專利名稱：使用具有雙刀片的輥的涂布裝置和使用所述裝置制造光學(xué)膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使用具有雙刀片的輥的涂布裝置和使用所述裝置制造 光學(xué)膜的方法，和更特別地，涉及如下使用具有雙刀片的輥的涂布裝
置和使用所述裝置制造光學(xué)膜的方法，其為了減少產(chǎn)品的損失和缺陷 比，通過在通常的凹版式涂布裝置中安裝另外的后刀片以除去在長時 間地連續(xù)生產(chǎn)中產(chǎn)生的轉(zhuǎn)移到凹版輥上的涂布液氣泡，從而長時間地 保持生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性，而能夠得到均勻的涂層和其良好的外觀。
背景技術(shù)：
一般而言，電視機(jī)中的CRT，在計算機(jī)或PDP電視機(jī)中的LCD 監(jiān)視器被用于在屏幕上用電信號顯示圖片。由于它們大多數(shù)使用高電 壓，所以公知的是，由此出現(xiàn)對使用者身體不好、減少視覺效果或可 能引起眼睛疲勞的靜電、電磁波和表面反射。因此，將用于避免外界 物體反射的抗反射涂層施加在所述顯示裝置的表面上以利用抗反射作 用獲得甚至更清晰圖片和得到不引起眼睛疲勞的屏幕。
抗反射作用分類為利用光散射的抗眩光(AG)和利用光干涉的抗 反射(AR)。在利用光散射的AG的情況中，通過將幾十至幾百nm 的細(xì)粒子與粘合劑樹脂或硬化劑樹脂的混合物施加到襯底上而在屏幕 表面上形成細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)來避免表面上的規(guī)則反射。這是相對容易的過 程，但是，對于細(xì)像素，像素質(zhì)量可能被降低，例如取決于所混合的 粒子尺寸的在表面上的眩光或圖片模糊。因此，已經(jīng)嘗試通過變細(xì)所 加入的細(xì)粒子的尺寸或使用有限粒度分布的細(xì)粒子來控制表面上的凹 凸形狀。但是，在將上述嘗試應(yīng)用到細(xì)像素的情況中的情況下，在表 面上的凹凸形狀也變小，使得難以良好地發(fā)揮AR功能，并且它也不是 成本有效的解決方案。
3相反，對于AR，當(dāng)如圖1所示平面光波在兩個透明介質(zhì)的界面上 入射時，根據(jù)菲涅耳公式，能使抗反射膜最小化反射的條件是，當(dāng)在
折射率為n的介質(zhì)中光的波長用Xn表示時，
n = X(真空中光的波長)/Xn(介質(zhì)中光的波長) (1) 禾口
2dcose(入射光與反射光之間的光程差)=[X/2n] (2) 當(dāng)入射光與反射光之間的光程差是在介質(zhì)中光的半波長的偶數(shù)倍 (Xn/2 = X/2n)時，所述入射光和所述反射光以同相相遇，并且由于與 所述介質(zhì)的密度差而發(fā)生光消除，使得將降低眼睛看到的光反射，即
光強(qiáng)度。
也就是說，AR對應(yīng)于利用干涉效應(yīng)而降低反射的方式，其利用依 賴于介質(zhì)相對于入射光、透射光和反射光的折射率和厚度的光波長和 強(qiáng)度的變化。
用于顯示器前面板的AR光學(xué)膜一般具有多層結(jié)構(gòu)(參見PCT JP2003-008535的文獻(xiàn))。具有多層結(jié)構(gòu)的減少反射層的例子包括高 折射率層和低折射率層的兩層結(jié)構(gòu)；中間折射率層、高折射率層和低 折射率層的三層結(jié)構(gòu)；和高折射率層、低折射率層、高折射率層和低 折射率層的四層結(jié)構(gòu)。在上面的結(jié)構(gòu)中，所有的層都從最接近襯底的 層順序堆疊。
堆疊前面提及的多層結(jié)構(gòu)的方法包括用于將涂布材料施加到每層 上的真空沉積、濺射、離子沉積、離子束沉積、凹版式涂布、微凹版 式涂布、輥涂布、棒涂布、深涂布(deep coating)等。在前面提及的 方法中，廣泛使用的是用于使用低成本涂布液的濕涂布和能連續(xù)生產(chǎn) 光學(xué)膜的輥到輥涂布。
但是，濕型的輥到輥涂布涉及一些問題，其中之一是在膜的長時間連續(xù)生產(chǎn)中產(chǎn)生的氣泡。特別地，由于就在將涂布液施加到襯底之 前的步驟中在凹版輥上產(chǎn)生氣泡而導(dǎo)致光學(xué)膜的差的外觀和缺陷，所 以在所述膜的生產(chǎn)過程中出現(xiàn)許多損失，并且生產(chǎn)率也被降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明用來解決前面提及的問題。本發(fā)明的目的是提供使用具有 雙刀片的輥的涂布裝置和使用所述裝置制造光學(xué)膜的方法，其通過在 長時間涂布中連續(xù)去除在凹版輥上產(chǎn)生的氣泡以獲得均勻的涂布，而 能夠得到光學(xué)膜的良好外觀和減少在所述膜中的缺陷，從而減少在生 產(chǎn)過程中的損失和獲得良好的生產(chǎn)率。
從參照附圖解釋本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案的下列詳細(xì)說明，本發(fā)明 的前面提及的和其它目的和優(yōu)點(diǎn)將對本領(lǐng)域的技術(shù)人員變得明顯。
為了達(dá)到本發(fā)明的前面提及的目的，根據(jù)本發(fā)明的第一方面使用 具有雙刀片的輥的涂布裝置，用于以凹版式涂布方式將涂布液施加到 襯底上，其特征在于它包含用于將在液體盤中的涂布液轉(zhuǎn)移到襯底
膜上的凹版式涂布液轉(zhuǎn)移輥，在所述輥的三分之一浸在所述液體盤中 的涂布液中的同時，旋轉(zhuǎn)所述輥；安裝在所述凹版輥前側(cè)的前刀片， 其用于刮下多余涂布液，同時留下給定量的待被所述凹版輥轉(zhuǎn)移的涂 布液，和安裝在凹版輥的后側(cè)的后刀片，其用于防止在所述凹版輥表 面上產(chǎn)生氣泡。
并且，優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明第一方面的涂布裝置，其特征在于，
相對于所述凹版輥以水平面為基準(zhǔn)，所述后刀片處于0 2(T的角。
并且，優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明第一方面的涂布裝置，其特征在于， 在20 120 Kg/hr的速度下供應(yīng)所述涂布液。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，用使用具有雙刀片的輥的涂布裝置生產(chǎn)光學(xué)膜的方法是以微凹版式涂布方式將涂布液施加到襯底上，其特征 在于，所述方法包括如下步驟使用泵9將涂布液20從液體容器8均 勻和穩(wěn)定地供應(yīng)給液體盤12;利用前輥3和后輥4移動膜10;和使用
與所述膜上側(cè)相鄰的后輥2和與膜10下側(cè)相鄰的凹版輥200，在以與 膜前進(jìn)方向相反的方向旋轉(zhuǎn)凹版輥200的同時，將在所述液體盤中的 涂布液20施加到膜10下側(cè)，其中在施加所述涂布液的同時，用在凹 版輥200前面形成的前刀片6將粘附到凹版輥200且向上移動的薄涂 布液刮下和用在凹版輥200后側(cè)形成的后刀片5除去在凹版輥200上 產(chǎn)生的氣泡。


從參照附圖解釋的其優(yōu)選實(shí)施方案的下列詳細(xì)說明，本發(fā)明的特 點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變明顯，其中 圖l解釋光學(xué)膜的原理； 圖2表示生產(chǎn)光學(xué)膜的過程； 圖3解釋具有凹版輥的常規(guī)凹版式涂布裝置； 圖4顯示使用具有雙刀片的輥的涂布裝置；
圖5是根據(jù)本發(fā)明的使用具有雙刀片的輥的涂布裝置中的具有雙 刀片的凹版輥的放大圖。
具體實(shí)施例方式
下文中將詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施方案和附圖。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員將明顯看到這些實(shí)施方案意欲更詳細(xì)地解釋本 發(fā)明，而不是限定本發(fā)明的范圍。
圖3說明具有輥的常規(guī)凹版式涂布裝置。現(xiàn)在參照圖3描述使用 具有輥的常規(guī)涂布裝置生產(chǎn)光學(xué)膜的方法。首先，液體盤12含有涂布 液20。在液體盤12中，作為涂布液轉(zhuǎn)移輥的網(wǎng)紋輥(mesh ro11)200的 下端1/3浸在所述涂布液中，將其旋轉(zhuǎn)。作為涂布液轉(zhuǎn)移輥的網(wǎng)紋輥200接觸后輥2并被旋轉(zhuǎn)。通過輥2和輥200之間的縫隙傳遞膜10。 在液體盤12中含有的涂布液20溢流出液體盤，并被導(dǎo)向涂布液收集 器7。然后用供應(yīng)泵9將涂布液抽到液體容器8中用于循環(huán)。使用刀6 刮下施加到用于轉(zhuǎn)移涂布液的網(wǎng)紋輥200上的過多的多余涂布液，同 時留下給定量的涂布液。
如上所述，當(dāng)用具有輥的常規(guī)凹版式涂布裝置生產(chǎn)光學(xué)膜時，就 在將供應(yīng)的涂布液施加到襯底上之前的階段在網(wǎng)紋輥上產(chǎn)生氣泡，使 得生產(chǎn)的光學(xué)膜表現(xiàn)出差的外觀，并具有許多缺陷，導(dǎo)致生產(chǎn)過程中 許多損失，從而導(dǎo)致差的生產(chǎn)率。
因此，本發(fā)明的發(fā)明人設(shè)計了在圖4和5中所示的具有輥的涂布 裝置以解決前面提及的問題。這里，圖4解釋根據(jù)本發(fā)明的使用具有 雙刀片的輥的涂布裝置。圖5是根據(jù)本發(fā)明的使用具有雙刀片的輥的 涂布裝置中具有雙刀片的凹版輥的放大圖。
參照圖4和5，根據(jù)本發(fā)明的具有輥和雙刀片的涂布裝置，其特征 在于，除了常規(guī)刀片6外，還進(jìn)一步配備后刀片5。現(xiàn)在描述根據(jù)本發(fā) 明具有輥和雙刀片的涂布裝置的構(gòu)造和操作。
根據(jù)本發(fā)明具有輥和雙刀片的涂布裝置配備用于施加放在具有涂 布液20的液體盤中的涂布液20并用于將液體20施加到襯底10上的 網(wǎng)紋輥200。在網(wǎng)紋輥200的頂部，配備后輥2，后輥2與網(wǎng)紋輥200 鄰接并被旋轉(zhuǎn)，并且還配備前輥3和后輥4。
利用輥進(jìn)行凹版式涂布的基本原理是用涂布液潤濕在網(wǎng)紋輥200 的表面上形成的許多凹槽，然后通過后輥2擠壓其表面以將所述涂布 液轉(zhuǎn)移到在輥2和輥200之間通過的襯底上。為了控制在所述液體盤 中轉(zhuǎn)移的涂布液的量，在網(wǎng)紋輥200上形成刀6以刮下粘附到網(wǎng)紋輥 200并向上移動的薄涂布液，以供應(yīng)合適量的所述液體。在網(wǎng)紋輥200
7的液體盤中的同時，所述網(wǎng)紋輥200被旋
轉(zhuǎn)，并對在液體盤12中的液體的可流動性敏感地作出反應(yīng)。因此，在
所述液體盤中的液體的可流動性在涂布襯底中顯著地影響涂布的膜的 外觀。
當(dāng)將所述涂布液從液體容器8供應(yīng)給所述液體盤時， 一般使用供 應(yīng)泵9。要求這樣的供應(yīng)泵沒有液體泄漏并合適地流到所述液體盤。對 于主要滿足這樣的要求的泵，可商購的例子包括用于旋轉(zhuǎn)槳葉型翅膀 供應(yīng)涂布液的旋轉(zhuǎn)泵、用于通過高速旋轉(zhuǎn)螺桿型翅膀供應(yīng)涂布液的軸 旋轉(zhuǎn)型液體泵、用于通過填充給齒輪提供涂布液的空間和然后通過齒 輪旋轉(zhuǎn)而供應(yīng)涂布液的齒輪泵。如圖4所示，由于在本發(fā)明中用于去 除氣泡的后刀片5被進(jìn)一步配備在常規(guī)凹版輥后側(cè)，所以可以除去轉(zhuǎn) 移到所述凹版輥上的液體氣泡。
因此，在本發(fā)明中，在常規(guī)凹版式涂布的情況中，利用泵將涂布 液供應(yīng)到液體盤，和將所述涂布液轉(zhuǎn)移到用于涂布的凹版輥上。在長 時間施加涂布液的情況中，連續(xù)地去除轉(zhuǎn)移到所述凹版輥的涂布液的 氣泡，以均勻地施加所述涂布液，從而產(chǎn)生最終光學(xué)膜的良好外觀和 減少缺陷膜。因此，可以減少在生產(chǎn)過程中的損失和獲得良好的生產(chǎn) 率。
下面參照圖2，描述用根據(jù)本發(fā)明的使用具有雙刀片的輥的涂布裝 置生產(chǎn)光學(xué)膜的方法。
根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)光學(xué)膜的方法是使用微凹版式涂布，并且其特 征在于，它包含如下步驟使用泵9將涂布液20從液體容器8均勻和
穩(wěn)定地供應(yīng)到液體盤12;利用前輥3和后輥4移動膜10;和使用與膜
上側(cè)鄰接的后輥2和與膜10下側(cè)鄰接的凹版輥200，在以與膜前進(jìn)方 向相反的方向旋轉(zhuǎn)凹版輥200的同時，將在所述液體盤中的涂布液20 施加到膜10的下側(cè)，其中在施加所述涂布液的同時，用在凹版輥200
8前面形成的前刀片6刮下粘附到凹版輥200且向上移動的薄涂布液和 用在凹版輥200后邊形成的后刀片5去除在凹版輥200上產(chǎn)生的氣泡。
基于相對于凹版輥200的水平面，后刀片5優(yōu)選處于0 20°的角 度。如果基于相對于凹版輥200的水平面所述角度小于0°，刀片5可 能接觸所述液體盤。如果所述角度高于2(T，它可能接觸涂布的膜。優(yōu) 選地，在20 120Kg/hr的速度下供應(yīng)所述涂布液。這是因?yàn)橹挥挟?dāng)保 持所述供應(yīng)速度范圍時才可以得到均勻厚度的膜。
下文中將更詳細(xì)地描述用根據(jù)本發(fā)明的具有輥和雙刀片的涂布裝 置生產(chǎn)的光學(xué)膜。
在本發(fā)明中的襯底膜IOO是高度透明的材料，例如聚酯樹脂、三 乙?；w維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、碳酸烯丙酯樹脂、聚氨酯樹脂、 聚酯砜樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、環(huán)烯烴樹脂、丙烯酸苯乙烯樹脂等。
特別地，為了容易地應(yīng)用到顯示器領(lǐng)域的目的，優(yōu)選高透光率和 較低濁度值的膜。在所述襯底膜中，在可見光范圍(400 700 nm)中， 總透光率大于70%，和優(yōu)選大于80%。所述濁度值不大于3%，和優(yōu)選 不大于1%。
認(rèn)為當(dāng)使用襯底時良好的材料產(chǎn)生更好的機(jī)械強(qiáng)度和耐久性以及 抗反射性能。
所述襯底可以含有多種添加劑，例如著色劑如顏料和染料、UV吸 收劑和抗氧化劑，以促進(jìn)生產(chǎn)和涂布，其前提條件是它們不會有害地 影響本發(fā)明的效果。如果需要，所述襯底可以被表面處理，例如電暈 放電處理或以多種方式的在線涂布。但是，在在線涂布的情況中，涂 布層的折射率應(yīng)被選擇成類似于襯底的折射率(約1.62)或硬涂層的 折射率(1.5至1.6)，以使光在其界面上的干擾最小。所述襯底膜的厚度取決于應(yīng)用的領(lǐng)域，但是優(yōu)選為25 500 )tmi，和更優(yōu)選為25 200
在本發(fā)明中襯底膜100上的硬涂層110用于補(bǔ)充襯底膜100的表 面的物理性能，可以是可UV固化樹脂、熱固性樹脂等，并且可以由丙 烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、有機(jī)硅酸鹽化合物、硅樹脂 或它們中兩種或更多種類型的組合組成。特別地，依據(jù)硬度和耐久性， 優(yōu)選硅樹脂和丙烯酸樹脂。如果所述硬涂層具有比給定值更小的厚度， 它可以引起涂布效果降低和最終抗反射膜的機(jī)械-物理性能降低。如果 所述厚度值大于給定值，則可能會降低生產(chǎn)率，并導(dǎo)致產(chǎn)生低聚物 (olygomer)，從而由于層壓后固化過程中不完全固化而導(dǎo)致降低光學(xué) 特性。因此，所述硬涂層的厚度為0.1 30/xm，優(yōu)選l 10/xm。就鉛 筆硬度而言，所述硬涂層的表面硬度優(yōu)選為至少2H或更高。特別地， 為了避免最終光學(xué)膜的光學(xué)特性降低，在將硬涂料液體施加到襯底上 之后在可見光(400 700 nm)范圍中，平均表面反射率應(yīng)為6%或更 小，總透光率應(yīng)為80%或更高，和優(yōu)選85%。所述濁度值也應(yīng)優(yōu)選為 3%或更小，和更優(yōu)選1%或更小。
本發(fā)明中高折射率層120、 120，配備在硬涂層110上，并起將抗靜 電性能賦予所述光學(xué)膜的作用。因此，需要層120、 120'含有導(dǎo)電性粒 子和粘合劑組分。這里，附圖標(biāo)記"120"(未顯示出)表示"固化的 高折射率層"，和"120'"表示"半固化的高折射率層"。
本發(fā)明中的導(dǎo)電性粒子指金屬粒子或金屬氧化物粒子。就高透明 度而言，其中優(yōu)選的是金屬氧化物粒子，包含氧化銻錫(ATO)粒子、 氧化銻鋅粒子、氧化銦錫(ITO)粒子、氧化鋅/氧化鋁粒子、氧化銻粒 子等。體現(xiàn)導(dǎo)電性的粒子的平均初級粒徑(根據(jù)BET法則測定的粒徑) 優(yōu)選為至多0.5/an，更優(yōu)選0.001 0.3/mi,更優(yōu)選0.005 0.2/mi。如 果所述平均粒徑高于該指定范圍，則所生產(chǎn)的最終膜(高折射率層) 的透明度降低。如果所述平均粒徑低于該指定范圍，則粒子可能凝集，并因此降低光學(xué)特性。
同時，構(gòu)成高折射率層的粘合劑組分大部分是(甲基)丙烯酸酯化合 物。該(甲基)丙烯酸酯化合物經(jīng)光化射線照射而自由基聚合，并且是優(yōu) 選的，因?yàn)樗鼈兏倪M(jìn)所形成的膜的耐溶劑性或硬度。在本發(fā)明中特別 優(yōu)選多官能性的(甲基)丙烯酸酯化合物，因?yàn)槟腿軇┬缘玫礁倪M(jìn)。所述 多官能性的(甲基)丙烯酸酯化合物的例子包括3-官能性的(甲基)丙烯酸 酯，例如季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、 甘油三(甲基)丙烯酸酯、改性的乙撐三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、
三(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯等，以及4或更多官能性
的(甲基)丙烯酸酯，例如季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
應(yīng)注意使所述高折射率層不完全固化，這是因?yàn)樵趯⑺龈哒凵?率層層壓到施加了低折射率液體的膜上和然后完全固化所述膜之后， 所述高折射率層會提高與低折射率層的層間組合力。
考慮到最終抗反射膜的透明度、抗靜電性能和各種物理/化學(xué)強(qiáng) 度，在所述高折射率層中的金屬化合物粒子與所述粘合劑的優(yōu)選比例
為5/95至20/80。
為了實(shí)現(xiàn)理想的抗靜電性能水平，施加所述高折射率層之后的表 面電阻應(yīng)為至少109 101() fi/sq。
本發(fā)明中的低折射率層130通過在用所述低折射率液體涂布的膜
上層壓所述高折射率層而形成。
如上所述，為了減少產(chǎn)品的損失和缺陷比，根據(jù)本發(fā)明使用具有 雙刀片的輥的涂布裝置和使用該裝置制造光學(xué)膜的方法，能夠通過在 典型的凹版式涂布裝置中安裝另外的后刀片以去除在長時間連續(xù)生產(chǎn)中產(chǎn)生的轉(zhuǎn)移到凹版輥的涂布液氣泡并從而長時間地保持生產(chǎn)過程的 穩(wěn)定性，由此得到均勻的涂層和其良好的外觀。
應(yīng)注意前面提及的實(shí)施方案解釋而不是限制本發(fā)明，以及在不脫 離附帶權(quán)利要求限定的本發(fā)明范圍下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將能設(shè)計許 多備選實(shí)施方案。在權(quán)利要求中，放在括號中的任何附圖標(biāo)記都不將 解釋為限定權(quán)利要求。使用術(shù)語"包含"和其變體不排除不同于任何 權(quán)利要求或說明書作為整體列出的那些的要素或步驟的出現(xiàn)。要素的 單數(shù)表示不排除這些要素的復(fù)數(shù)表示，反之亦然。相互不同的從屬權(quán) 利要求中引用一些措施的簡單事實(shí)不表示不能有利地使用這些措施的 組合。附圖中的附圖標(biāo)記的說明 A:入射光A B:入射光B C:入射光C
a: ^身寸^fc a
b:反射光b
C:反射光C
d:低折射率層的厚度
Hi:低折射率層的折射率
n2:高折射率層的折射率
100:襯底膜
110:硬涂層
120:高折射率層
130:低折射率層
140:防粘膜
2: 后棍
3:前輥
4:后輥
5:后刀片
6:刀片
7:涂布液收集器
8:液體容器
9:供應(yīng)泵
10:膜
11:連接器
12:液體盤
20:涂布液
200:凹版輥或網(wǎng)紋輥
權(quán)利要求
1. 一種使用具有雙刀片的輥的涂布裝置，用于以凹版式涂布方式將涂布液施加到襯底上，其特征在于該涂布裝置包含用于將在液體盤中的涂布液轉(zhuǎn)移到膜上的凹版式涂布液轉(zhuǎn)移輥，在所述輥的三分之一浸在所述液體盤中的涂布液中的同時，旋轉(zhuǎn)所述輥；安裝在所述凹版輥前面的前刀片，用于刮下多余的涂布液，同時留下給定量的待被所述凹版輥轉(zhuǎn)移的涂布液；和安裝在所述凹版輥的后側(cè)的后刀片，用于防止在所述凹版輥表面上產(chǎn)生氣泡。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，相對于凹版輥 (200)以水平面為基準(zhǔn)，后刀片(5)處于0 2(T的角。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，在20 120 Kg/hr的速度下供應(yīng)所述涂布液。
4. 一種通過以微凹版式涂布方式將涂布液施加到襯底而生產(chǎn)光學(xué) 膜的方法，包括步驟使用泵(9)，將涂布液(20)從液體容器(8)均勻和穩(wěn)定地供應(yīng)給液體 盤(12);利用前輥(3)和后輥(4)移動膜(10);和使用與膜(10)上側(cè)相鄰的后輥(2)和與膜(10)下側(cè)相鄰的凹版輥 (200)，在以與膜前進(jìn)方向相反的方向旋轉(zhuǎn)凹版輥(200)的同時，將液體 盤中的涂布液(20)施加到膜(10)的下側(cè)，其中在施加所述涂布液的同時， 用在凹版輥(200)前面形成的前刀片(6)刮下粘附到凹版輥(200)且向上 移動的薄涂布液并用在凹版輥(200)后側(cè)形成的后刀片(5)去除在凹版輥 (200)上產(chǎn)生的氣泡。
全文摘要
本發(fā)明涉及使用具有雙刀片的輥的涂布裝置和使用所述裝置制造光學(xué)膜的方法，其為了減少產(chǎn)品的損失和缺陷比，通過在通常的凹版式涂布裝置中安裝另外的后刀片以除去在長時間連續(xù)生產(chǎn)中產(chǎn)生的轉(zhuǎn)移到凹版式輥上的涂布液氣泡，從而長時間保持生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性，并得到均勻的涂層和良好的外觀。根據(jù)本發(fā)明的所述涂布裝置包含用于將在液體盤中的涂布液轉(zhuǎn)移到膜上的凹版式涂布液轉(zhuǎn)移輥，在所述輥的三分之一浸在所述液體盤中的涂布液中的同時，旋轉(zhuǎn)所述輥；安裝在所述凹版輥前面的前刀片，用于刮下多余的涂布液，同時留下給定量的待被所述凹版輥轉(zhuǎn)移的涂布液；和安裝在所述凹版輥的后側(cè)的后刀片，用于防止在所述凹版輥表面上產(chǎn)生氣泡。
文檔編號B05C11/10GK101428262SQ20081008204
公開日2009年5月13日 申請日期2008年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月8日
發(fā)明者嚴(yán)相烈, 崔光輝, 徐基奉, 李文馥, 鄭智薰, 金相弼 申請人:東麗世韓株式會社