面有凹坑，影響鍺片表面平整度。有益效果:1、與固體蠟化學(xué)機械拋光工藝相比，使用液體蠟并通過甩蠟機上蠟，避免了人為因素的差異，蠟 厚更加均勻且容易控制，可重復(fù)性高，蠟?zāi)ず穸冗m中，蠟?zāi)ね耆采w鍺片的同時不會造成液體蠟浪費，提高了太陽能鍺襯底片的技術(shù)參數(shù)要求，TTV控制在5μπι左右；2、人工壓片作用在鍺片上的力大小不一，造成鍺片強度不均勻性且強度降低，液體蠟使用后，通過設(shè)置的壓片機的壓力及壓片時間，保持壓力一定，鍺片受力均勻，壓片后鍺片表面平整，且鍺片強度得到保證，不易碎片，液體蠟在壓片的過程中氣泡可完全排除，不會產(chǎn)生UR，有效控制鍺片TTV在5 μ m以內(nèi)；3、減少了人工操作的疲勞，提高了勞動生產(chǎn)效率，降低了加工成本，甩蠟的過程中可裝配回收裝置，用過的液體蠟可重復(fù)使用，提高輔材的利用率，節(jié)省成本。


圖1為本發(fā)明所述甩蠟機的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面對本發(fā)明技術(shù)方案進行詳細(xì)說明，但是本發(fā)明的保護范圍不局限于所述實施例。實施例:
實施例1:室溫20°C，濕度在40%，以4吋鍺片為例，其上蠟方法包括以下步驟:
(I)將經(jīng)過化學(xué)腐蝕的鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤I上，背面向上，主面向下，設(shè)置甩蠟盤I的轉(zhuǎn)速為1500r/min，甩蠟時間為8s，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤I帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動；
(2)用膠頭滴管2吸取Iml液體蠟，全部一次性滴在鍺片的中心，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)ぃ?s后甩蠟機停止甩蠟工作，此時鍺片的背面形成一層均勻蠟?zāi)ぃο灡PI的底部安裝有托盤，托盤接有回收管道3，甩出的液體蠟可通過回收管道3流入蠟液回收箱4，進行二次利用，避免浪費節(jié)省成本；
(3)將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，有蠟面向上，待拋光主面向下，用紅外燈進行烘烤，烘烤溫度為140°C，烘烤時間為10s，將液體蠟中的有機溶劑烘干；
(4)烘烤結(jié)束后，將鍺片粘貼在預(yù)先加熱到150°C的陶瓷盤上，使用壓片機進行壓片，壓片壓力0.05Mpa，壓片時間5s，冷卻后，測量鍺片厚度，根據(jù)厚度要求進行化學(xué)機械拋光。經(jīng)過以上步驟進行拋光的鍺片，其TTV基本控制在5 μ m以內(nèi)，蠟厚在2 3 μ m，鍺片強度較人工壓片條件下大幅度提高，人工壓片時，由于人為因素，有部分鍺片強度低于5bf，采用本方法后，鍺片強度基本都在5bf以上。實施例2:室溫25°C，濕度在50%，以6吋鍺片為例，其上蠟方法包括以下步驟:
(1)將經(jīng)過化學(xué)腐蝕的鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤I上，背面向上，主面向下，設(shè)置甩蠟盤I的轉(zhuǎn)速為1800r/min，甩蠟時間為10s，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤I帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動；
(2)用膠頭滴管2吸取2ml液體蠟，全部一次性滴在鍺片的中心，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)?，IOs后甩蠟機停止甩蠟工作，此時鍺片的背面形成一層均勻蠟?zāi)ぃ?br> (3)將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，有蠟面向上，待拋光主面向下，用紅外燈進行烘烤，烘烤溫度為160°C，烘烤時間為20s，將液體蠟中的有機溶劑烘干；
(4)烘烤結(jié)束后，將鍺片粘貼在預(yù)先加熱到150°C的陶瓷盤上，使用壓片機進行壓片，壓片壓力1.0Mpa，壓片時間8s，冷卻后，測量鍺片厚度，根據(jù)厚度要求進行化學(xué)機械拋光。經(jīng)過以上步驟進行拋光的鍺片，其TTV基本控制在5 μ m以內(nèi)，蠟厚在2.5 3 μ m，鍺片強度基本都在6bf以上。實施例3:室溫20°C，濕度60%，以12吋鍺片為例，其上蠟方法包括以下步驟:
(1)將經(jīng)過化學(xué)腐蝕的鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤I上，背面向上，主面向下，設(shè)置甩蠟盤I的轉(zhuǎn)速為2000r/min，甩蠟時間為15s，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤I帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動；
(2)用膠頭滴管2吸取3ml液體蠟，全部一次性滴在鍺片的中心，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)ぃ?5s后甩蠟機停止甩蠟工作，此時鍺片的背面形成一層均勻蠟?zāi)ぃ?br> (3)將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，有蠟面向上，待拋光主面向下，用紅外燈進行烘烤，烘烤溫度為180°C，烘烤時間為30s，將液體蠟中的有機溶劑烘干；
(4)烘烤結(jié)束后，將鍺片粘貼在預(yù)先加熱到150°C的陶瓷盤上，使用壓片機進行壓片，壓片壓力1.5Mpa，壓片時間10s，冷卻后，測量鍺片厚度，根據(jù)厚度要求進行化學(xué)機械拋光。經(jīng)過以上步驟進行拋光的鍺片，其TTV基本控制在5 μ m以內(nèi)，蠟厚在2.5 3 μ m，鍺片強度基本都在5bf以上。如上所述，盡管參照特定的優(yōu)選實施例已經(jīng)表示和表述了本發(fā)明，但其不得解釋為對本發(fā)明自身的 限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本發(fā)明的精神和范圍前提下，可對其在形式上和細(xì)節(jié)上作出各種變化。
權(quán)利要求
1.一種太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:包括以下步驟: (1)將鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤(I)上，背面向上，主面向下，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤(I)帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動； (2)將液體蠟一次性滴在鍺片的中心位置，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)ぃ? (3)將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，用紅外燈進行烘烤； (4)將鍺片粘貼在加熱的陶瓷盤上，進行壓片，冷卻后待拋光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:所述甩蠟盤(I)的轉(zhuǎn)速為1500 2000r/min，甩蠟時間為8 15s。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:所述液體蠟的滴臘量為I 3ml。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:所述紅外燈的加熱溫度為140 180°C，加熱時間30s以內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:所述壓片的壓力為0.05 1.5Mpa，壓片時間5 10s。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，其特征在于:步驟(I廣步驟(4)在室溫20°C以上、濕度在40% 60%范圍內(nèi)的環(huán)境中進行。 ·
全文摘要
本發(fā)明公開了一種太陽能電池鍺襯底片的上蠟方法，包括以下步驟將鍺片放置在甩蠟機的甩蠟盤上，背面向上，主面向下，運轉(zhuǎn)甩蠟機，甩蠟盤帶動其上的鍺片轉(zhuǎn)動；將液體蠟一次性滴在鍺片的中心位置，隨著鍺片的轉(zhuǎn)動在鍺片背面上形成蠟?zāi)?；將鍺片從甩蠟機上取下，放置在陶瓷盤上，用紅外燈進行烘烤；將鍺片粘貼在加熱的陶瓷盤上，進行壓片，冷卻后待拋光；與固體蠟化學(xué)機械拋光工藝相比，使用液體蠟并通過甩蠟機上蠟，蠟厚更加均勻且容易控制，可重復(fù)性高，蠟?zāi)ず穸冗m中，蠟?zāi)ね耆采w鍺片的同時不會造成液體蠟浪費，提高了太陽能鍺襯底片的技術(shù)參數(shù)要求，TTV控制在5μm左右。
文檔編號B05D7/14GK103240219SQ20131017950
公開日2013年8月14日 申請日期2013年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月15日
發(fā)明者王卿泳, 孫小華, 郭德文, 趙雙艷 申請人:中鍺科技有限公司