專利名稱：一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于噴涂技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)。
背景技術(shù)：
目前，最簡單的噴涂環(huán)境是在大面積平面上直接噴涂，但隨著噴涂用途的不斷擴(kuò)展，需要噴涂的形狀和要求也越來越多，這就給簡單的噴涂帶來麻煩，一般的局部噴涂方式，是在不需要噴涂的地方用一些材料遮蓋住，以防止被噴涂上，但這種簡單遮蓋的噴涂方式在帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂后，總是在不需要噴涂的地方留有噴涂物。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，而提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，并有效防止在不需要噴涂的地方留有噴涂物的一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)。
本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，由疊置在一起的上環(huán)和下環(huán)構(gòu)成，其特點(diǎn)是所述上環(huán)設(shè)有一臺(tái)階孔，所述上環(huán)的小孔孔徑和所述下環(huán)孔徑相等。
本實(shí)用新型還可以采用如下技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特點(diǎn)是所述上環(huán)小孔端面上設(shè)有一內(nèi)倒角。
帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特點(diǎn)是所述下環(huán)的一個(gè)端面上設(shè)有一內(nèi)倒角。
帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特點(diǎn)是所述內(nèi)倒角為45度。
帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特點(diǎn)是所述上環(huán)和所述下環(huán)接觸的端面為光華面。
本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是通過將疊置在一起的兩個(gè)環(huán)構(gòu)成了保護(hù)環(huán)，加工和使用都帶來了方便，由于上環(huán)設(shè)有一臺(tái)階孔，與下環(huán)疊置后構(gòu)成了內(nèi)孔槽，使被噴涂的帶有凸臺(tái)的環(huán)形體的凸臺(tái)部分落到內(nèi)孔槽中，所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體外圓被疊置在一起的兩個(gè)環(huán)的孔所包圍，有效地防止了噴涂物誤噴到凸臺(tái)的環(huán)形體的外圓和凸臺(tái)上。


圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)的剖視圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例帶有凸臺(tái)的環(huán)形體的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中的標(biāo)號分別為1為上環(huán)，2為下環(huán)，3為上環(huán)孔，4為下環(huán)孔，5為上環(huán)臺(tái)階孔，6為帶有凸臺(tái)的環(huán)形體。
具體實(shí)施方式
為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的發(fā)明內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，茲列舉以下實(shí)施例，并配合附圖詳細(xì)說明如下請參照圖1和圖2用車床分別車一個(gè)帶有上環(huán)臺(tái)階孔5的上環(huán)1，和一個(gè)帶有通孔的下環(huán)2，上環(huán)1的上環(huán)孔3和下環(huán)的下環(huán)孔4的孔徑相等，用磨床在上環(huán)1帶有臺(tái)階的端面上磨削一光華平面，在下環(huán)2磨削一光華平面，將上環(huán)1、下環(huán)2的兩個(gè)光華面疊置，構(gòu)成帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)。
將帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6放入上環(huán)孔3中、上環(huán)孔3的直徑與帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6的外徑相等，上環(huán)1中的上環(huán)臺(tái)階孔5直徑與帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6凸臺(tái)的直徑相等，將下環(huán)2蓋在帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6上，上環(huán)1、下環(huán)2的兩個(gè)光華面接觸，用等離子噴涂機(jī)將噴涂物質(zhì)噴涂在帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6裸露面上，取出噴涂后的帶有凸臺(tái)的環(huán)形體6，形成清晰界限的噴涂區(qū)和未噴涂區(qū)。有效地保護(hù)了帶有凸臺(tái)的環(huán)形體不被等離子噴涂時(shí)濺射噴涂部分。
權(quán)利要求1.一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，由疊置在一起的上環(huán)和下環(huán)構(gòu)成，其特征在于所述上環(huán)設(shè)有一臺(tái)階孔，所述上環(huán)的小孔孔徑和所述下環(huán)孔徑相等。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特征在于所述上環(huán)小孔端面上設(shè)有一內(nèi)倒角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特征在于所述下環(huán)的一個(gè)端面上設(shè)有一內(nèi)倒角。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特征在于所述內(nèi)倒角為45度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，其特征在于所述上環(huán)和所述下環(huán)接觸的端面為光華面。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種帶有凸臺(tái)的環(huán)形體局部噴涂用防護(hù)環(huán)，由疊置在一起的上環(huán)和下環(huán)構(gòu)成，所述上環(huán)設(shè)有一臺(tái)階孔，所述上環(huán)的小孔孔徑和所述下環(huán)孔徑相等；所述上環(huán)小孔端面上設(shè)有一內(nèi)倒角；所述下環(huán)的一個(gè)端面上設(shè)有一內(nèi)倒角；所述內(nèi)倒角為45度；上環(huán)和所述下環(huán)接觸的端面為光華面。通過將疊置在一起的兩個(gè)環(huán)構(gòu)成了保護(hù)環(huán)，加工和使用都帶來了方便，由于上環(huán)設(shè)有一臺(tái)階孔，與下環(huán)疊置后構(gòu)成了內(nèi)孔槽，使被噴涂的帶有凸臺(tái)的環(huán)形體的凸臺(tái)部分落到內(nèi)孔槽中，所述帶有凸臺(tái)的環(huán)形體外圓被疊置在一起的兩個(gè)環(huán)的孔所包圍，有效地防止了噴涂物誤噴到凸臺(tái)的環(huán)形體的外圓和凸臺(tái)上。
文檔編號B05B15/04GK2756324SQ200420056078
公開日2006年2月8日 申請日期2004年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月27日
發(fā)明者史興亞, 鄭義, 陳軍 申請人:中國電子科技集團(tuán)公司第十八研究所