專利名稱：藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種藍(lán)光光盤的旋涂設(shè)備，尤其涉及ー種可對(duì)覆蓋層的厚度進(jìn)行實(shí)時(shí)地檢測(cè)及調(diào)整的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備。
背景技術(shù)：
藍(lán)光光盤(Blu-ray Disc，縮寫為BD)是ー種超大容量的光盤存儲(chǔ)技術(shù)，藍(lán)光光盤利用波長(zhǎng)為450nm的藍(lán)色激光讀取和寫入數(shù)據(jù)而傳統(tǒng)的DVD利用波長(zhǎng)為650nm的紅色激光，通常來(lái)說(shuō)波長(zhǎng)越短的激光，能夠在單位面積上記錄或讀取的信息更多，因此藍(lán)光技術(shù)極大的提高了光盤的存儲(chǔ)容量，藍(lán)光光盤擁有5倍于現(xiàn)有DVD光盤規(guī)格的存儲(chǔ)能力，不但可應(yīng)用于錄制、擦寫或播放高清影像同時(shí)也可用于存儲(chǔ)容量更巨大的數(shù)字內(nèi)容，因此藍(lán)光存儲(chǔ)技術(shù)是下一代光存儲(chǔ)技術(shù)的主流技術(shù)之一。 藍(lán)光光盤在結(jié)構(gòu)上徹底脫離了 DVD光盤“0.6mm+0.6mm”設(shè)計(jì)，采用了全新的“I. Imm基板+O. Imm保護(hù)層”結(jié)構(gòu),借助ー層經(jīng)特殊設(shè)計(jì)的超薄型可透光的O. Imm保護(hù)層結(jié)構(gòu)，克服了 DVD光盤在數(shù)據(jù)讀取時(shí)因雙折射而無(wú)法讀取數(shù)據(jù)的問(wèn)題，同時(shí)，還大幅度降低激光照射角度偏離90°正常狀態(tài)下的相差問(wèn)題，進(jìn)而有效解決DVD在使用O. 6mm厚透光基板時(shí)一直困擾的數(shù)據(jù)再生錯(cuò)誤問(wèn)題；而在制造BD時(shí)，要求先注塑出I. Imm厚的基板，然后在基板上依次形成記錄層、覆蓋層及硬保護(hù)層，得到完整的BD光盤；由于藍(lán)光光盤采用了更短的波長(zhǎng)(450nm)和更大的數(shù)值孔徑，因此其對(duì)平直度的要求很高，激光讀取平面的垂直方向精度要求控制在±2um的范圍內(nèi)，所以藍(lán)光光盤對(duì)于覆蓋層及硬保護(hù)層的均勻性和厚度精度的要求相當(dāng)嚴(yán)格，為了滿足這個(gè)厚度公差，需要實(shí)現(xiàn)更強(qiáng)的光盤制造精確性。在覆蓋層的形成過(guò)程中，影響覆蓋層厚度的因素比較多，主要有一、エ藝參數(shù)的合理性；ニ、環(huán)境溫度的波動(dòng)；三、膠水的粘度(特性)；在上述三項(xiàng)中，可以把第二、三項(xiàng)歸結(jié)為外部因素的變化，是生產(chǎn)產(chǎn)設(shè)備需要適應(yīng)的，可通過(guò)增加空調(diào)設(shè)備、指定專用的生產(chǎn)原材料等保證其有最佳的穩(wěn)定性，但這無(wú)疑増加了生產(chǎn)成本，對(duì)相應(yīng)的操作人員的技能和エ作量也有了更高的要求；為使生產(chǎn)設(shè)備盡可能穩(wěn)定以保證生產(chǎn)光盤的質(zhì)量，須使生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)部進(jìn)行調(diào)節(jié)以適應(yīng)外部的變化，以最終保證生產(chǎn)光盤質(zhì)量；但在傳統(tǒng)エ藝中，生產(chǎn)設(shè)備未采用閉環(huán)控制，覆蓋層厚度變化的幅度和變化率較大，最終影響光盤的合格率，造成不必要的原材料消耗和浪費(fèi)。因此，有必提供一種可實(shí)時(shí)地檢測(cè)及修復(fù)覆蓋層生產(chǎn)エ藝參數(shù)的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備以解決現(xiàn)有技術(shù)的不足。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可實(shí)時(shí)地檢測(cè)及修復(fù)覆蓋層生產(chǎn)エ藝參數(shù)的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為提供一種藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋涂機(jī)構(gòu)、檢測(cè)機(jī)構(gòu)及控制機(jī)構(gòu)，所述旋涂機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述藍(lán)光光盤生產(chǎn)線上，所述控制機(jī)構(gòu)與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋涂機(jī)構(gòu)對(duì)藍(lán)光光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)用于實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度，實(shí)時(shí)地調(diào)整并控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)修復(fù)旋涂エ藝參數(shù)。較佳地，所述控制機(jī)構(gòu)包括膜厚設(shè)定單元、運(yùn)算單元及通信単元，所述通信単元與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，所述膜厚設(shè)定單元用于預(yù)設(shè)覆蓋層的厚度，所述通信単元用于將檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度傳輸?shù)剿鲞\(yùn)算単元，所述運(yùn)算単元用于將覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，以得出實(shí)時(shí)地控制參數(shù)；所述通信単元再將所述運(yùn)算單元運(yùn)算得出的控制參數(shù)傳輸?shù)剿鲵?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。較佳地，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為響應(yīng)電機(jī)。 較佳地，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)為在線掃描儀。較佳地，所述旋涂機(jī)構(gòu)包括旋涂碗及下料手，所述旋涂碗與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋涂碗旋轉(zhuǎn)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋涂機(jī)構(gòu)、檢測(cè)機(jī)構(gòu)及控制機(jī)構(gòu)，所述旋涂機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述藍(lán)光光盤生產(chǎn)線上，所述控制機(jī)構(gòu)與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋涂機(jī)構(gòu)對(duì)光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層；因此，可利用所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出控制參數(shù)，并實(shí)時(shí)地控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)修復(fù)旋涂エ藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)時(shí)間及加速度等參數(shù)，形成旋涂エ藝的閉環(huán)控制，從而使覆蓋層厚度變化的幅度和變化率較小，使光盤的合格率升高，井能節(jié)約原材料。

圖I是本實(shí)用新型藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備的原理框圖。圖2是本實(shí)用新型藍(lán)光光盤生產(chǎn)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是圖2中旋涂機(jī)構(gòu)的放大示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元件。如圖I-圖3所示，本實(shí)用新型所述藍(lán)光光盤的生產(chǎn)系統(tǒng)100，其包括依次連接于生產(chǎn)線上的第一濺鍍站101、染料涂布機(jī)構(gòu)102、掃描儀103、烘烤箱104、第二濺鍍站105、清邊機(jī)構(gòu)106、軟保護(hù)層旋涂機(jī)構(gòu)107、覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108、硬保護(hù)層旋涂機(jī)構(gòu)109、翻碟機(jī)構(gòu)110、檢測(cè)機(jī)構(gòu)111及第防水層濺鍍站112 ;生產(chǎn)藍(lán)光光盤時(shí)，基片經(jīng)注塑機(jī)傳輸至第一濺鍍站101內(nèi)濺鍍金屬反射層，然后傳輸至染料涂布機(jī)構(gòu)102，在染料涂布機(jī)構(gòu)102內(nèi)形成染料層，再傳輸至掃描儀103內(nèi)對(duì)基片行掃描檢測(cè),檢測(cè)完成后的基片分級(jí)存放,合格的基片傳送到烘烤箱104內(nèi)將染料層烘干，烘干染料層后的基片傳輸至第二濺鍍站105內(nèi)濺鍍緩沖層，完成后將基片傳輸至清邊機(jī)構(gòu)106內(nèi)，清除基片濺鍍范圍之外的區(qū)域上的材料，清洗完成后的基片傳輸至軟保護(hù)層旋涂機(jī)構(gòu)107，旋涂形成軟保護(hù)層并對(duì)軟保護(hù)層進(jìn)行固化后，之后再次對(duì)基片進(jìn)行清洗處理，然后，再將清洗后的基片傳輸至覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108，在覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108內(nèi)旋涂形成覆蓋層并對(duì)覆蓋層進(jìn)行固化處理，然后將基片傳輸至硬保護(hù)層旋涂機(jī)構(gòu)109，旋涂形成硬保護(hù)層并固化，固化完成后的基片經(jīng)翻碟機(jī)構(gòu)110的翻碟手對(duì)其進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，翻轉(zhuǎn)后的基片再傳送到檢測(cè)機(jī)構(gòu)111進(jìn)行檢測(cè)，檢測(cè)完后檢測(cè)后將合格基片和不合格基片分開(kāi)放置；經(jīng)檢測(cè)合格后的基片還可傳送到防水層濺鍍站112濺鍍形成一防水層，濺鍍完防水層后放置到收碟轉(zhuǎn)盤。為保證覆蓋層厚度變化的幅度、變化率較小，需對(duì)覆蓋層的厚度進(jìn)行實(shí)時(shí)地檢測(cè)，并依檢測(cè)的實(shí)際厚度來(lái)調(diào)整及控制覆蓋層旋涂エ藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋涂時(shí)間及加速度等エ藝參數(shù)，以保證藍(lán)光光盤的良品率。為此，本實(shí)用新型所提供的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，采用閉環(huán)控制系統(tǒng)，其除具有覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108タト，還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200、控制機(jī)構(gòu)300及檢測(cè)機(jī)構(gòu)400，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400 設(shè)置于所述藍(lán)光光盤的生產(chǎn)線上，所述控制機(jī)構(gòu)300與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200均電連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200驅(qū)動(dòng)所述覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108對(duì)光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400用于實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，所述控制機(jī)構(gòu)300根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度，與覆蓋層的預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出兩者之間的差值以形成控制參數(shù)，并實(shí)時(shí)地控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200修復(fù)旋涂エ藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋涂時(shí)間及加速度等參數(shù)；具體地，所述控制機(jī)構(gòu)300包括膜厚設(shè)定單元301、運(yùn)算單元302及通信単元303，所述通信単元303與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200均電連接，所述膜厚設(shè)定單元301用于預(yù)設(shè)覆蓋層的厚度，所述通信単元303用于將檢測(cè)機(jī)構(gòu)400檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度傳輸?shù)剿鲞\(yùn)算単元302，所述運(yùn)算単元302用于將覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，以得出實(shí)時(shí)地控制參數(shù)；所述通信単元303再將所述運(yùn)算單元302運(yùn)算得出的控制參數(shù)傳輸?shù)剿鲵?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200 ;而所述覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108則還包括旋涂碗108a及下料手108b，所述旋涂碗108a與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200的輸出軸連接，下料手108b對(duì)基片下膠完成后，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200驅(qū)動(dòng)所述旋涂碗108a旋轉(zhuǎn)以形成覆蓋層。另外，根據(jù)閉關(guān)控制的算法公式E(t) = SP(t)-PV(t)在上式中，E(t)為設(shè)定值與實(shí)際值的差值，SP (t)為設(shè)定值，在此為時(shí)間的函數(shù)；PV(t)為實(shí)際值,在此也為時(shí)間的函數(shù)。通過(guò)上式可知，最為關(guān)鍵的是要得到覆蓋層厚度的實(shí)際值，即PV (t)，而實(shí)際值的測(cè)量需考慮一、檢測(cè)的結(jié)果和生產(chǎn)線的最終產(chǎn)品的該指標(biāo)無(wú)差異，能真實(shí)反正最終品質(zhì)的實(shí)際情況；ニ、檢測(cè)的數(shù)據(jù)要統(tǒng)一，不需要額外的效驗(yàn)環(huán)節(jié)；因此，在本實(shí)用新型的ー個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)200采用在線掃描儀，使得覆蓋層實(shí)際厚度的檢測(cè)準(zhǔn)確、簡(jiǎn)便；另外、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)采用高速、搞動(dòng)態(tài)響應(yīng)電機(jī)，以方便實(shí)現(xiàn)軟件編程控制。利用本實(shí)用新型所提供的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備旋涂形成覆蓋層的方法，包括如下步驟(I)檢測(cè)所述覆蓋層的實(shí)際厚度；(2)將所述覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出控制參數(shù)；(3)根據(jù)所述控制參數(shù)自動(dòng)修復(fù)旋涂エ藝參數(shù)；(4)重復(fù)上述步驟(I) (3)直至完成覆蓋層的旋涂。[0029]其中，所述步驟⑵包括如下步驟(21)接收檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度；(22)將所述覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出控制參數(shù)；(23)將運(yùn)算得出的控制參數(shù)輸出。優(yōu)選地，所述步驟(I)之前還包括預(yù)設(shè)覆蓋層厚度的步驟。下面結(jié)合圖I-圖3所示，對(duì)本實(shí)用新型藍(lán)光光盤覆蓋層的形成及控制進(jìn)行說(shuō)明。藍(lán)光光盤生產(chǎn)前，先通過(guò)控制機(jī)構(gòu)300的膜厚設(shè)定單元301預(yù)設(shè)覆蓋層的厚度，開(kāi)始生產(chǎn)藍(lán)光光盤后，在旋涂機(jī)構(gòu)108旋涂形成覆蓋層的過(guò)程中，安裝于生產(chǎn)線上的檢測(cè)機(jī)構(gòu)400實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，并將檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度傳輸至控制機(jī)構(gòu)300，控制機(jī)構(gòu)300的運(yùn)算單元302將接收到的覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度之間的差值，即的得出控制參數(shù)，并通過(guò)通信単元303將所述控制參數(shù)輸出至驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200，以實(shí)時(shí)地控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200修復(fù)旋涂エ藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)時(shí)間及加速度等參數(shù)，形成旋涂エ藝的閉環(huán)控制，以保證覆蓋層的高精度。由于本實(shí)用新型藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其包括覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200、控制機(jī)構(gòu)300及檢測(cè)機(jī)構(gòu)400，所述覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200的輸出軸連接，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400設(shè)置于所述藍(lán)光光盤生產(chǎn)線上，所述控制機(jī)構(gòu)300與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200均電連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200驅(qū)動(dòng)所述覆蓋層旋涂機(jī)構(gòu)108對(duì)光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層；因此，可利用所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，所述控制機(jī)構(gòu)300根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)400檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出控制參數(shù)，并實(shí)時(shí)地控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)200修復(fù)旋涂エ藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)時(shí)間及加速度等參數(shù)，形成旋涂エ藝的閉環(huán)控制，從而使覆蓋層厚度變化的幅度和變化率較小，使藍(lán)光光盤的合格率升高，井能節(jié)約原材料。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本實(shí)用新型所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求1.一種藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其特征在于，包括 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)； 旋涂機(jī)構(gòu)，所述旋涂機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋涂機(jī)構(gòu)對(duì)藍(lán)光光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層； 檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述藍(lán)光光盤生產(chǎn)線上，用于實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度 '及 控制機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度，實(shí)時(shí)地調(diào)整并控制所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)修復(fù)旋涂エ藝參數(shù)。
2.如權(quán)利要求I所述的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其特征在于，所述控制機(jī)構(gòu)包括 膜厚設(shè)定單元，所述膜厚設(shè)定單元用于預(yù)設(shè)覆蓋層的厚度； 運(yùn)算單元，所述運(yùn)算単元用于將覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，以得出實(shí)時(shí)地控制參數(shù) '及 通信単元，所述通信単元與所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)、所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，所述通信単元用于將檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度傳輸?shù)剿鲞\(yùn)算単元，并將所述運(yùn)算単元運(yùn)算得出的控制參數(shù)傳輸?shù)剿鲵?qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求I所述的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為響應(yīng)電機(jī)。
4.如權(quán)利要求I所述的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其特征在于所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)為在線掃描儀。
5.如權(quán)利要求I所述的藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其特征在于所述旋涂機(jī)構(gòu)包括旋涂碗及下料手，所述旋涂碗與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋涂碗旋轉(zhuǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種藍(lán)光光盤旋涂設(shè)備，其包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、旋涂機(jī)構(gòu)、檢測(cè)機(jī)構(gòu)及控制機(jī)構(gòu)，旋涂機(jī)構(gòu)與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸連接，檢測(cè)機(jī)構(gòu)設(shè)置于藍(lán)光光盤生產(chǎn)線上，控制機(jī)構(gòu)與檢測(cè)機(jī)構(gòu)、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均電連接，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)旋涂機(jī)構(gòu)對(duì)光盤進(jìn)行旋涂以形成覆蓋層；利用檢測(cè)機(jī)構(gòu)實(shí)時(shí)地檢測(cè)覆蓋層的實(shí)際厚度，控制機(jī)構(gòu)根據(jù)檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)到的覆蓋層的實(shí)際厚度與預(yù)設(shè)厚度進(jìn)行對(duì)比運(yùn)算，得出控制參數(shù)，并實(shí)時(shí)地控制驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)修復(fù)旋涂工藝中的旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)時(shí)間及加速度等，形成旋涂工藝的閉環(huán)控制，從而使覆蓋層厚度變化的幅度和變化率較小，使光盤的合格率升高，并能節(jié)約原材料。
文檔編號(hào)B05C11/08GK202447257SQ20122001625
公開(kāi)日2012年9月26日 申請(qǐng)日期2012年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月13日
發(fā)明者劉惠森, 楊明生, 楊順先, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司