專利名稱：類苯基丙烷化合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及類苯基丙烷(phenylpropanoid)化合物。該化合物對(duì)惡臭例如S類化 合物、N類化合物、低級(jí)脂肪酸具有除臭效果。
背景技術(shù)：
近年來，天然原材料的除臭劑被廣泛用于包括食品用途、環(huán)境用途的各個(gè)方面。但 是，由于天然原材料的除臭劑包含多種化合物，因此其有效成分大多不明確。因此，期望在 對(duì)除臭劑的用途和/或安全性進(jìn)行研究的基礎(chǔ)上，對(duì)具有除臭效果的成分進(jìn)行特別規(guī)定。日本特開平10-151182號(hào)公報(bào)記載了來自甘蔗的除臭物質(zhì)。并且，日本特開 2001-87365號(hào)公報(bào)記載了將來自甘蔗的蒸餾物作為有效成分的除臭劑。專利文獻(xiàn)1 日本特開平10-151182號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2001-87365號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供對(duì)惡臭具有除臭效果的化合物。本發(fā)明提供式I所表示的化合物，
權(quán)利要求
式I所表示的化合物，[化學(xué)式1]式I其中，式I中，R1、R2、R3、R4及R5各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、碳原子數(shù)為1～4的?；?、以及式II所表示的基團(tuán)；[化學(xué)式2]式IIR6任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、碳原子數(shù)為1～4的?；?、碳原子數(shù)為1～4的酰氧基、碳原子數(shù)為2～4的烯基、碳原子數(shù)為1～4的醛基、以及式III所表示的基團(tuán)；[化學(xué)式3]式IIIR7任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷氧基、碳原子數(shù)為1～4的?；?、碳原子數(shù)為1～4的酰氧基、以及式III所表示的基團(tuán)；R8、R9及R10各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、以及碳原子數(shù)為1～4的?；?；以及R11各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷氧基、碳原子數(shù)為1～4的?；?、以及碳原子數(shù)為1～4的酰氧基。FPA00001234193400011.tif,FPA00001234193400012.tif,FPA00001234193400013.tif
2.權(quán)利要求1所述的化合物，其中，R1^R2、R3、R4及R5各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳 原子數(shù)為1 4的烷基、以及式II所表示的基團(tuán)；R6任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1 4的 烷基、碳原子數(shù)為1 4的酰氧基、碳原子數(shù)為2 4的烯基、碳原子數(shù)為1 4的醛基、以 及式III所表示的基團(tuán)；R7任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1 4的烷氧基、碳原子數(shù)為1 4的酰氧基、以及式III所表示的基團(tuán)；R8、R9及Rltl各自獨(dú)立地任意選自氫原子以及碳原子 數(shù)為1 4的烷基；以及R11各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1 4的烷氧基、以及 碳原子數(shù)為1 4的酰基。
3.權(quán)利要求2所述的化合物，其中，禮、R2及R5各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù) 為1 4的烷基以及式II所表示的基團(tuán)；R3及R4任意選自氫原子以及碳原子數(shù)為1 4 的烷基；R6任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1 4的烷基、碳原子數(shù)為2 4的烯基、以及碳原 子數(shù)為1 4的醛基;R7任意選自氫原子以及碳原子數(shù)為1 4的烷氧基；R8、R9及Rltl各自獨(dú)立地任意選自氫原子以及碳原子數(shù)為1 4的烷基；以及R11各自獨(dú)立地任意選自氫原 子以及碳原子數(shù)為1 4的烷氧基。
4.權(quán)利要求3所述的化合物，其中，禮、R2及R5各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù) 為1 2的烷基、以及式II所表示的基團(tuán)；R3及R4任意選自氫原子及碳原子數(shù)為1 2的 烷基；R6任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1 2的烷基、碳原子數(shù)為2 3的烯基、以及碳原子 數(shù)為1 2的醛基；R7任意選自氫原子以及碳原子數(shù)為1 2的烷氧基；R8、R9及Rltl各自 獨(dú)立地任意選自氫原子及碳原子數(shù)為1 2的烷基；以及R11各自獨(dú)立地任意選自氫原子以 及碳原子數(shù)為1 2的烷氧基。
5.權(quán)利要求4所述的化合物，其中，R3及R4為氫原子。
6.權(quán)利要求1所述的化合物，其中，R1為氫原子，R2為甲基，R3為氫原子，R4為氫原子， R5為甲基，R6為乙烯基，以及R7為氫原子。
7.權(quán)利要求1所述的化合物，其中，R1為氫原子，R2為甲基，R3為氫原子，R4為氫原子， R5為甲基，R6為醛基，以及R7為氫原子。
8.權(quán)利要求1所述的化合物，其中，R1為式IV所表示的基團(tuán)，[化學(xué)式4]
全文摘要
本發(fā)明提供對(duì)惡臭具有除臭效果的化合物。本發(fā)明提供式I所表示的化合物。其中，式I中，式I中，R1、R2、R3、R4及R5各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、碳原子數(shù)為1～4的酰基、以及式II所表示的基團(tuán)；R6任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、碳原子數(shù)為1～4的?；⑻荚訑?shù)為1～4的酰氧基、碳原子數(shù)為2～4的烯基、碳原子數(shù)為1～4的醛基、以及式III所表示的基團(tuán)；R7任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷氧基、碳原子數(shù)為1～4的酰基、碳原子數(shù)為1～4的酰氧基、以及式III所表示的基團(tuán)；R8、R9及R10各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷基、以及碳原子數(shù)為1～4的?；?；以及R11各自獨(dú)立地任意選自氫原子、碳原子數(shù)為1～4的烷氧基、碳原子數(shù)為1～4的?；⒁约疤荚訑?shù)為1～4的酰氧基。式I式II式III
文檔編號(hào)C07C47/575GK101983184SQ20098011239
公開日2011年3月2日 申請(qǐng)日期2009年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月31日
發(fā)明者宮下裕幸, 水雅美, 池田剛, 河合俊和 申請(qǐng)人:三井制糖株式會(huì)社