專利名稱：適于與外涂敷的光刻膠一起使用的涂料組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種組合物(包括減反射涂料組合物或“ARC”)，它可減少曝光輻照從 基材反射回到外涂敷的光刻膠層(overcoated photoresist layer)和/或作為平面化或 通孔填充(via-fill)層。更具體地，本發(fā)明涉及有機(jī)涂料組合物，特別是減反射涂料組合 物，它能夠用水性堿顯影劑顯影，包括在顯影外涂敷的光刻膠層過程的單步中。
背景技術(shù)：
光刻膠是用于將圖像轉(zhuǎn)移到基材上的光敏膜。光刻膠涂層形成在基材上，然后將 光刻膠層通過光掩模暴露于活化輻照源。曝光后，顯影光刻膠以提供浮雕圖像，從而可選擇 性加工基材。光刻膠主要用于半導(dǎo)體制造，其目的是將高度拋光的半導(dǎo)體晶片(例如硅或砷化 鎵)轉(zhuǎn)換成能夠執(zhí)行電路功能的電子傳導(dǎo)通路復(fù)雜矩陣(matrix)，優(yōu)選是微米或亞微米幾 何特征。正確的光刻膠加工是達(dá)到該目的的關(guān)鍵。盡管各光刻膠加工步驟的相互依存性較 高，但是曝光被認(rèn)為是得到高分辨率光刻膠圖像的最重要步驟中的一個。用于曝光光刻膠的活化輻照的反射通常對形成在光刻膠層中的圖像的分辨率造 成限制。輻照在所述基材/光刻膠界面上的反射可在光刻膠的輻照強(qiáng)度中形成空間變化， 從而在顯影時導(dǎo)致不均勻的光刻膠線寬。輻照也可從所述基材/光刻膠界面散射到不需要 發(fā)生曝光的光刻膠區(qū)域，從而再次導(dǎo)致線寬變化。散射和反射的數(shù)量通常是各個區(qū)域都不 同，從而進(jìn)一步導(dǎo)致線寬不均勻。基材拓?fù)湫螒B(tài)的變化也加劇了分辨率限制問題。用于降低輻照反射問題的一個方法是在所述基材表面和所述光刻膠涂層之間插 入輻照吸收層。盡管目前的有機(jī)減反射涂料組合物對于許多應(yīng)用是高度有效的，但是也經(jīng)常需 要有特別的減反射組合物來滿足特定的加工要求。例如，可能需要通過等離子體蝕刻之 外的方法來除去已經(jīng)暴露在外涂敷的光刻膠外面的交聯(lián)減反射層(例如正性光刻膠，通 過水性堿顯影劑來區(qū)域曝光的光刻膠區(qū)域)。參見美國專利6844131和美國專利公開號 20050181299。這些方法提供了避免其他加工步驟和與等離子體蝕刻除去底部減反射涂層 相關(guān)的缺陷的潛在可能性?？赡苄枰軌蛟谥圃煳㈦娮泳^程中用作底涂減反射涂層的新組合物。可能特 別需要用作底涂減反射涂層并能夠用水性光刻膠顯影劑除去的新組合物。

發(fā)明內(nèi)容
我們現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)了一種特別用作外涂敷的光刻膠層用的底涂減反射涂層的新涂料 組合物。重要的是，可除去本發(fā)明的優(yōu)選加工的涂料組合物以使底涂表面暴露于用于顯影 外涂敷的光刻膠層的水性堿顯影劑。這提供了多種顯著的優(yōu)點，包括減少了其他加工步驟 和使用等離子體蝕刻以除去所述底涂層所需的成本。
具體實施例方式更具體地，本發(fā)明第一方面提供了一種組合物，它包括含多個、不同官能團(tuán)的組分 (有時候在本文中稱為“反應(yīng)組分”)。通常，優(yōu)選的反應(yīng)組分是包括至少四個不同官能團(tuán)的四元聚合物(四種不同的重 復(fù)單元)。在一個優(yōu)選的方面中，所述反應(yīng)組分(四元聚合物)包括能夠帶來下述性質(zhì)的 至少四個不同的官能團(tuán)(1)分解速率抑制性；(2)耐剝離性；(3)所需的水性堿顯影劑溶 解性(例如光酸不穩(wěn)定基團(tuán)，如光酸不穩(wěn)定酯(如"C( = 0)OC(CH3)3)或縮醛(acetal)部 分)；和(4)吸收不需要的光刻膠曝光輻照反射的發(fā)色團(tuán)(例如碳環(huán)芳基，如優(yōu)選取代的苯 基、萘基或蒽基)。除了所述反應(yīng)組分以外，本發(fā)明的涂料組合物也可任選包含一種或多種其他材 料。例如本發(fā)明的涂料組合物可包括含發(fā)色團(tuán)的其他組分，該發(fā)色團(tuán)能夠吸收用于曝光外 涂敷的光刻膠層并反射回到光刻膠層的不需要的輻照。該發(fā)色團(tuán)可存在于各種組合物組分 中，包括反應(yīng)組分本身或者可包括發(fā)色團(tuán)的其他組分，例如加入的樹脂，該加入的樹脂可具 有發(fā)色團(tuán)作為主鏈單元或側(cè)基，和/或包含一個或多個發(fā)色部分的加入的小分子(例如分 子量小于約1000或500)。通常，包含在本發(fā)明涂料組合物中的優(yōu)選發(fā)色團(tuán)(特別是用于減反射用途的那 些)包括單環(huán)或多環(huán)芳香基團(tuán)，如任選取代的苯基、優(yōu)選取代的萘基、任選取代的蒽基、優(yōu) 選取代的菲基(phenanthracenyl)、優(yōu)選取代的喹啉基等。特別優(yōu)選的發(fā)色團(tuán)可隨著用于曝 光外涂敷的光刻膠層的輻照而變化。更具體地說，對于在248nm的外涂敷的光刻膠的曝光， 任選取代的蒽和任選取代的萘基是該減反射組合物的優(yōu)選發(fā)色團(tuán)。對于在193nm的外涂敷 的光刻膠的曝光，任選取代的苯基和任選取代的萘基是特別優(yōu)選的發(fā)色團(tuán)。本發(fā)明的涂料組合物也可任選包括酸或產(chǎn)酸化合物(例如光酸產(chǎn)生劑和/或熱酸 產(chǎn)生劑)，以在施加的組合物涂層的平版印刷熱處理過程中促進(jìn)組合物組分的反應(yīng)。光酸產(chǎn) 生劑化合物(photoacid generator compound)(即在暴露于活化輻照(如193nm)的過程 中能產(chǎn)生酸的化合物)和/或熱酸產(chǎn)生劑化合物(即在熱處理過程中能產(chǎn)生酸的化合物) 通常是合適的。包含在底涂組合物中的光酸產(chǎn)生劑化合物可在用輻照處理的過程中產(chǎn)生酸，該輻 照用于曝光外涂敷的光刻膠層。通過使用該光酸產(chǎn)生劑，在底涂組合物上施加光刻膠層之 前，不從所述光酸產(chǎn)生劑化合物釋放酸。將施加的光刻膠層暴露于形成圖形的活化輻照，可 從所述涂料組合物的光酸產(chǎn)生劑化合物釋放酸，并可通過補(bǔ)償光刻膠/涂料組合物中的光 酸來提高涂料組合物層上形成的光刻膠圖案的分辨率，該光酸可從光刻膠分散到涂料組合 物中，以及在用水性堿顯影劑處理時促進(jìn)所需的底涂組合物的選擇性顯影?？赏ㄟ^在溶劑組分中混合反應(yīng)組分和一種或多種上述任選的組分來提供涂料組 合物。該溶劑組分可以是一種或多種有機(jī)溶劑，例如一種或多種醇溶劑，如乳酸乙酯、丙二 醇甲基醚(1-甲氧基-2-丙醇)、甲基-2-羥基異丁酸酯等，和/或一種或多種非羥基溶劑， 例如乙基乙氧基丙酸酯、丙二醇甲基醚乙酸酯(1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯)等。接著例如通過旋涂(即旋涂組合物(spin-on composition))將所述涂料組合物 施加到基材(如微電子半導(dǎo)體晶片)?？赏ㄟ^加熱(例如在真空熱板上加熱到170-250°C)來去除溶劑載體?？蓪⒏鞣N光刻膠與本發(fā)明的涂料組合物組合使用(即外涂敷的)。與本發(fā)明減反 射組合物一起使用的優(yōu)選光刻膠是化學(xué)增強(qiáng)的光刻膠，特別是包含一種或多個光酸產(chǎn)生劑 化合物和樹脂組分的正性光刻膠，該樹脂組分包含在光產(chǎn)生的酸存在下進(jìn)行去保護(hù)或裂解 反應(yīng)的單元，例如光酸不穩(wěn)定酯、縮醛、縮酮或醚單元。與本發(fā)明的涂料組合物一起使用的 優(yōu)選光刻膠可用較短波長的輻照(例如波長小于300nm或小于260nm (如約248nm的輻照)， 或者波長小于約200nm(如193nm或157nm)的輻照)進(jìn)行成像。本發(fā)明還提供了一種形成光刻膠浮雕圖像的方法以及一種新制品，該制品包括用 本發(fā)明減反射組合物單獨或與光刻膠組合物一起涂敷的基材(例如微電子晶片基材)。如上述，加工的底涂組合物層可用與用于顯影外涂敷的光刻膠層相同的水性堿顯 影劑溶液除去，即在曝光過程中由光掩模限定的這些區(qū)域中，曝光的光刻膠層和底涂組合 物都可在單一步驟中用水性堿顯影劑除去。因此，更具體地說，本發(fā)明的優(yōu)選方法可包括1.施加包括一種或多種上述的反應(yīng)組分的組合物涂層。該組合物涂層可施加在各 種基材(包括微電子晶片)上；2.優(yōu)選熱處理所述施加的組合物涂層。該熱處理可除去所述涂料組合物中的澆鑄 溶劑(casting solvent)，并使所述組合物層基本上不溶于光刻膠澆鑄溶劑(如乳酸乙酯、 丙二醇甲基醚乙酸酯、2-庚酮等)中。3.在固化的底涂組合物涂層上施加光刻膠組合物涂層。通常通過光掩模將該施加 的光刻膠層暴露于活化輻照(如波長小于300nm(如248nm)或小于200nm(如193nm)的輻 照)，以在所述光刻膠層中形成圖像。曝光的光刻膠可根據(jù)需要進(jìn)行熱處理以提高或形成所 述潛像。4.接著，用顯影劑溶液(如水性堿顯影劑溶液)處理曝光的光刻膠層。該顯影劑 溶液可除去在所述光刻膠層中限定的圖像，以及匹配底涂組合物層的區(qū)域，即通過光刻膠 層和底涂組合物層限定浮雕圖像的區(qū)域。在優(yōu)選的方面中，本發(fā)明的底涂組合物與正性光刻膠組合使用，例如，可在 亞-300nm和亞-200nm波長(如248nm或193nm)成像。化學(xué)增強(qiáng)的正性光刻膠是優(yōu)選的， 它包含一種組分，該組分含有在光產(chǎn)生的酸存在下進(jìn)行去保護(hù)或裂解反應(yīng)的部分，例如光 酸不穩(wěn)定酯或縮醛。用于亞-300nm成像(如248nm)的優(yōu)選正性光刻膠包括具有酚醛單 元和酸不穩(wěn)定酯和/或縮醛部分的聚合物和光酸產(chǎn)生化合物。用于亞-200nm成像(例如 193nm成像)的優(yōu)選正性光刻膠基本上不含芳香基團(tuán)，特別是包含苯基或其他芳香取代基 的樹脂。在另一個方面中，本發(fā)明也包括形成本發(fā)明涂料組合物的方法，以及形成光刻膠 浮雕圖像的方法和制造電子器件(例如加工的微電子晶片)的方法。下文中將揭示本發(fā)明的其他方面。如上所述，我們現(xiàn)在提供了特別適于與外涂敷的光刻膠層一起使用的新有機(jī)涂料 組合物。本發(fā)明較好的涂料組合物可用旋涂(即旋涂組合物)施加，并配制成溶劑組合物。 本發(fā)明的涂料組合物特別適合用作外涂敷的光刻膠的減反射組合物。底涂組合物
本發(fā)明的有機(jī)涂料組合物包括一種或多種四元聚合物反應(yīng)組分，其中可用水性堿 顯影劑組合物(例如0. 26N的氫氧化四甲銨顯影劑水溶液)選擇性除去涂料組合物層的區(qū) 域。優(yōu)選的反應(yīng)組分是具有多個、不同的官能團(tuán)的聚合物。底涂組合物的優(yōu)選四元聚合物反應(yīng)組分包括一個或多個光酸不穩(wěn)定基團(tuán)，它可進(jìn) 行裂解或去保護(hù)反應(yīng)以提供官能團(tuán)，這些官能團(tuán)能促進(jìn)水性堿顯影劑溶解性，例如羧基，氟 化醇和其他此類部分。在外涂敷的光刻膠層的成像曝光和后曝光烘焙過程中，所述底涂組 合物的反應(yīng)組分的光酸不穩(wěn)定基團(tuán)可反應(yīng)，并釋放促進(jìn)水性堿顯影劑溶解性的官能團(tuán)。如上述，除了酸不穩(wěn)定基團(tuán)，底涂組合物的四元聚合物反應(yīng)組分優(yōu)選包含其他官 能團(tuán)，例如發(fā)色團(tuán)；耐溶劑剝離基團(tuán)(降低反應(yīng)組分在外涂敷的光刻膠層的載體溶劑中的 溶解速率)；溶解速率促進(jìn)劑(不包含光酸不穩(wěn)定基團(tuán)但可促進(jìn)水性堿顯影劑中的溶解速 率；酸不穩(wěn)定基團(tuán))；等。更具體地，反應(yīng)組分的優(yōu)選官能團(tuán)包括下述基團(tuán)1.發(fā)色團(tuán)在248nm(KrF曝光)或193nm(ArF曝光)具有足夠吸收的有機(jī)官能團(tuán)， 以在減反射應(yīng)用中提供反射控制。各種取代的蒽、萘和苯基是較好的發(fā)色團(tuán)的例子。該發(fā)色 團(tuán)可使用下述單體加入到聚合物甲基丙烯酸蒽甲酯(ANTMA)、羥基苯乙烯單體(PHS)、乙 酰氧-苯乙烯單體(4AS)、羥基乙烯基萘單體(HVN)和2-甲基-丙烯酸6-羥基-萘_2_基 甲酯(HNMA-2)。2.耐溶劑剝離基團(tuán)。作為聚合物的組分、能夠降低聚合物在各種選定的有機(jī)溶劑 中的溶解速率的有機(jī)官能團(tuán)，所述有機(jī)溶劑通常用于KrF和ArF型光刻膠配方中。這些包 括PGMEA、乳酸乙酯和羥基異丁酸甲基酯。耐溶劑剝離(solvent stripresistance)基團(tuán)可 使得外涂敷的光刻膠層不受混雜地施加到所述底層上。各種取代的酰亞胺、酰胺、內(nèi)酯、羧 酸、羧酸酯和其他可水解的基團(tuán)是使聚合物基的底層組合物具有一定量耐溶劑剝離性的官 能團(tuán)的例子。該耐溶劑剝離促進(jìn)劑可使用下述示例性單體加入到聚合物中馬來酰亞胺、丙 烯酸降冰片基內(nèi)酯單體(NLA)、甲基丙烯酸降冰片基內(nèi)酯單體(NLM)、丙烯酸叔丁酯(TBA) 和甲基丙烯酸叔丁酯(TBM)。3.溶解速率促進(jìn)基團(tuán)。作為聚合物的組分、能夠促進(jìn)(提高)聚合物在氫氧化四 甲銨水溶液(0. 26N)中的溶解速率的有機(jī)官能團(tuán)。各種取代的酰亞胺、酰胺、酚、磺酰胺、氟 化醇(包括六氟乙醇，如-C(CF3)2H)、內(nèi)酯、羧酸、羧酸酯和其他可水解基團(tuán)是較好的溶解速 率促進(jìn)劑的例子。該溶解速率促進(jìn)劑可通過使用下述單體加入到聚合物馬來酰亞胺、羥基 苯乙烯單體、乙酰氧苯乙烯單體、羥基乙烯基萘單體(HVN)、丙烯酸降冰片基內(nèi)酯(NLA)和 甲基丙烯酸降冰片基內(nèi)酯(NLM)。4.酸不穩(wěn)定基團(tuán)。作為聚合物的組分、可進(jìn)行酸催化去保護(hù)反應(yīng)的有機(jī)官能團(tuán)。在 這些應(yīng)用中，通過光酸產(chǎn)生劑(PAG)來提供該酸催化劑，其在外涂敷的光刻膠的光刻工藝 過程中在曝光區(qū)域提供酸。該去保護(hù)反應(yīng)極大地提高了顯影劑溶液中聚合物的溶解速率， 從而可以良好的圖像保真度除去光刻膠和底涂組合物層曝光區(qū)域。由脫保護(hù)酸不穩(wěn)定基團(tuán) 提供了在水性顯影劑溶液中的快速溶解速率，從而消除了或至少最小化了顯影后曝光區(qū)域 中觀察到的任何底涂組合物殘余或渣滓。叔丁基丙烯酸酯的酸催化的脫保護(hù)反應(yīng)是優(yōu)選的 例子。本發(fā)明的優(yōu)選底涂組合物在熱處理(例如180°C或240°C進(jìn)行1_5分鐘)時不發(fā)生明顯的交聯(lián)(組合物組分的分子量上升)。參見實施例7，其公開了一種方法，用于評價 涂層是否發(fā)生充分交聯(lián)。本發(fā)明底涂組合物的四元聚合物的合適分子量可在很大的范圍內(nèi)變化，例如合適 的重均分子量可為約1000-50000，更好為約1500-10000、20000或30000。用于本發(fā)明的底涂組合物中的示例性的優(yōu)選四元聚合物反應(yīng)組分及其合成參見 下述的實施例。如上述，本發(fā)明特別優(yōu)選的底涂組合物還可包括一種或多種光酸產(chǎn)生化合物。在 外涂敷的光刻膠層的成像曝光過程中，光酸產(chǎn)生劑化合物的活化可使所述底涂組合物的酸 不穩(wěn)定基團(tuán)反應(yīng)，從而能夠隨后進(jìn)行成像光刻膠和底涂組合物層的一步顯影。多種光酸產(chǎn)生劑化合物可用于底涂組合物中，所述底涂組合物包含離子和化合 物，例如鐺鹽(如锍和/或碘鐺化合物)，和非離子光酸產(chǎn)生劑，例如亞氨磺酸鹽、N-磺酰氧 基酰亞胺、二砜(disulfone)化合物和硝基芐基類光酸產(chǎn)生劑，以及已經(jīng)用于光刻膠組合 物中的其他光酸產(chǎn)生劑。用于本發(fā)明涂料組合物的特別優(yōu)選的光酸產(chǎn)生劑化合物包括下述 用于光刻膠組合物的那些，以及在美國專利620911和6803169中公開的離子和非離子光酸 產(chǎn)生劑，例如包括三苯基锍鹽的锍化合物、包括二苯基碘鐺化合物的碘鐺化合物和亞氨磺 酸鹽以及其他非離子光酸產(chǎn)生劑化合物。用于本發(fā)明底涂光刻膠組合物的其他特別優(yōu)選的 合適光酸產(chǎn)生劑化合物包括N-[(全氟辛烷磺?；?氧基]-5-降冰片烯-2，3- 二羧酰亞胺 (dicarboximide)0一種或多種光酸產(chǎn)生劑可以各種用量用于底涂組合物中，例如一種或多種光酸產(chǎn) 生劑化合物的用量為約5重量％或更少，以底涂組合物的總固體(除了溶劑載體之外的所 有組分)重量計，優(yōu)選小于4、3、2或甚至1重量％，以底涂組合物的總固體重量計。本發(fā)明底涂組合物的另一種任選添加劑(特別是當(dāng)一種或多種光酸產(chǎn)生劑化合 物用于該組合物時)是一種額外堿，例如氫氧化四丁銨(TBAH)或乳酸四丁銨或受阻胺，如 二氮雜二環(huán)i^一碳烯(diazabicyclo undecene)或二氮雜二環(huán)壬烯。額外的堿適合以較小 的量使用，例如相對于底涂組合物的總固體計，約0. 03-5重量％。特別適用于反射控制應(yīng)用的本發(fā)明涂料組合物也可包含吸收輻照的額外的染料 化合物，該輻照用于曝光外涂敷的光刻膠層。其他任選的添加劑包括表面均化劑，例如以 商標(biāo)名Silwet 7604購自聯(lián)合碳化物公司(Union Carbide)的均化劑，或者購自3M公司 的表面活性劑FC171或FC431，或者購自歐姆那瓦公司(Omnaova)的表面活性劑PolyFox PF-656。如上述，本發(fā)明的涂料組合物適用于配制成液體旋涂組合物，且包含一種或多種 混合溶劑。合適的溶劑包括例如乳酸酯如乳酸乙酯或乙酸甲酯；乙酸酯如乙酸戊酯；一種 或多種二醇醚如雙(2-甲氧基乙基)醚(二甘醇二甲醚)、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚；具 有醚和羥基部分的溶劑，例如甲基-2-羥基異丁酸酯、甲氧基丁醇、乙氧基丁醇、甲氧基丙 醇和乙氧基丙醇；酯，如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙 二醇單甲醚乙酸酯和其他溶劑，例如二元酸酯、碳酸丙二酯和丁內(nèi)酯；酮，例如庚酮(特 別是2-庚酮)和環(huán)己酮等。為了制造本發(fā)明的液體涂料組合物，將所述涂料組合物的組分溶解在合適的溶劑 中，例如乳酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯和/或甲基-2-羥基異丁酸酯中的一種或多種。在
7所述溶劑中，干燥組分的優(yōu)選濃度取決于多個因素，例如施涂方法。通常，涂料組合物的固 體含量為約0. 5-20重量％，以所述涂料組合物的總重量計，所述固體含量較好占所述涂料 組合物的約2-10重量％。在底涂組合物的總固體(除了溶劑載體之外的所有材料)中，所 述反應(yīng)產(chǎn)物組分(例如一種或多種樹脂)可占所述組合物總固體重量的大部分，例如所述 反應(yīng)產(chǎn)物組分占所述涂料組合物的60、70、80、90、95或更高重量％?？蓞⒁娤率雒枋霰景l(fā) 明底涂組合物的示例性優(yōu)選材料含量的實施例。光刻膠組合物各種光刻膠組合物可與本發(fā)明的涂料組合物一起使用，包括正性和負(fù)性光酸產(chǎn)生 化合物，具體見上述。與本發(fā)明的涂料組合物一起使用的光刻膠通常包括樹脂和光活性組 分，通常是光酸產(chǎn)生劑化合物。優(yōu)選地，所述光刻膠樹脂粘合劑具有使成像的光刻膠組合物 具有水性堿顯影性的官能團(tuán)。如上述，與本發(fā)明涂料組合物一起使用的特別優(yōu)選的光刻膠包括化學(xué)增強(qiáng)的光刻 膠，包括正性化學(xué)增強(qiáng)的光刻膠，其中，所述光刻膠層中的光活化的酸誘導(dǎo)一種或多種組合 物組分的去保護(hù)類反應(yīng)，從而在所述光刻膠涂層的曝光和未曝光區(qū)域之間形成了不同的 溶解度。已經(jīng)公開了許多化學(xué)增強(qiáng)光刻膠組合物，例如參見美國專利4968581、4883740、 4810613,4491628和5492793，所有這些專利文獻(xiàn)都以引用的方式全文插入于此，且這些文 獻(xiàn)都已經(jīng)公開了制造和使用化學(xué)增強(qiáng)正性光刻膠的方法。本發(fā)明的涂料組合物也可與其他正性光刻膠一起使用，包括那些包含具有極性官 能團(tuán)的樹脂粘合劑的光刻膠，該極性官能團(tuán)例如羥基或羧酸鹽(酯)，且這些樹脂用于光 刻膠組合物中的用量足以使光刻膠可用堿水溶液顯影。通常，優(yōu)選的光刻膠樹脂是酚醛樹 脂，包含酚醛縮聚物(在本領(lǐng)域中已知的酚醛清漆樹脂)、烯基酚(alkenyl phenol)的均 聚物或共聚物、N-羥基苯基-馬來酰亞胺的均聚物和共聚物，以及氟代醇(包括六氟乙醇 (如-C (CH3)2OH))的共聚物。與本發(fā)明底涂組合物一起使用的優(yōu)選正性光刻膠包含成像有效量的光酸產(chǎn)生劑 化合物和一種或多種選自下組的樹脂1)包含酸不穩(wěn)定基團(tuán)的酚醛樹脂，該樹脂可提供特別適用于248nm成像的化學(xué)增 強(qiáng)正性光刻膠。特別優(yōu)選的這類樹脂包括i)包含乙烯基苯酚和丙烯酸烷基酯的聚合單元 的聚合物，其中聚合的丙烯酸烷基酯單元可在光酸存在下進(jìn)行去保護(hù)反應(yīng)。可進(jìn)行光酸誘 導(dǎo)去保護(hù)反應(yīng)的示例性丙烯酸烷基酯包括例如丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸 甲基金剛烷基酯、甲基丙烯酸甲基金剛烷基酯和其他能夠進(jìn)行光酸誘導(dǎo)反應(yīng)的丙烯酸非環(huán) 烷基酯和脂環(huán)基酯，例如美國專利6042997和5492793中公開的聚合物，這些文獻(xiàn)以引用 的方式全文插入于此；ii)包含乙烯基苯酚、不包含羥基或羧基環(huán)取代基的任選取代的乙 烯基苯基(如苯乙烯)和丙烯酸烷基酯(例如上述聚合物i)中所述的去保護(hù)基團(tuán))的聚 合單元的聚合物，例如美國專利6042997中公開的聚合物，該文獻(xiàn)以引用的方式全文插入 于此；iii)包含具有縮醛或縮酮(ketal)部分的重復(fù)單元和任選的芳香重復(fù)單元(例如苯 基或酚基)的聚合物，所述縮醛或縮酮部分可與光酸反應(yīng)；該聚合物已經(jīng)公開在美國專利 5929176和6090526中，這些文獻(xiàn)以插入的方式全文引用于此；(iv)包括叔丁氧基羰基氧基 保護(hù)(tBoc)基團(tuán)的聚合物；和(ν)聚合物混合物，其中所述混合物的至少一種聚合物包括 酸不穩(wěn)定基團(tuán)；
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2)基本上或完全不含苯基或其他芳香基團(tuán)的樹脂，該樹脂可提供特別適合在 亞-200納米波長(例如193nm)成像的化學(xué)增強(qiáng)的正性光刻膠。特別優(yōu)選的這類樹脂包 括i)包括非芳香環(huán)烯烴(環(huán)內(nèi)雙鍵)(例如任選取代的降冰片烯)的聚合單元的聚合物， 例如美國專利5843624和6048664中公開的聚合物，這些文獻(xiàn)以引用的方式全文插入于此； )包含丙烯酸烷基酯單元(例如丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲基金剛烷基 酯、甲基丙烯酸甲基金剛烷基酯和其他丙烯酸非環(huán)烷基酯和脂環(huán)基酯)的聚合物；這些聚 合物已經(jīng)公開在美國6057083、公開的歐洲申請EP01008913A1和EP00930542A1、美國待批 專利申請09/143462中，所有這些文獻(xiàn)都以引用的方式全文插入于此，以及iii)包含聚合 的酸酐單元特別是聚合的馬來酸酐和/或衣康酸酐單元的聚合物，例如參見公開的歐洲申 請EP01008913A1和美國專利6048662，這些文獻(xiàn)都以引用的方式全文插入于此。3)包括具有雜原子特別是氧原子和/或硫原子(但不包含酸酐，即該單元不含酮 環(huán)原子)的重復(fù)單元、且優(yōu)選基本上或完全不含芳香單元的樹脂。優(yōu)選地，所述脂族雜環(huán)單 元稠合到所述樹脂骨架上，且更優(yōu)選是所述樹脂包括稠合的碳脂環(huán)單元(例如通過聚合降 冰片烯基團(tuán)來提供)和/或酸酐單元(例如通過聚合馬來酸酐或衣康酸酐來提供)。該樹 脂公開在PCT/US01/14914和美國專利6306554中。4)包含氟取代基的樹脂(含氟聚合物)，例如可通過聚合四氟乙烯、氟代芳香基團(tuán) (例如氟苯乙烯化合物)等來提供。該樹脂的例子可參見例如PCT/US99/21912。用于光刻膠(涂敷在本發(fā)明涂料組合物之上或上面)的合適光酸產(chǎn)生劑包括酰亞 胺磺酸鹽，例如下述通式的化合物 其中R是樟腦、金剛烷、烷基(例如Ch2烷基)和全氟烷基(如全氟沁_(dá)12烷基))， 特別是全氟辛烷磺酸酯、全氟壬烷磺酸酯等。特別優(yōu)選的PAG是N-[(全氟辛烷磺?；?氧 基]-5-降冰片烯-2，3- 二羧酰亞胺?；撬猁}(酯)化合物也是適用于外涂敷本發(fā)明涂料組合物的光刻膠的PAG，特別是 磺酸鹽。對于193nm和248nm成像適用的兩種試劑是下述PAGSl和PAGS2 其他已知的光酸產(chǎn)生劑化合物也可用于本發(fā)明的光刻膠中，例如其他鐺鹽，包括 在美國專利4442197、4603101和4624912中公開的那些，以及非離子有機(jī)光活化化合物，例 如在授予Thackeray等人的美國專利5128232中公開的鹵代光活化化合物。用于與本發(fā)明 涂料組合物一起使用的光刻膠的其他合適的光酸產(chǎn)生劑包括磺酸酯光酸產(chǎn)生劑，包括磺化 酯和磺酰氧基酮。參見J. of Photopolymer Scienceand Technology (《光學(xué)聚合物科學(xué)技 術(shù)周刊》)4(3) :337-340(1991)，其公開了合適的磺酸酯PAGS，包括安息香甲苯磺酸酯、叔丁 基苯基α-(對甲苯磺酰氧基)_乙酸酯和叔丁基α (對甲苯磺酰氧基)_乙酸酯。優(yōu)選的 磺酸酯PAG也公開在授予Sinta等人的美國專利5344742中。與本發(fā)明的底涂組合物一起使用的光刻膠也可包含其他材料。外涂敷本發(fā)明涂料組合物的光刻膠的優(yōu)選任選添加劑是額外的堿，特別是氫氧化 四丁銨(TBAH)或乳酸四丁銨，其可提高顯影的光刻膠浮雕圖像的分辨率。對于在193nm成 像的光刻膠，額外的堿優(yōu)選是受阻胺，例如二氮雜二環(huán)十一碳烯或二氮雜二環(huán)壬烯。額外的 堿優(yōu)選以較小的量使用，例如以總固體計，約0. 03-5重量％。其他任選的光刻膠添加劑包括光化和對比染料、抗痕劑(anti-striationagent)、 增塑劑、增速劑等。除了填料和染料以外，任選的添加劑通常以很小的量存在在光刻膠組 合物中，而填料和染料可以相對較大的濃度存在，例如以所述光刻膠干組分的總重量計，約 5-50重量％。各種取代基和“任選取代”的材料(包括反應(yīng)組分以及形成該反應(yīng)組分的試劑、樹 脂、小分子化合物、酸產(chǎn)生劑等)可在一個或多個可能的位置由例如鹵素(F、Cl、Br、I)、硝 基、羥基、氨基、烷基(如Cm烷基)、烯基(例如C2_8烯基)、烷基氨基(如CM烷基氨基)、 碳環(huán)芳基(如苯基、萘基、蒽基等)等適當(dāng)取代。平版印刷工藝如上述，在使用過程中，本發(fā)明的涂料組合物通過各種方法(例如旋涂)作為涂層 施涂在基材上。通常，所述涂料組合物施涂在基材上，且干燥的層厚度為約0. 02-0. 5微米， 優(yōu)選的干燥的層厚度為約0. 04-0. 20微米。所述基材可以是涉及光刻膠工藝中所用的任意 基材。例如，所述基材可以是硅、二氧化硅或鋁-氧化鋁微電子晶片。也可使用砷化鎵、碳 化硅、陶瓷、石英或銅基材。也可適當(dāng)使用液晶顯示器或其他平板顯示應(yīng)用中的基材，例如 玻璃基材、氧化銦錫涂敷的基材等。也可使用用于光學(xué)和光學(xué)-電子器件中的基材(例如 波導(dǎo))。如上述，在將光刻膠組合物施加到所述組合物層上之前，優(yōu)選對所述施加的涂層進(jìn)行處理(例如熱處理)，以除去溶劑載體(但是所述組合物組分的分子量并沒有明顯上 升)。熱處理條件可隨著所述涂料組合物的組分不同而變化，特別是在所述涂料組合物包含 酸或酸源(例如熱酸產(chǎn)生劑)時。合適的熱處理固化條件可以是在約140-250°C的溫度范 圍進(jìn)行約0. 5-30分鐘。熱處理條件優(yōu)選使所述涂料組合物涂層基本上不溶于所述外涂敷 的光刻膠組合物的溶劑，從而避免相應(yīng)的兩種涂層之間的任何明顯混雜。處理所述涂層組合物層之后，光刻膠施加在所述涂層組合物的表面上。與施加底 涂層組合物相同，所述外涂敷的光刻膠可通過任意標(biāo)準(zhǔn)方法(例如通過旋涂、浸涂、彎液面 (meniscus)涂敷或輥涂)進(jìn)行施加。施加后，所述光刻膠涂層通常通過加熱干燥來除去溶 劑，優(yōu)選直到所述光刻膠層沒有粘性。然后，所述光刻膠層用活化輻照通過掩模以常規(guī)方法成像。所述曝光能量足以有 效活化所述光刻膠體系的光活性組分，以在光刻膠涂層中形成圖案化的圖像。通常，所述曝 光能量為約3-300mJ/cm2，這部分取決于所用的曝光工具、特定光刻膠和光刻膠加工方法。 可對所述曝光的光刻膠層進(jìn)行曝光后烘焙(如果需要的話)，以在涂層的曝光和未曝光區(qū) 域之間形成或提高溶解性差異。例如，負(fù)性酸硬化光刻膠通常需要曝光后加熱，以誘導(dǎo)酸促 進(jìn)的交聯(lián)反應(yīng)，且許多化學(xué)增強(qiáng)的正性光刻膠需要曝光后加熱，以誘導(dǎo)酸促進(jìn)的去保護(hù)反 應(yīng)。通常，曝光后烘焙條件包括約50°C或更高的溫度，更具體地說是在約50-160°C的溫度 范圍。接著，對所述曝光的光刻膠涂層進(jìn)行顯影，優(yōu)選用水性堿顯影劑(例如氫氧化叔 丁銨、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、硅酸鈉、偏硅酸鈉、氨水等示例性的堿)進(jìn)行 顯影。通常，根據(jù)本領(lǐng)域已知的工藝進(jìn)行顯影，不同的是顯影也會除去光刻膠被顯影劑除去 的區(qū)域下面的底涂組合物。優(yōu)選地，一旦完成從光刻膠層轉(zhuǎn)移圖像的顯影，立即終止底涂層 中的顯影，以避免過量和不需要的除去底涂層，例如除去顯影(difficult)后光刻膠層保 留區(qū)域下面的組合物涂層。避免所述底涂組合物層的顯影不足或者過度顯影的最佳顯影時 間可根據(jù)以下因素憑經(jīng)驗容易確定具體的光刻膠體系、底涂組合物、顯影劑組成和顯影條 件，例如可在如上所述的終止之前進(jìn)行各種時間的顯影，并例如通過掃描電鏡(SEM)評價 顯影的圖像以確定不發(fā)生顯影不足或過度顯影的顯影時間或時間范圍。顯影后，通常在約100-150°C的溫度進(jìn)行酸硬化的光刻膠的最終烘焙，持續(xù)時間為 幾分鐘，以進(jìn)一步固化顯影的曝光涂層區(qū)域。然后，可對顯影的基材上沒有(bare)光刻膠和底涂組合物層的這些基材區(qū)域進(jìn) 行選擇性處理，例如，根據(jù)本領(lǐng)域中公知的工藝對沒有光刻膠的基材區(qū)域進(jìn)行化學(xué)蝕刻或 鍍覆。合適的蝕刻劑包括氫氟酸蝕刻溶液和等離子體氣體蝕刻劑，如氧等離子體蝕刻劑。特 別地，并不需要用等離子體去除底涂組合物層的額外步驟，因為如上述已經(jīng)在光刻膠層顯 影的同一步驟中完成了去除。本文提到的所有文獻(xiàn)以引用的方式全文插入于此。下述非限制性的實施例用于描 述本發(fā)明。實施例1 合成 MI/ANTMA/HNMA-2/TBA 34. 3/31. 5/25. 0/9. 2 四元聚合物。向裝有機(jī)械攪拌器、冷凝器、加熱夾套和溫度控制器的2. 0L、5頸圓底燒瓶中加入 215克二噁烷。用氮氣在所述溶劑中鼓泡15分鐘。將該溶劑加熱到85°C。向裝有攪拌棒的2. OL錐形燒瓶加入馬來酰亞胺(MI，53. 10g，547毫摩爾)、甲基
11丙烯酸9-蒽甲酯(ANTMA，138. 7g，502毫摩爾)、甲基丙烯酸2-羥基萘甲酯(2-hydroxynap hthalene-methylmethacrylate)單體(HNMA-2，96· 53g，398 毫摩爾)、丙烯酸叔丁酯(TBA， 18. 80g, 147毫摩爾)和二噁烷(423. 5g)。使所述混合物在室溫攪拌30分鐘。用氮氣在所 述溶液中鼓泡15分鐘。向500毫升瓶中加入2，2-偶氮二(2，4_ 二甲基戊腈(Vazo 52，11.89g，48.0毫 摩爾)和二噁烷(78. Og)。用蠕動泵以8. 5g/分鐘的速率，在1. 5小時內(nèi)將所述單體溶液輸入反應(yīng)燒瓶中。 也用蠕動泵以1. Ig/分鐘的速率在該時間段內(nèi)(90分鐘輸入)將引發(fā)劑溶液輸入反應(yīng)燒瓶中。輸入完所述單體和引發(fā)劑后，用蠕動泵以8. Og/分鐘的速率在20分鐘內(nèi)將2， 2_偶氮二(2，4_ 二甲基戊腈(VazO 52，7.93g，32.0毫摩爾)和二噁烷(151g)的溶液輸入 反應(yīng)燒瓶中。完成后，將所述反應(yīng)混合物在85°C保持1. 5小時。冷卻到室溫后，將所述反應(yīng)混合物沉淀到15. OL的甲醇中。通過真空過濾分離白 色沉淀，并用3. OL甲醇清洗，且在50°C的真空烘箱中干燥過夜。得到作為白色粉末的195. Ig(64% )標(biāo)題聚合物。GPC(THF)Mw = 9300Da, Mn = 6500Da, PDI 1.5。實施例2 合成 MI/ANTMA/HNMA-2/TBA 33. 2/31. 3/26. 8/8. 7 四元聚合物向裝有機(jī)械攪拌器、冷凝器、加熱夾套和溫度控制器的2. 0L、5頸圓底燒瓶加入 218克二噁烷。用氮氣在所述溶劑中鼓泡15分鐘。將該溶劑加熱到85°C。向裝有攪拌棒的2. OL錐形燒瓶中加入馬來酰亞胺(10，51.398，529毫摩爾)、甲基 丙烯酸9-蒽甲酯(ANTMA，137. 9g，499毫摩爾)、甲基丙烯酸2-羥基萘甲酯單體(HNMA-2， 103. 4g，427毫摩爾)、丙烯酸叔丁酯(TBA, 17. 82g，139毫摩爾)和二噁烷(430g)。使所述 混合物在室溫攪拌30分鐘。用氮氣在所述溶液中鼓泡15分鐘。向500毫升瓶中加入2，2-偶氮二 (2，4_ 二甲基戊腈(Vazo 52，11. 89g，48. 0毫 摩爾)和二噁烷(78. Og)。用蠕動泵以7. 5g/分鐘的速率在1. 5小時內(nèi)，將所述單體溶液輸入反應(yīng)燒瓶中。也 以0. 9g/分鐘的速率，用蠕動泵在該時間段內(nèi)(90分鐘輸入)將引發(fā)劑溶液輸入反應(yīng)燒瓶中。輸入完所述單體和引發(fā)劑后，用蠕動泵以8. 2g/分鐘的速率在20分鐘內(nèi)將2， 2_偶氮二(2，4_ 二甲基戊腈(VazO 52，7.93g，32.0毫摩爾)和二噁烷(151g)的溶液輸入 反應(yīng)燒瓶中。完成后，將所述反應(yīng)混合物在85°C保持1. 5小時。冷卻到室溫后，將所述反應(yīng)混合物沉淀到15. OL的甲醇中。通過真空過濾分離白 色沉淀，并用3. OL甲醇清洗，且在50°C的真空烘箱中干燥過夜。得到作為白色粉末的186. 6g(60% )標(biāo)題聚合物。GPC(THF)Mw = 9200Da, Mn = 6350Da, PDI :1·5。實施例3 制備涂料組合物和平版印刷加工通過混合下述材料制備底涂組合物
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反應(yīng)組分(樹脂)上述實施例1的聚合物光酸產(chǎn)生劑三苯基锍鹽溶劑乳酸乙酯反應(yīng)組分的用量為5g。所述光酸產(chǎn)生劑化合物的用量約為0. 5重量％，以全部固 體計(除了溶劑之外的所有組分)。將上述配制的涂料組合物旋涂在硅微芯片晶片上，并在真空熱板上于210°C固化 60秒，以提供干燥(但不交聯(lián))的涂層。然后將市售193nm的正性光刻膠旋涂在固化的涂料組合物層之上。所施加的光刻 膠層在真空熱板上于100°c軟烘焙60秒，通過光掩模暴露于193nm的成像輻照中，在110°C 進(jìn)行曝光后烘焙60秒，然后用0. 26N水性堿顯影劑顯影，顯影時光掩模限定的區(qū)域中的光 刻膠層和底涂組合物都被除去。實施例4 制備涂料組合物和平版印刷工藝通過混合下述材料制備底涂組合物四元聚合物反應(yīng)組分上述實施例2的聚合物光酸產(chǎn)生劑三苯基锍鹽溶劑乳酸乙酯反應(yīng)組分的用量為5g。所述光酸產(chǎn)生劑化合物的用量約為0. 5重量％，以全部固 體計(除了溶劑之外的所有組分)。將上述配制的涂料組合物旋涂在硅微芯片晶片上，并在真空熱板上于210°C固化 60秒，以提供干燥(但不交聯(lián))的涂層。然后將市售193nm的正性光刻膠旋涂在固化的涂料組合物層之上。所施加的光刻 膠層在真空熱板上于100°c軟烘焙60秒，通過光掩模暴露于193nm的成像輻照中，在110°C 進(jìn)行曝光后烘焙60秒，然后用0. 26N水性堿顯影劑顯影，顯影時光掩模限定的區(qū)域中的光 刻膠層和底涂組合物都被除去。實施例5 制備涂料組合物和平版印刷工藝通過混合下述材料制備底涂組合物四元聚合物反應(yīng)組分上述實施例1和2的聚合物混合物光酸產(chǎn)生劑三苯基锍鹽溶劑乳酸乙酯反應(yīng)組分的用量為5g。所述光酸產(chǎn)生劑化合物的用量約為0. 5重量％，以全部固
13體計(除了溶劑之外的所有組分)。將上述配制的涂料組合物旋涂在硅微芯片晶片上，并在真空熱板上于210°C固化 60秒，以提供干燥(但不交聯(lián))的涂層。然后將市售193nm的正性光刻膠旋涂在固化的涂料組合物層之上。所施加的光刻 膠層在真空熱板上于100°c軟烘焙60秒，通過光掩模暴露于193nm的成像輻照中，在110°C 進(jìn)行曝光后烘焙60秒，然后用0. 26N水性堿顯影劑顯影，顯影時光掩模限定的區(qū)域中的光 刻膠層和底涂組合物都被除去。實施例6 涂料組合物和平版印刷工藝通過混合下述材料制備底涂組合物四元聚合物反應(yīng)組分 上述實施例1和2的聚合物混合物光酸產(chǎn)生劑三苯基锍鹽溶劑2-羥基異丁酸甲酯在該涂料組合物中，反應(yīng)組分(樹脂)的用量為3. 2g，所述酸源(熱酸產(chǎn)生劑)的 用量約為0. 8重量％，且光酸產(chǎn)生劑的用量約為2重量％，以全部固體計(除了溶劑之外的 所有組分)。所述溶劑的用量約為96重量％，以所述涂料組合物的總重量計。將該涂料組合物旋涂在硅微芯片晶片上，并于215°C烘焙以除去溶劑，但并不使所 述涂料組合物層交聯(lián)。然后將193nm的光刻膠組合物旋涂在涂料組合物層之上，并且將光刻膠組合物的 區(qū)域以變化的能量劑量曝光于193nm的輻照中。曝光后的光刻膠層接著于約110°C進(jìn)行曝 光后烘焙60秒，并用0. 26N氫氧化四甲銨(TMAH)水性堿顯影劑顯影經(jīng)烘焙的光刻膠層，顯 影時光掩模限定的區(qū)域中的光刻膠層和底涂組合物都被除去。實施例7 測試以確認(rèn)底涂組合物的熱處理并不導(dǎo)致交聯(lián)(組合物組分的分子量 上升)。將包含馬來酰亞胺、聚羥基苯乙烯和甲基丙烯酸9-蒽甲酯的聚合單元的聚合溶 液旋轉(zhuǎn)澆注(spin cast)在8”硅晶片上，并于180°C和240°C烘焙。也制備各種材料的未 烘焙涂層。也制備包含相同聚合物且同時含光酸產(chǎn)生劑化合物的制劑，并在相同的烘焙溫 度(室溫、180°C和240°C)在8”娃晶片上形成涂層。如上述處理后，刮掉所有的涂敷薄膜， 并充分溶解在THF中，通過GPC測量分子量。具有或者不具有PAG的聚合物薄膜的重均分子量數(shù)據(jù)證明了在熱處理之后分子 量的變化很小，從而說明在熱處理時并沒有發(fā)生交聯(lián)。本發(fā)明的上述描述僅用于說明目的，且可以理解各種變化和改進(jìn)并沒有離開所附 權(quán)利要求書所限定的本發(fā)明的精神或范圍。
權(quán)利要求
一種涂敷的基材，所述基材包括(a)包括四元聚合物的涂料組合物層，所述四元聚合物包括至少四種不同的官能團(tuán)；和(b)位于所述涂料組合物層之上的光刻膠層，其中光刻膠的水性堿顯影也顯影底涂的所述涂料組合物層。
2.如權(quán)利要求1所述的基材，其特征在于，所述涂料組合物層是不交聯(lián)的。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基材，其特征在于，樹脂中的反應(yīng)組分包括不同的官能團(tuán)， 所述官能團(tuán)提供(1)溶解速率抑制性，(2)耐剝離性，(3)水性堿顯影劑溶解性，和(4)光刻 膠曝光輻照的吸收性(發(fā)色團(tuán))。
4.如權(quán)利要求1所述的基材，其特征在于，所述四元聚合物包括馬來酰亞胺、甲基丙烯 酸9-蒽甲酯、甲基丙烯酸2-羥基萘甲酯和丙烯酸叔丁酯的聚合單元。
5.一種形成光刻膠浮雕圖像的方法，所述方法包括(a)在基材上施加組合物的涂層；(b)在所述涂料組合物層上施加光刻膠層。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在施加所述光刻膠層之前，熱處理所述步驟 a)中涂敷的組合物。
7.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述施加的光刻膠暴露于成像輻照中，然后 用水性堿顯影劑組合物顯影，所述顯影劑組合物選擇性除去圖像中的光刻膠層和底涂的涂 料組合物層，所述圖像是通過成像輻照在光刻膠層中限定的圖像。
8.—種與外涂敷的光刻膠層一起使用的減反射組合物，所述減反射組合物包括具有至少四個不同官能團(tuán)的四元聚合物，所述官能團(tuán)提供(1)溶解速率抑制性，(2)耐 剝離性，(3)水性堿顯影劑溶解性，和(4)光刻膠曝光輻照的吸收性(發(fā)色團(tuán))。
9.如權(quán)利要求8所述的組合物，其特征在于，所述四元聚合物包括馬來酰亞胺、甲基丙 烯酸9-蒽甲酯、甲基丙烯酸2-羥基萘甲酯和丙烯酸叔丁酯的聚合單元。
全文摘要
提供了能用水性堿顯影劑顯影(包括在外涂敷的光刻膠層的顯影過程中的單一步驟)的有機(jī)涂料組合物，特別是減反射涂料組合物。優(yōu)選的涂料組合物包括具有至少四個不同的官能團(tuán)的四元聚合物。
文檔編號C09D135/00GK101900943SQ20101011947
公開日2010年12月1日 申請日期2010年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月8日
發(fā)明者D·A·瓦萊里, G·P·普羅科波維奇, I·Y·波波瓦, J·F·卡梅隆, J·P·阿馬拉, J·W·宋, L·維克里克, P·R·瓦拉納斯, W·李, W-S·S·黃 申請人:羅門哈斯電子材料有限公司