包含含Ni合金和/或其它金屬合金的阻擋層、雙阻擋層、包括雙阻擋層的涂覆制品及其制 ...的制作方法
【專利摘要】一些示例性實(shí)施方式涉及被提供作為阻擋層用來保護(hù)包含銀等的紅外反射層的含Ni三元合金。提供包含鎳、鉻和/或鉬和/或其氧化物的阻擋層，可以改善耐腐蝕性、以及化學(xué)和機(jī)械耐久性。在一些實(shí)例中，在所述包含銀的層的至少一側(cè)上可以使用超過一個(gè)的阻擋層。在還另外的實(shí)例中，代替作為阻擋層或除了作為阻擋層之外，可以在涂層中使用基于NixCryMoz的層作為功能層。
【專利說明】包含含N i合金和/或其它金屬合金的阻擋層、雙阻擋層、包括 雙阻擋層的涂覆制品及其制造方法
[0001] 本申請將題為"包含Μ和/或Ti的阻擋層、包括阻擋層的涂覆制品、及其制造方法" (Barrier Layers Comprising Ni and/or Ti,Coated Articles Including Barrier Layers,and Methods of Making 1:he Same)的美國專利申請序列號 13/064,065(律師代理 案號3691-2195)?及題為"包括低福射涂層的涂覆制品、包括涂覆制品的絕緣玻璃（中空玻 璃）裝置、和/或其制造方法"（Coated A;rticle Including Low-Emissivity Coating, Insulating Glass Unit Including Coated article,and/or Methods of Making the Same)的美國專利申請序列號13/064,066(律師代理案號3691-2319)的全部內(nèi)容引入作為 參考。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式設(shè)及一種涂覆制品（coated adicle)，其例如在 低-E涂層（coating)中包括至少一個(gè)諸如銀等的材料的紅外（IR)反射層。在一些實(shí)施方式 中，含ΜΞ元合金可W在所述涂層中用作至少一個(gè)層。在一些實(shí)例中，運(yùn)種含ΜΞ元合金可 W被提供作為用于包含銀等的紅外（IR)反射層的阻擋層。在其它示例性實(shí)施方式中，所述 含ΜΞ元合金包括儀、銘和/或鋼(例如NixCryMoz等）。在一些示例性實(shí)施方式中，提供包含 儀、銘和/或鋼和/或其氧化物的層允許待使用的層具有改善的耐腐蝕性、W及改善的化學(xué) 和機(jī)械耐久性。在一些示例性實(shí)施方式中，所述含NiS元合金還可W包含Ti、化、Nb、Z;r、Mo、 W、Co和/或其組合。在另外的實(shí)例中，可W在所述包含銀的層的至少一側(cè)上使用超過一個(gè)阻 擋層。可W將含Μ層提供成與包含銀的層相鄰，并且可W將基于金屬的第二阻擋層提供成 與所述含Μ層相鄰。在其它實(shí)例中，可W將包含金屬氧化物的第Ξ阻擋層提供成與所述基 于金屬的第二阻擋層相鄰。
[0003] 本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式還設(shè)及代替(rather than)作為阻擋層或除了作為 阻擋層之外，在涂層中使用基于NixCryMoz的層作為功能層。本文的示例性涂覆制品可用于 絕緣玻璃（中空玻璃，insulating glasssJG)窗裝置、車窗的情形中，或用于其它適合的應(yīng) 用例如整體窗(monolithic window)應(yīng)用、層壓窗(夾層窗，laminated window)等。
【背景技術(shù)】
[0004] 在本領(lǐng)域中，已知涂覆制品用于窗應(yīng)用例如絕緣玻璃（IG)窗裝置、車窗、整體窗 等。在一些示例性情形中，涂覆制品的設(shè)計(jì)者通常爭取高可見光透射率、低福射率(或低發(fā) 射率)和/或低薄層電阻(Rs)的組合。高可見光透射率可W允許將涂覆制品用于需要運(yùn)些特 性的應(yīng)用例如建筑或車窗應(yīng)用中，而低福射率(低-E)和低薄層電阻特性允許運(yùn)樣的涂覆制 品阻擋顯著量的IR福射，W便降低例如車輛或建筑物內(nèi)部不想要的加熱。因此，典型地，對 于用在建筑玻璃上W阻擋顯著量的IR福射的涂層來說，通常希望在可見光譜中的高透射 率。
[0005] 低-E涂層中的紅外反射層影響整個(gè)涂層，并且在一些情況下紅外反射層是堆 (stack)中最敏感的層。不幸的是，包含銀的紅外反射層有時(shí)可能經(jīng)受來自于沉積過程、隨 后的大氣過程、熱處理、化學(xué)攻擊和/或由于嚴(yán)酷的環(huán)境的損傷。在一些情況下，可能需要防 止低-E涂層中基于銀的層遭受氧，遭受化學(xué)攻擊例如酸性和/或堿性溶液、熱氧化、腐蝕，和 遭受由于包括污染物例如氧、氯、硫、酸和/或堿的濕氣而發(fā)生的損傷。如果涂層中的紅外反 射層未得到充分保護(hù)，涂覆制品的耐久性、可見光透射率和/或其它光學(xué)特性可能受損。
[0006] 因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，對具有改善的耐久性和改善的或基本上不變的 光學(xué)性質(zhì)的低-E涂層，存在著需求。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0007] 本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式設(shè)及與包含銀的紅外（IR)反射層聯(lián)合使用的包含 含ΜΞ元合金的改善的阻擋層材料。在一些情形中，所述改善的阻擋層材料可W使所述涂 覆制品的耐久性得W改善。然而，其它示例性實(shí)施方式設(shè)及包含含ΜΞ元合金(例如儀、銘 和/或鋼）的紅外反射層。在運(yùn)些情形中，包含含ΜΞ元合金的紅外反射層的使用也可W產(chǎn) 生具有改善的化學(xué)和/或機(jī)械耐久性的涂覆制品。
[0008] 本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式設(shè)及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制 造方法。在一些示例性實(shí)施方式中，所述方法包括:在所述玻璃基材上設(shè)置介電層;在所述 介電層上方設(shè)置包含含ΜΞ元合金的第一阻擋層;在所述含ΜΞ元合金上方設(shè)置包含銀的 紅外反射層；W及在所述紅外反射層上方設(shè)置包含含ΜΞ元合金的第二阻擋層，其中所述 涂層被用作低-E涂層。
[0009] 其它示例性實(shí)施方式設(shè)及制造涂覆制品的方法，所述方法包括:在玻璃基材上設(shè) 置介電層;在所述介電層上方設(shè)置第一阻擋層;在所述含ΜΞ元合金上方設(shè)置包含銀的紅 外反射層；W及在所述紅外反射層上方設(shè)置第二阻擋層，其中所述涂層被用作低-E涂層，其 中所述第一和第二阻擋層包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的 Mo。
[0010] 其它示例性實(shí)施方式設(shè)及涂覆制品。在一些情形中，所述涂覆制品包含承載低-E 涂層的基材。所述低-E涂層可W從所述基材離開的順序包含:第一介電層;第一阻擋層;包 含銀的第一紅外反射層，其提供在所述第一阻擋層上方并與其相接觸;第二阻擋層，其提供 在所述紅外反射層上方并與其相接觸；W及提供在所述第二阻擋層上方的第二介電層，其 中所述第一和第二阻擋層包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的 Mo。
[0011] 本發(fā)明的其它實(shí)施方式設(shè)及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法， 所述方法包括:在所述基材上設(shè)置介電層，在所述介電層上方設(shè)置包含師、Ti、Cr和Zr中的 一種或多種的第一子阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸地設(shè)置包含含Ni合金 的第一阻擋層;在所述包含含Ni合金的第一阻擋層上方并與其相接觸地設(shè)置包含銀的紅外 反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設(shè)置包含含Μ合金的第二阻擋層；W及在 所述含Μ阻擋層上方并與其相接觸地設(shè)置包含Nb、Ti、Cr和化中的一種或多種的第二子阻 擋層。
[0012] 其它示例性實(shí)施方式還設(shè)及包括由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法。 在一些情形中，所述方法包括:在所述基材上設(shè)置介電層;在所述介電層上方設(shè)置包含Nb、 Ti、Cr和Zr中的一種或多種的第一子阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸地設(shè) 置包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層;在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層上方并 與其相接觸地設(shè)置包含銀的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設(shè)置包含 NiXr、Ti和/或Mo的第二阻擋層；W及在所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的層上方并與其相接觸 地設(shè)置包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第二子阻擋層。
[0013] 其它示例性實(shí)施方式設(shè)及制造涂覆制品的方法，所述方法包括:在玻璃基材上設(shè) 置介電層;在所述介電層上方設(shè)置第一阻擋層;在所述第一阻擋層上方并與其相接觸地設(shè) 置包含銀的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設(shè)置包含NiTi或其氧化物 的第二阻擋層;在所述第二阻擋層上方并與其相接觸地設(shè)置包含Ni化或其氧化物的第Ξ阻 擋層；W及在所述第Ξ阻擋層上方并與其相接觸地設(shè)置包含Sn、Ti、化、Nb、Zr、Mo、W和/或Co 的氧化物的第四阻擋層。
[0014] 其它示例性實(shí)施方式設(shè)及一種涂覆制品。所述涂覆制品包含低-E涂層。所述涂層 包含:玻璃基材;介電層;在所述介電層上方的包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第一子 阻擋層;在所述第一子阻擋層上方并與其相接觸的包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層;在 所述包含Ni、Cr、Ti和/或Mo的第一阻擋層上方并與其相接觸的包含銀的紅外反射層;在所 述紅外反射層上方并與其相接觸的包含Μ、Cr、Ti和/或Mo的第二阻擋層；W及在所述包含 NiXr、Ti和/或Mo的層上方并與其相接觸的包含Nb、Ti、化和Zr中的一種或多種的第二子阻 擋層。
[0015] 本發(fā)明的另一種示例性實(shí)施方式設(shè)及包含由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的 制造方法，所述方法包括:在所述基材上設(shè)置第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相 接觸地設(shè)置包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射 層；W及在所述紅外反射層上方并與其相接觸地設(shè)置第二介電層。
[0016] 其它實(shí)例設(shè)及包含由玻璃基材承載的涂層的涂覆制品的制造方法，所述方法包 括:在所述基材上設(shè)置包含氮化娃的第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相接觸地 設(shè)置包含54-58wt. %的Ni、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射層；在所 述紅外反射層上方并與其相接觸地設(shè)置包含NbZr的阻擋層;在所述紅外反射層上方并與其 相接觸地設(shè)置包含氮化娃的第二介電層；W及在所述第二介電層上方并與其相接觸地設(shè)置 包含錯(cuò)的氧化物的外覆層(overcoat)。
[0017] 本發(fā)明的示例性實(shí)施方式還設(shè)及一種涂覆制品，其包含:玻璃基材;在所述基材上 的包含氮化娃的第一介電層;在所述第一介電層上方并與其相接觸的包含54-58wt. %的 化、20-22.5wt. %的Cr和12.5-14.5wt. %的Mo的紅外反射層;在所述紅外反射層上方并與 其相接觸的包含NbZr的阻擋層;在所述紅外反射層上方并與其相接觸的包含氮化娃的第二 介電層；W及在所述第二介電層上方并與其相接觸的包含錯(cuò)的氧化物的外覆層。
[0018] -些示例性實(shí)施方式還設(shè)及通過上述和/或其它方法之一制造的涂覆制品和/或 絕緣玻璃裝置。
【附圖說明】
[0019] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的包含單一紅外反射層和含ΜΞ元合金阻擋 層的涂覆制品的橫截面圖。
[0020] 圖2(a)-(b)是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的包含單一紅外反射層和基于 NixCryMox的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0021] 圖3(a)-(c)是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的包含單一紅外反射層和基于 NiCrMo、NiTi和/或Ni化的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0022] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的包含至少兩個(gè)紅外反射層和含ΜΞ元合金 阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0023] 圖5是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的包含至少兩個(gè)紅外反射層和基于 化stelloy(哈司特儀基合金)的阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0024] 圖6是根據(jù)本發(fā)明的另一種示例性實(shí)施方式的包含紅外反射層W及提供在紅外反 射層的各側(cè)上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0025] 圖7是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含紅外反射層、與紅外反射層相 鄰的含Μ的第一阻擋層W及與第一阻擋層相鄰的基于金屬的第二阻擋層的涂覆制品的橫 截面圖。
[0026] 圖8是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含紅外反射層、與紅外反射層相 鄰的基于C22的第一阻擋層、W及與第一阻擋層相鄰的基于NbZr的第二阻擋層的涂覆制品 的橫截面圖。
[0027] 圖9是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含至少兩個(gè)紅外反射層、與紅外 反射層相鄰的含Ni的第一阻擋層、W及與第一阻擋層相鄰的基于金屬的第二阻擋層的涂覆 制品的橫截面圖。
[0028] 圖10是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含紅外反射層、W及提供在紅外 反射層的各側(cè)上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖，其中離所述玻璃基材最近和 最遠(yuǎn)的阻擋層夾在兩個(gè)介電層之間。
[0029] 圖11是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含至少兩個(gè)紅外反射層、W及提 供在各紅外反射層的各側(cè)上的第一和第二阻擋層的涂覆制品的橫截面圖，其中離所述玻璃 基材最近和最遠(yuǎn)的阻擋層夾在兩個(gè)介電層之間。
[0030] 圖12是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含紅外反射層、基于NiTi的第一 阻擋層、基于Ni化的第二阻擋層和基于金屬氧化物的第Ξ阻擋層的涂覆制品的橫截面圖。
[0031] 圖13是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含至少兩個(gè)紅外反射層、基于 NiTi的第一阻擋層、基于NiCr的第二阻擋層和基于金屬氧化物的第Ξ阻擋層的涂覆制品的 橫截面圖。
[0032] 圖14是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含基于NiCrMo的功能層的涂覆 制品的橫截面圖。
[0033] 圖15是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含夾在兩個(gè)基于氮化娃的介電 層之間的基于C22的功能層并具有基于氧化錯(cuò)的外覆層的涂覆制品的橫截面圖。
[0034] 圖16是根據(jù)本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的包含夾在介電層之間的基于C22的 功能層和基于NbZr的阻擋層并具有基于氧化錯(cuò)的外覆層的涂覆制品的橫截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035] 現(xiàn)在參考附圖，其中在數(shù)張圖中，相同的附圖標(biāo)記始終指示相同的部件。
[0036] 本文中的涂覆制品可用于涂覆制品應(yīng)用中，例如整體窗、IG窗裝置、車窗，和/或包 括單個(gè)或多個(gè)基材例如玻璃基材的任何其它適合應(yīng)用。
[0037] 如上所述，在一些情形中，可能需要防止低-E涂層中的紅外反射層(例如基于銀的 層)遭受由后續(xù)的沉積過程、熱氧化、腐蝕、濕氣、化學(xué)攻擊和/或嚴(yán)酷環(huán)境引起的損傷。例 如，用于沉積后續(xù)層的等離子體中的氧可W被高度電離，并且可能需要防止基于銀的層遭 受其。此外，在沉積后的"大氣過程"中，基于銀的層可能易受來自氧、濕氣、酸、堿等的攻擊 的影響。如果位于基于銀的層與大氣之間的層具有任何缺陷，使得所述基于銀的層未被完 全覆蓋(例如刮擦、針孔等），情況可能尤為如此。
[0038] 例如，在一些情況下，包括含銀層的涂層的降解也可能由所述層中的Ag的物理重 建及其所導(dǎo)致的上覆層在加熱時(shí)的破壞所引起。在一些示例性實(shí)施方式中，在熱處理期間 可能出現(xiàn)問題。在那些情形中，氧可能擴(kuò)散到基于銀的層中。在一些示例性實(shí)施方式中，至U 達(dá)基于銀的層的氧可能例如通過降低薄層電阻、影響福射率和/或產(chǎn)生模糊(霧度)等影響 其性質(zhì)，并可能通過層堆引起性能降低。在其它情形中，Ag團(tuán)聚可能造成缺陷。
[0039] 在一些示例性實(shí)施方式中，阻擋層可因此與基于銀的層（和/或其它紅外反射層） 一起用在低E涂層中，W減少上述和/或其它問題中的一些或全部的發(fā)生。在一些示例性情 形中，運(yùn)些阻擋層可在銀周圍形成薄的保護(hù)性氧化物層，并改善涂覆制品的耐腐蝕性、化學(xué) 和/或機(jī)械耐久性。
[0040] 本發(fā)明的一些實(shí)施方式設(shè)及一種涂覆制品，其包括至少一個(gè)承載涂層的玻璃基 材。涂層典型地具有至少一個(gè)反射和/或阻擋至少一些I姆畐射的紅外（IR)反射層。在本發(fā)明 的不同實(shí)施方式中，紅外反射層可W是或包括諸如銀、金、Ni化和/或其Ξ元合金等的材料。 通常，紅外反射層被夾在涂層的至少第一和第二接觸層之間。
[0041] 鑒于上述內(nèi)容，有利的是提供包含含ΜΞ元合金的阻擋層。在一些實(shí)例中，阻擋層 可W包含諸如儀、銘和/或鋼(例如化ynes合金例如C22、BC1和/或B3)的材料。在其它示例性 實(shí)施方式中，含ΜΞ元合金還可W包含Ti、化、抓、2'、1〇、胖、0〇和/或其組合。在一些情形中， 含化立元合金阻擋層(例如包含諸如儀、銘和/或鋼等的材料何W具有（1)對紅外反射層的 足夠的附著性；（2)對酸性和/或堿性溶液的改善的耐腐蝕性；（3)在高溫氧化期間的保護(hù)作 用；W及(4)改善的總體化學(xué)和/或機(jī)械耐久性。在其它示例性實(shí)施方式中，運(yùn)些優(yōu)點(diǎn)可W由 使用包含儀、銘和/或鋼的層作為紅外反射層和/或其它功能層而不是作為阻擋層來產(chǎn)生。
[0042] 此外，在其它示例性實(shí)施方式中，可W提供超過一個(gè)阻擋層。已有利地發(fā)現(xiàn)，在紅 外反射層的至少一側(cè)上及在一些情形中在兩側(cè)上）提供至少兩個(gè)阻擋層可W產(chǎn)生上述 優(yōu)點(diǎn)。在一些示例性實(shí)施方式中，含Μ合金或含ΜΞ元合金可W與紅外反射層相鄰使用，并 且可W選擇提供良好的耐腐蝕性、W及良好的化學(xué)和機(jī)械耐久性的材料作為第二阻擋層。
[0043] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實(shí)施 方式中，圖1中示出的涂覆制品可用作在表面1和/或2上具有低-Ε涂層的整體窗，其中所述 低-Ε涂層包括僅單一的紅外反射層。然而，在其它示例性實(shí)施方式中，圖1中的涂覆制品可 W包含其它層。此外，按照本文描述的示例性實(shí)施方式制造的涂覆制品，根據(jù)不同的示例性 實(shí)施方式和應(yīng)用，可用于如下中：在表面1、2、3和/或4上具有涂層的絕緣玻璃裝置(IGU);具 有緊靠(抵靠)表面2和/或3上的界層(夾層，interlayer)嵌入的、或暴露于表面1或4上的涂 層的層壓整體(monolithic lite);具有帶有緊靠表面2和/或3上的界層嵌入的、或暴露于 表面4上或別處的涂層的層壓外側(cè)(ou憂oard)的層壓IGU;具有暴露于表面3和/或6上、或嵌 入在表面4和/或5上的涂層的層壓內(nèi)側(cè)（inboard)的層壓IGU。換句話說，在不同的示例性實(shí) 施方式中，該涂層可W整體地使用，或用于包含兩個(gè)或更多個(gè)基材的絕緣玻璃裝置中，或不 止一次用于玻璃裝置中，并且可W提供在所述裝置的任何表面上。
[0044] 涂覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的 透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層35(或?qū)?體系）。
[0045] 如圖1中所示，涂層35包含:任選的介電層3和/或5;包含含化立元合金的第一阻擋 層7,所述合金可W是或包括Ni、Ti、Cr、Nb、Zr、Mo、W、Co和/或其組合（例如NixCryMoz、 NixTiyCrz、NixTiy師Z、NixNbyZrz、NixCry 化Z、NixTiyM〇z、NixZryM〇z、Nix 師 yMoz、NixCryM〇z、 NixWyCrz、NixWyM〇z、NixWy 化z、NixWyNbz、NixWyTiz、NixC〇yM〇z、NixC〇yCrz、NixC〇yM〇z、NixC〇yZ。、 化xCoyNbz和/或NixCoyTiz);紅外反射層9，其包括銀、金等中的一種或多種；包含含NG元合 金的第二阻擋層11，所述合金可W是或包括Ni、TiXr、Nb、化、Mo、W、Co和/或其組合（例如 NixCryMoz、NixTiyCrz、NixTiyNbz、Nix師y 化Z、NixCryZrz、NixTiyM〇z、NixZryM〇z、Nix 師yMoz、 NixCryM〇z、NixWyCrz、NixWyM〇z、NixWyZrz、NixWyNbz、NixWyTiz、NixC〇yM〇z、NixC〇yCrz、NixC〇yM〇z、 NixC〇yZrz、NixC〇yNbz和/或NixC〇yTiz);W及任選的介電層13,其在一些示例性情形中可W是 保護(hù)性外覆層。在本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式中，還可W提供其它層和/或材料，并且在 一些示例性情形中可W除去或分開（split)-些層也是可能的。層3、5和/或13可W包括一 個(gè)或多個(gè)分離（離散）的層。介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化 錫、氧化鐵和/或任何適合的介電材料。在一些示例性實(shí)施方式中可W提供任選的外覆層 16。在其它實(shí)例中可排除它。在一些示例性實(shí)施方式中，當(dāng)提供任選的外覆層16時(shí)，層16可 W是或包括錯(cuò)。在不同實(shí)例中，基于錯(cuò)的層可W被部分或完全氧化。在其它示例性實(shí)施方式 中，層16可W包含基于錯(cuò)的合金的氧化物例如ZrxM〇y0z、ZrA10x和/或TiZr化。運(yùn)些材料可有 利地對涂層和/或涂覆制品的更好的摩擦學(xué)和/或摩擦性質(zhì)作貢獻(xiàn)。在其它實(shí)例中，可W在 涂層中的其它位置中提供其它介電層。在一些示例性實(shí)施方式中，所述層可W至少在開始 時(shí)作為錯(cuò)的氮化物沉積。
[0046] 紅外（IR)反射層9優(yōu)選地基本上或完全是金屬的和/或?qū)щ姷?，并且可W包含銀 (Ag)、金或任何其它適合的IR反射材料，或基本上由運(yùn)些材料構(gòu)成。紅外反射層9幫助使涂 層具有低-E和/或良好的日光控制特性例如低發(fā)射率、低薄層電阻等。然而，在本發(fā)明的一 些實(shí)施方式中，紅外反射層9可被輕微氧化。
[0047] 在不同的示例性實(shí)施方式中，圖1中示出并在本文中描述的紅外反射層可W包含 銀或基本上由銀構(gòu)成。因此，將認(rèn)識(shí)到，一些示例性實(shí)施方式可包括銀合金。在運(yùn)樣的情形 中，Ag可W與適合量的21'、11、化、吐、口(1和/或其組合形成合金。在一些示例性實(shí)施方式中， Ag可W與Pd和化兩者形成合金，其中Pd和Cu各為約0.5-2% (W重量或原子％計(jì)）。其它可能 的合金包括 Ag 和如下中的一種或多種：Co、C、Mg、Ta、W、NiMg、PdGa、CoW、Si、Ge、Au、Pt、Ru、 511、41、111、￥、111、化、打、化和/或齡。一般來說，滲雜物濃度可^在0.2-5%的范圍內(nèi)（^重量 或原子％計(jì)），更優(yōu)選地為0.2-2.5%。在運(yùn)些范圍內(nèi)操作可W幫助銀維持基于銀的層的否 則可能由于形成合金而喪失的所需光學(xué)特性，從而幫助維持堆的整體光學(xué)特性，同時(shí)還改 善化學(xué)、腐蝕和/或機(jī)械耐久性。本文中確定的示例性Ag合金祀材料可W使用單一祀進(jìn)行瓣 射，通過使用兩種(或更多種)祀共同瓣射來沉積等。除了提供改善的耐腐蝕性之外，Ag合金 的使用在一些情形中可幫助降低在升高的溫度下的銀擴(kuò)散率，同時(shí)還幫助降低或阻擋在層 堆中的氧移動(dòng)的量。運(yùn)可W進(jìn)一步提高銀擴(kuò)散率，并且可改變那些可能導(dǎo)致差的耐久性的 銀生長和結(jié)構(gòu)性質(zhì)。
[0048] 在一些示例性實(shí)施方式中，阻擋層7可W是或包括鋒的氧化物。將認(rèn)識(shí)到，在本發(fā) 明的不同實(shí)施方式中，含ΜΞ元合金的第一和第二層7和11可具有相同或不同的組成。
[0049] 介電層13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵等。在一些示例 性實(shí)施方式中，介電層13可W包含超過一個(gè)分離的層。此外，在一些情形中介電層13可W起 到保護(hù)性外覆層的作用。
[0050] 已有利地發(fā)現(xiàn)，在運(yùn)些層中使用例如含ΜΞ元合金允許改善的耐腐蝕性、W及更 好的化學(xué)和/或機(jī)械耐久性。據(jù)信，含ΜΞ元合金(和/或其氧化物、氮化物和/或氧氮化物） 的使用在Ag的晶粒間界上形成保護(hù)層。在一些示例性實(shí)施方式中，運(yùn)可W導(dǎo)致涂覆制品具 有更好的耐腐蝕性和/或防潮性、W及化學(xué)耐久性。此外，據(jù)信由于在紅外反射層周圍形成 薄的保護(hù)性氧化物層，可W減少氧擴(kuò)散，運(yùn)在一些示例性實(shí)施方式中也可W幫助改善耐腐 蝕性、化學(xué)和機(jī)械耐久性。
[0051 ] 在一些示例性實(shí)施方式中，含ΜΞ元合金可W包含儀、銘和/或鋼。在一些示例性 實(shí)施方式中，儀和含Μ合金可W能夠經(jīng)受住各種腐蝕性環(huán)境、高溫、高應(yīng)力和/或運(yùn)些因素 的組合。然而，在一些情況下，Ni可W在正常環(huán)境中提供良好的耐腐蝕性，但是可能對高溫 濕氣和/或酸攻擊敏感。因此，在一些實(shí)例中可W添加化W提供對酸性溶液的改善的耐腐蝕 性。在其它實(shí)例中，化還可W提供對高溫氧化的防護(hù)。
[0052] 然而，由或基本上由Μ和/或Cr構(gòu)成的阻擋層仍可W改善。例如，基本上由沉積并 在空氣中加熱的NiCr(其然后可W形成Ni化的氧化物)構(gòu)成的層，當(dāng)經(jīng)受熱的酸性和堿性溶 液時(shí)，可經(jīng)歷腐蝕和/或侵蝕。經(jīng)加熱的Μ化涂層可能在下列物質(zhì)中被侵蝕掉：（1)20 %化0H (65。1小時(shí)）；（2)50%出8〇4(65°(：;1小時(shí)）；和（3)5%肥1(65°(：;1小時(shí)）。此外，當(dāng)經(jīng)受沸水 a〇(TC;l小時(shí)）時(shí)，已觀察到經(jīng)加熱的NiCr變得模糊。運(yùn)可能是由于氯化物和/或氨化物的 形成所導(dǎo)致的。
[0053] 作為另一個(gè)實(shí)例，涂覆的含NiCr的層(例如，與經(jīng)加熱的含NiCr的層相比氧化程度 較低或部分氧化)可被50%出S(k(65°C ; 1小時(shí))和5 %HC1 (65°C ; 1小時(shí))侵蝕掉。因此，可W看 到，紅外反射層(例如包含銀)對化學(xué)攻擊和/或在嚴(yán)酷環(huán)境中（例如在熱和/或潮濕環(huán)境中） 易受損傷。因此，對改善的阻擋層存在著需求。對于其中涂覆制品將整體地使用或用在絕緣 玻璃裝置或?qū)訅航M件的外表面上的應(yīng)用來說，情況可能尤為如此，因?yàn)樵谝恍┦纠詫?shí)施 方式中涂層可能暴露于運(yùn)些因素。
[0054] 因此，在其中提供有涂層的整體應(yīng)用中，在涂層被提供在表面1(例如用于防凝結(jié)） 和/或4(例如用于改善U值)上的絕緣玻璃裝置中，W及在運(yùn)些涂層可能直接暴露于環(huán)境的 其它情形中，可能希望使用運(yùn)些具有更好的耐腐蝕性、W及改善的化學(xué)和/或機(jī)械耐久性的 材料，例如，用于保護(hù)基于Ag的層。
[0055] 已發(fā)現(xiàn)，在一些示例性實(shí)施方式中，鋼(特別是在與儀一起使用時(shí)）可W改善對酸 W及對點(diǎn)狀和裂縫腐蝕的耐受性。此外，鋼(特別是在與銘一起使用時(shí)）可W針對來自堿溶 液的腐蝕提供改善的性質(zhì)。因此，已有利地發(fā)現(xiàn)，在低E堆中，在基于銀的層周圍使用基于 NiCrMo的合金可W提供改善的耐腐蝕性、W及改善的化學(xué)和/或機(jī)械耐久性。沉積的和熱處 理的基于NiCrMo的阻擋層可W提供與由和/或基本上由Ni和Cr構(gòu)成的阻擋層相比具有改善 的性能的涂層。
[0化6] 已有利地發(fā)現(xiàn)，在一些情形中，基于NiCrMo的合金（例如C22、BC1和/或B3 化llestoy)與基本上由Ni和化構(gòu)成的層相比，可W更好地保護(hù)包括至少一個(gè)基于銀的層的 涂層。此外，在另外的實(shí)例中，基于NiCrMo的合金可W保護(hù)涂覆制品免受可見損傷。此外，還 相信NiCrMo可與涂層中的頂部介電層(例如層13)形成合金，運(yùn)也可甚至改善該層對抗堿溶 液和沸水的性能。在頂部介電層13基于娃的實(shí)施方式中，情況可能尤為如此。例如，包含 MoSi的材料由于其良好的耐熱性和耐腐蝕性，在較高溫度下被用作加熱器。
[0化7] 表1-3示出了基于Μ化Mo的合金的Ξ種示例性實(shí)施方式（例如C22、BC1和B3)的組 成用于參考。
[0化引表1:化xCryMoz的第一種示例性實(shí)施方式(例如C22)-Wwt. %計(jì)的元素組成 [0化9]
[0060] 表2:NixCryM〇z的第二種示例性實(shí)施方式(例如B3)-Wwt. %計(jì)的元素組成
[0061]
[0062]表3:NixCryM〇z的第S種示例性實(shí)施方式(例如BCl)-Wwt. %計(jì)的元素組成
[0063]
[0064] 圖2(a)包括涂層35'。圖2(a)是基于圖1，除了圖2(a)具體地要求層7和11包含含有 Ni化Mo的合金。在一些示例性實(shí)施方式中，層7和/或11還可W潛在地小的量包含F(xiàn)e、W、Co、 81、111、(：、￥、41和/或11，例如上面在表1中示出的。
[0065] 圖2(b)示出了涂層35"。圖2(b)是基于圖1和2(a)，除了圖2(b)具體地要求層7和11 是或包括化stelloy C22,并指明任選的外覆層包括Zr。
[0066] 圖3(a)示出了不同的示例性實(shí)施方式。在圖3(a)的實(shí)施方式中，不同的基于Ni的 合金可W被有利地用于一個(gè)涂層36內(nèi)，W便進(jìn)一步改善涂層的性質(zhì)。在與圖3(a)-(c)相關(guān) 的示例性實(shí)施方式中，基于Ni的合金不必需是Ξ元合金。在一些情形中，基于Ni的合金可W 是二元的，或者可W包含超過3種金屬。例如，層7可W是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或 氮化物），而層11是或包括NiTi(和/或其氧化物和/或氮化物）。在一些示例性實(shí)施方式中， 其中層7基于Ni化并且層11基于NiTi的層堆與其中層7和11二者都基于Ni化的層堆相比，薄 層電阻可低約25至45%，更優(yōu)選地低約30至40%，最優(yōu)選地低至少34%。
[0067] 作為另一個(gè)實(shí)例，層7可W是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），而層11是 或包括NixCryMoz(例如C22)。在一些示例性實(shí)施方式中，其中層7基于NiCr并且層11基于 NixCryMoz的層堆與其中層7和11兩者都基于Ni化的層堆相比，薄層電阻可W低約20至35%， 更優(yōu)選地低約25至30%，最優(yōu)選地低至少28%。
[006引因此，在一些示例性實(shí)施方式中，層7可W是或包括NiCr、Nix化yMoz(例如C22、B3、 BC1等）和NiTi中的至少一種，并且層11也可W是或包括Ni化、Nix化yMoz(例如C22、B3、BC1 等)和NiTi中的至少一種，只要為層7選擇的材料與為層11選擇的材料不同。
[0069] 圖3(b)示出了承載涂層36'的涂覆制品1。圖3(b)是基于圖3(a)，除了圖3(b)具體 要求層7是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），并且層11是或包括NiTi(和/或其氧 化物和/或氮化物）。
[0070] 圖3(c)示出了承載涂層36"的涂覆制品1。圖3(c)是基于圖3(a)，除了圖3(c)具體 要求層7是或包括NiCr(和/或其氧化物和/或氮化物），并且層11是或包括NixCryMoz(和/或 其氧化物和/或氮化物）。
[0071] 如上面討論的，按照圖3(a)-(c)制造的涂層可W有利地具有與例如包括僅基于 Ni化的阻擋層的涂層相比明顯降低的薄層電阻。
[0072] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實(shí)施 方式中，圖4中示出的涂覆制品可W用作具有擁有兩個(gè)紅外反射層的低-E涂層的整體窗。涂 覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、 青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材），W及直接或間接提供在基材上的多層涂層(或?qū)芋w系)45。圖4 的實(shí)施方式包括玻璃基材1、介電層3和/或5、含ΜΞ元合金7、基于銀的層9、含ΜΞ元合金 11、基于銀的層19、含ΜΞ元合金21、介電層13和任選的外覆層16。層7、11和/或21可W是或 包括本文中對于圖1的示例性實(shí)施方式中的層7所討論的任何和/或所有示例性材料。類似 地，基于Ag的層9和19可W是本文中討論的銀合金。介電層3、5、13和16是任選的。運(yùn)些層可 W包含本文中對于運(yùn)些層所討論的任何材料。根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，可W提供運(yùn)些 層中的一些或所有、或不提供運(yùn)些層。
[0073] 圖5是基于圖4,并包括涂層45'。圖5指定層7、9、11和/或19可W包含基于NiCrMo的 合金(例如C22、BC1和/或B3)。
[0074] 其它示例性實(shí)施方式，例如圖6中示出的，設(shè)及上面提到的本發(fā)明的一些示例性實(shí) 施方式的另一方面。在運(yùn)些示例性實(shí)施方式中，已發(fā)現(xiàn)在功能層（例如包含銀的紅外反射 層)的每個(gè)或任一側(cè)上提供兩個(gè)阻擋層可W導(dǎo)致改善的耐久性。
[0075] 更具體地，圖6是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂覆制品的橫截面圖。涂覆制品 包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色 或藍(lán)綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層50(或?qū)芋w系）。涂層50由玻 璃基材1承載，并包括任選的介電層3和/或5、第一和第二阻擋層8/10和夾住基于銀的層9的 6/12、介電層13和任選的外覆層16。
[0076] 任選的介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化鐵、氧化錫和 任何其它適合的介電材料。根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，可W存在運(yùn)些層中的所有或一些， 或不存在運(yùn)些層。在其它示例性實(shí)施方式中，運(yùn)些層中的每個(gè)可W包括一個(gè)或多個(gè)分離的 層。
[0077] 在一些示例性實(shí)施方式中，可W提供任選的外覆層16。在其它實(shí)例中，可W排除 它。在一些示例性實(shí)施方式中，當(dāng)提供任選的外覆層16時(shí)，層16可W是或包括錯(cuò)。在一些情 形中，基于錯(cuò)的層可W被部分和/或完全氧化。在其它示例性實(shí)施方式中，層16可W包含基 于錯(cuò)的合金的氧化物，例如化xMoyOz、化A1化和/或TiZrOx。運(yùn)些材料可W有利地對涂層和/ 或涂覆制品的更好的摩擦學(xué)和/或摩擦性質(zhì)作貢獻(xiàn)。
[0078] 仍參考圖6,阻擋層6和12可W包含被選擇用于改善的耐腐蝕性和/或增強(qiáng)的化學(xué) 和機(jī)械耐久性的材料。在一些示例性實(shí)施方式中，"阻擋層Γ層8和10(在下面詳細(xì)討論）W 及"阻擋層2"層6和12之間的附著是有利的。在一些情形中，層6和12可W分別良好地附著于 層8和10, W及良好附著于介電層12。此外，在一些實(shí)施方式中，用于層6和12的材料可W與 用于層8和10的材料在化學(xué)上相容。
[0079] 對于可熱處理的（例如可回火的）涂層來說，在一些情形中可能希望用于層6和12 的材料是熱穩(wěn)定的。在一些示例性情形中，還可能希望運(yùn)些材料在熱處理后在光學(xué)或物理 學(xué)方面不顯著降低涂層的性能。
[0080] 鑒于上述內(nèi)容，已有利地發(fā)現(xiàn)，"阻擋層2"層6和12可W包含抓、2'、11、化和/或抓。 例如，層6和/或12可W包含師化、Zr、Ti化和/或Ti師。在一些示例性實(shí)施方式中，運(yùn)些材料 為退火的和/或可熱處理的涂層提供良好的耐腐蝕和耐化學(xué)性質(zhì)。在一些示例性實(shí)施方式 中，當(dāng)涂層退火時(shí)，Tier可W用作"阻擋層2"。在其它示例性實(shí)施方式中，當(dāng)涂層被熱處理 時(shí)，Zr、NbZr和/或TiNb可W用于層6和/或12。
[0081] 仍參考圖6的實(shí)施方式，含Μ合金可W與包含銀的層9相鄰使用。在一些示例性實(shí) 施方式中，最接近包含銀的層的阻擋層、即"阻擋層Γ (層8和10)，可W是或包括Μ。層8和/ 或10還可W包括Cr、Mo和/或Ti中的一種或多種。在一些示例性實(shí)施方式中，NiCrMo、NiCr 和/或NiTi可W用于層8和/或10。已有利地發(fā)現(xiàn)，將運(yùn)些用于層8和/或10的材料靠近或鄰近 基于銀的層使用，可W提供與包含Ag的層的更好的附著和化學(xué)相容性。在一些示例性實(shí)施 方式中，單獨(dú)的Ti可能不提供強(qiáng)的耐腐蝕性，但是當(dāng)它與Μ形成合金時(shí)，可W有利地使合金 勢(alloy potential)在高的（noble)或正的方向上移動(dòng)，從而可W為Ag提供更好的保護(hù)。 在一些實(shí)例中，可熱處理(例如熱強(qiáng)化的和/或可熱回火的)NiTi可W提供改善的性能，特別 是在耐久性和光學(xué)性質(zhì)方面。
[0082] 此外，在一些示例性實(shí)施方式中，上面提到的用于層8和10的材料也可W提供改善 的Ag分散。據(jù)信，提供更好的Ag的結(jié)構(gòu)性質(zhì)可W幫助實(shí)現(xiàn)更好的光學(xué)性質(zhì)例如色散。目前還 相信，在一些情形中，緊鄰包含Ag的層提供包含NiTi化的層可W減少團(tuán)聚和Ag膜早期聚結(jié)。
[0083] 圖7是基于圖6。在圖7中，涂層50'包括包含師化、Zr、TiCr和/或Ti師的層6和/或 12、W及包含含Ni阻擋層的層8和/或10。
[0084] 圖8也基于圖6,并示出了示例性實(shí)施方式。在圖8中，涂層50"包含基于氮化娃的介 電層3(省略了任選的介電層5)、包含Nb化的第一"阻擋層2"層6、包含C22的第一"阻擋層Γ 層8、基于銀的紅外反射層9、包含C22的第二"阻擋層Γ層10、包含師化的第二"阻擋層2"層 12、W及包含氮化娃的介電層13,其在一些情形中也可W起到保護(hù)性外覆層的作用。然而， 在其它示例性實(shí)施方式中，可W提供單獨(dú)的保護(hù)性外覆層16。在一些示例性實(shí)施方式中，層 16可W是基于錯(cuò)的，并且可W是或包括錯(cuò)的氧化物和/或其合金。它也可W進(jìn)一步包括A1、 T巧日/或Mo。
[0085] 圖9也類似于圖6的實(shí)施方式，但是圖9設(shè)及雙銀涂層60。圖9包括玻璃基材1、介電 層巧日/或5、第一"阻擋層2"層6、第一"阻擋層Γ層8、包含Ag的第一紅外反射層9、第二"阻擋 層Γ層10、第二"阻擋層2"層12、第立""阻擋層Γ層18、包含Ag的第二紅外反射層19、第四 "阻擋層Γ層20、第四"阻擋層2"層22、介電層13和任選的外覆層16。在圖9中，"阻擋層Γ層 8、10、18和/或20可W是或包括本文中對于"阻擋層Γ層8和/或10所討論的任何材料。然而， 在一些示例性情形中，阻擋層18可W是或包括與阻擋層8和10相比不同的材料。"阻擋層2" 層6、12和22可W是或包括本文中對"阻擋層2"層6和/或12所討論的任何材料。按照不同的 示例性實(shí)施方式，可W存在介電層3、5和/或13中的一些或所有，或者不存在運(yùn)些介電層。介 電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的介 電材料。在其它示例性實(shí)施方式中，可W提供獨(dú)立的保護(hù)性外覆層16。在一些示例性實(shí)施方 式中，層16可W是基于錯(cuò)的，并且可W是或包括錯(cuò)的氧化物和/或其合金，任選地進(jìn)一步包 括Al、Ti和/或Mo。在其它實(shí)例中，在涂層中的其它位置中可W提供其它介電層。
[0086] 圖10示出了涂層50"'，其與圖6中示出的涂層50類似。然而，涂層50"'還包括介電 層14和/或15。在一些示例性實(shí)施方式中，運(yùn)些介電層可W提供在基于銀的層9下方的"阻擋 層Γ與"阻擋層2"之間，并且也可W提供在基于銀的層9上方的"阻擋層2"與"阻擋層Γ之 間。在按照圖10的一些示例性實(shí)施方式中，夾在介電層當(dāng)中的"阻擋層2"層6和12可w進(jìn)一 步改善運(yùn)些層和/或整個(gè)涂層的化學(xué)和/或機(jī)械耐久性。此外，在涂層中包含介電層14和/或 15可W有利地進(jìn)一步保護(hù)基于銀的層免受腐蝕和/或刮擦。在一些示例性實(shí)施方式中，層14 和/或15可W包含氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化鐵、氧化錫和/或任何其它適合的介電材 料。此外，在一些示例性實(shí)施方式中，層14和/或15可W是致密的。
[0087] 圖11示出了涂層60'，其與圖9中示出的涂層60類似。然而，涂層60'還進(jìn)一步包含 介電層14'和/或15'。運(yùn)些層類似于上面討論的層14和15。層14'和15'也夾在分別地最接近 玻璃基材和最遠(yuǎn)離玻璃基材的"阻擋層2"的層之間。在圖11的實(shí)施方式中，層6和22分別被 夾在介電層3和/或5與14'W及15'與13之間。
[0088] 圖12和13是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂覆制品的橫截面圖。在圖12中，涂 覆制品包括玻璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、 青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層75(或?qū)芋w系）。圖12 包括介電層3和/或5、阻擋層7和/或8、基于銀的層9、阻擋層10'、阻擋層10"和阻擋層24、W 及介電層13,介電層13按照不同的示例性實(shí)施方式可W起到外覆層和/或頂部涂層的作用。 介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的 介電材料。在其它實(shí)例中，可W在涂層中的其它位置中提供其它介電層。在其它示例性實(shí)施 方式中，可W提供獨(dú)立的保護(hù)性外覆層16。在一些示例性實(shí)施方式中，層16可W是基于錯(cuò) 的，并且可W是或包括錯(cuò)的氧化物和/或其合金，任選地進(jìn)一步包括Al、Ti和/或Mo。
[0089] 在圖12中，阻擋層6、7和/或8可W是或包括對于圖1-2的包含含ΜΞ元合金的層7、 是或包括Μ、化、Mo和/或Ti的"阻擋層Γ層8和/或10、和/或是或包括師、Zr、Ti、吐和/或Nb 的"阻擋層2"層6和/或12所討論的材料。在一些實(shí)例中，在圖12的實(shí)施方式中存在層6、7和8 中的僅一個(gè)。然而，在其它實(shí)施方式中，可W存在所述層中的多個(gè)。
[0090] 圖12還包括阻擋層10'、阻擋層10"和阻擋層16。在一些示例性實(shí)施方式中，阻擋層 10'可W包含Ni，使其良好地附著于基于Ag的層9。特別是，在一些示例性實(shí)施方式中，層10' 可W是或包括Ni和/或Ti、和/或其氧化物（例如NixTiyOz)。層10"可W是或包括Ni和/或Cr、 和/或其氧化物。在一些示例性實(shí)施方式中，層10"可W提高整個(gè)涂層的機(jī)械耐久性。最后， 在一些情形中，層24可W是"阻擋氧化物"（BOX)層。在一些示例性實(shí)施方式中，層24可W是 或包括Sn、Ti 吐、Ti師、師Zr、CrZr、TiMo、ZrMo、師Mo、CrMo、WCr、WMo、WZr、W師、WTi、CoMo、 CoCr、CoZr、CoNb和/或CoTi的氧化物。在一些實(shí)例中，提供阻擋層16可W進(jìn)一步改善涂層的 耐久性。
[0091] 圖13是基于圖12,但是包括雙紅外反射層涂層85。在一些示例性實(shí)施方式中，圖13 中示出的涂覆制品可W用作具有擁有雙紅外反射層的低-E涂層的整體窗。涂覆制品包括玻 璃基材1 (例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠 色玻璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層85(或?qū)芋w系）。圖13包括介電層3 和/或5、阻擋層6、7和/或8、基于銀的層9、阻擋層10、11和/或12、基于Ag的層19、阻擋層10'、 阻擋層10"和阻擋層24、W及介電層13,介電層13按照不同的示例性實(shí)施方式可W起到外覆 層和/或頂部涂層的作用。在其它示例性實(shí)施方式中，可W提供獨(dú)立的保護(hù)性外覆層16。在 一些示例性實(shí)施方式中，層16可W是基于錯(cuò)的，并且可W是或包括錯(cuò)的氧化物和/或其合 金，任選地進(jìn)一步包括Al、Ti和/或Mo。介電層3、5和13可W是或包括氮化娃、氧化娃、氧氮化 娃、氧化錫、氧化鐵和/或任何適合的介電材料。在其它實(shí)例中，可w在涂層中的其它位置中 提供其它介電層。
[0092] 在圖13中，阻擋層6、7和/或8可W是或包括對于圖1-2的包含含ΜΞ元合金的層7、 是或包括Μ、化、Mo和/或Ti的"阻擋層Γ層8和/或10、和/或是或包括師、Zr、Ti、吐和/或Nb 的"阻擋層2"層6和/或12所討論的材料。在一些實(shí)例中，在圖13的實(shí)施方式中存在層6、7和8 中的僅一個(gè)。然而，在其它實(shí)施方式中，可W存在所述層中的多個(gè)。
[0093] 在圖13中，阻擋層10'、10"和24可W是或包括本文中對于圖12的實(shí)施方式中的層 10'、10"和24所討論的材料。
[0094] 在其它示例性實(shí)施方式中，基于銀的層上方的阻擋層材料可W與提供在基于銀的 層下方的阻擋層材料不同。本文中提到的用于阻擋層的所有可能的組合可用于圖中所示并 在本文中描述的任何層堆。
[00M]在一些示例性實(shí)施方式中，本文中描述的所有二元、Ξ元、四元等合金可W由單一 的金屬和/或陶瓷祀瓣射，或者在不同實(shí)施方式中，它們可W由兩種或更多種不同的祀(金 屬的和/或陶瓷的)共同瓣射。
[0096] 圖14是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂覆制品的橫截面圖。在一些示例性實(shí)施 方式中，圖14中示出的涂覆制品可W用作具有單一功能層的整體窗。涂覆制品包括玻璃基 材1(例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠色玻 璃基材）、W及直接或間接提供在基材上的多層涂層1〇〇(或?qū)芋w系）。圖14包括玻璃基材1、 任選的介電層3和/或5、包含基于NiCrMo的合金(例如C22、BC1或B3)的功能層9'、任選的介 電層13和任選的外覆層16。在該涂層中可W包括其它層。層13可W是或包括娃的氧化物、氮 化物和/或氧氮化物，和/或鐵、錫等的氧化物。在一些示例性實(shí)施方式中，層16可W是基于 錯(cuò)的，并且可W是或包括錯(cuò)的氧化物和/或其合金，任選地進(jìn)一步包括Al、Ti和/或Mo。
[0097] 圖15示出了基于圖14的實(shí)施方式的示例性實(shí)施方式。圖15包括涂層100'。在圖15 中，介電層3包含氮化娃，并且排除介電層5。注意，根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，可W排除本 文描述的任何介電層。此外，根據(jù)其它示例性實(shí)施方式，運(yùn)些層可W被分開，或者可W插入 額外的層。層9'是涂層的功能層，并且在圖15的實(shí)施方式中層9'包含C22。如上指出的可W 包含超過一個(gè)分離的層的介電層13包含氮化娃，并且層13'包含氧化錯(cuò)。在本發(fā)明的不同實(shí) 施方式(包括在上面圖示和描述的實(shí)施方式）中，包含Zr化的層可W被提供作為保護(hù)性外覆 層。然而，在一些示例性實(shí)施方式中，包含SixNy的層可W被提供為外覆層，例如上面提到 的。
[0098] 圖16示出了基于圖14的實(shí)施方式的另外的示例性實(shí)施方式。圖16類似于圖15,但 是圖16還包括阻擋層6'。阻擋層6'可W包含在圖6-9的實(shí)施方式中對于"阻擋層2"的層所討 論的材料。因此，層6'可W起到功能層9'的阻擋層的作用，并且如圖16中所示可W是或包括 NbZr。在其它示例性實(shí)施方式中，層6'可W是或包括Nb、Zr、Ti和/或化中的一種或多種。
[0099] 根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，本文中討論的阻擋層可W被氧化和/或氮化。根據(jù)不 同的示例性實(shí)施方式，運(yùn)些層可W在氧氣和/或氮?dú)獾拇嬖谙鲁练e，和/或可W在進(jìn)一步的 處理步驟例如隨后層的沉積和/或熱處理期間變得氧化和/或氮化。
[0100] 此外，根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，本文中討論的基于Μ的Ξ元合金可W是四元 合金或具有甚至超過4種材料。換句話說，盡管一些示例性實(shí)施方式被描述為"Ξ元合金"， 但將認(rèn)識(shí)到，運(yùn)樣的合金可包括Ξ種或更多種材料。
[0101] 在另外的實(shí)施方式中，是或包括NiCr的層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比 例為20:80、40:60、60:40或80:20(^重量計(jì)）的化化。是或包括化1〇的層和/或用于瓣射所 述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或80:20 (W重量計(jì)）的NiMo。是或包括NbCr的 層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或80:20(^重量計(jì)）的 Nb化。是或包括Nb化的層和/或用于瓣射所述層的祀可W包含比例為20:80、40:60、60:40或 80:20 (W重量計(jì)）的NbZr。本文中描述的阻擋層還可W是或包括化ynes 214。
[0102] 在一些示例性實(shí)施方式中，圖1-16中示出的涂覆制品可W用作在表面1和/或2上 具有低-E涂層的整體窗，其中所述低-E涂層包括僅單一的紅外反射層。然而，在其它示例性 實(shí)施方式中，圖1中的涂覆制品可包含進(jìn)一步的層。此外，按照本文描述的示例性實(shí)施方式 制造的涂覆制品，根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式和應(yīng)用，可用于如下中：在表面1、2、3和/或4 上具有涂層的絕緣玻璃裝置（IGU);具有嵌入在表面2和/或3上的界層中、或設(shè)置在所述界 層上、或緊靠所述界層設(shè)置、或暴露于表面4上的涂層的層壓整體;具有擁有緊靠表面2和/ 或3上的界層嵌入、或暴露于表面4上的涂層的層壓外側(cè)的層壓IGU;具有擁有暴露于表面3 和/或6上、或嵌入在表面4和/或5上的涂層的層壓內(nèi)側(cè)的層壓IGU。換句話說，在不同的示例 性實(shí)施方式中，該涂層可W整體地使用，或用于包含兩個(gè)或更多個(gè)基材的絕緣玻璃裝置中， 或不止一次用于玻璃裝置中，并且可W提供在所述裝置的任何表面上。然而，在其它示例性 實(shí)施方式中，本文中描述的涂覆制品可W與任何數(shù)量的紅外反射層一起使用，并且可W與 任何數(shù)量的其它玻璃基材組合，W產(chǎn)生層壓和/或絕緣玻璃裝置。根據(jù)不同的示例性實(shí)施方 式，涂層也可W與IGU、VIG、汽車玻璃和任何其它應(yīng)用結(jié)合使用。
[0103] 此外，對于其中涂層直接暴露于外部大氣的應(yīng)用，如本文中描述的圖1-16中的涂 層可W在表面1上使用。在一些示例性實(shí)施方式中，運(yùn)可W包括抗凝結(jié)涂層。在其它示例性 實(shí)施方式，運(yùn)可W包括天窗、車窗和/或擋風(fēng)玻璃、絕緣玻璃裝置、V絕緣玻璃裝置、冰箱和/ 或冷凍庫口等。如本文中描述的圖1-16中的涂層還可W應(yīng)用于雙絕緣玻璃裝置的表面4或 Ξ絕緣玻璃裝置的表面6, W改善窗戶的U值。運(yùn)些涂層也可W整體地用在諸如擋風(fēng)口的應(yīng) 用中。在一些示例性實(shí)施方式中，如本文中所描述的涂層有利地表現(xiàn)出優(yōu)異的耐久性和穩(wěn) 定性、低霧度、W及在一些示例性實(shí)施方式中光滑、易于清潔的性質(zhì)。
[0104] 本文描述的涂層的其它示例性實(shí)施方式，特別是用于整體涂層應(yīng)用的涂層，包括 抗凝結(jié)涂層。如本文所描述的涂層可用于表面1抗凝結(jié)應(yīng)用。運(yùn)可W使涂層在戶外環(huán)境中長 存。在一些示例性實(shí)施方式中，涂層可W具有低的半球福射率，使得玻璃表面更可能保留來 自于內(nèi)部區(qū)域的熱量。運(yùn)可W有利地減少在其上的凝結(jié)的存在。
[0105] 本文描述的涂層的另一種示例性應(yīng)用包括將本文中公開的示例性涂層或材料應(yīng) 用于絕緣玻璃裝置的暴露于建筑物內(nèi)部的表面4(例如離太陽最遠(yuǎn)的表面）。在運(yùn)些情形中， 涂層將暴露于大氣。在一些情形中，運(yùn)可能損壞堆中的Ag層。然而，通過使用如本文所描述 的涂層，包含改善的阻擋材料和/或Ag合金的涂層可具有改善的耐腐蝕性、W及更好的機(jī)械 和/或化學(xué)耐久性。
[0106] 盡管一些示例性實(shí)施方式已被描述為與低-E涂層有關(guān)，但本文中描述的各種阻擋 層可W與不同類型的涂層結(jié)合使用。
[0107] 在一些示例性實(shí)施方式中，如本文所描述的涂覆制品（例如參見圖1-14)可W進(jìn)行 或者可w不進(jìn)行熱處理(例如回火）。如本文中使用的術(shù)語"熱處理"是指將制品加熱至足w 實(shí)現(xiàn)包含玻璃的制品的熱回火和/或熱強(qiáng)化的溫度。該定義包括，例如，將涂覆制品在烘箱 或爐中在至少約550°C、更優(yōu)選地至少約580°C、更優(yōu)選地至少約600°C、更優(yōu)選地至少約620 °C、最優(yōu)選地至少約650°C的溫度下加熱一段足W允許回火和/或熱強(qiáng)化的時(shí)間。在一些示 例性實(shí)施方式中，運(yùn)可W是至少約2分鐘，或者最長達(dá)約10分鐘。
[010引如上所述，一些示例性實(shí)施方式可W包括由玻璃基材承載的低-E涂層。運(yùn)種涂覆 制品可W整體地使用或?qū)訅旱搅硪粋€(gè)玻璃或其它基材。涂覆制品還可W構(gòu)建到絕緣玻璃 (IG)裝置內(nèi)。絕緣玻璃裝置一般包含基本上平行的間隔開的第一和第二玻璃基材。在基材 的周邊周圍提供密封，并且在基材之間維持間隙（其可W至少部分地填充有惰性氣體例如 A;r、Xe、K;r等）。
[0109] 如上面提到的，本文公開的示例性材料可W與低-E和/或抗凝結(jié)應(yīng)用結(jié)合使用。示 例性的低-E和/或抗凝結(jié)涂層描述在例如申請序列號12/926,714、12/923,082、12/662， 894、12/659,196、12/385,234、12/385,802、12/461,792、12/591,611 和 12/654,594中，其全 部內(nèi)容在此引入作為參考。因此，例如在一些示例性實(shí)施方式中，本文描述的一種或多種阻 擋層材料可W代替或補(bǔ)充一個(gè)或多個(gè)包含Ni和/或化的層。在一些示例性實(shí)施方式中，本文 公開的材料中的一種或多種可W代替或補(bǔ)充一個(gè)或多個(gè)功能性IR反射(典型地為基于Ag 的)層。
[0110] 本文描述的層中的一些或全部可W通過瓣射沉積或任何其它適合的技術(shù)例如 CVD、燃燒沉積等來設(shè)置。
[0111] 如本文中使用的術(shù)語"在……上"、"由……承載"等，除非明確指出，否則不應(yīng)被解 釋為意指兩個(gè)元件彼此直接相鄰。換句話說，即使在第一層與第二層之間存在一個(gè)或多個(gè) 層，第一層也可W被稱為"狂'第二層"上"或"肚'第二層"承載"。
[0112] 盡管已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是最實(shí)用和優(yōu)選的實(shí)施方式的內(nèi)容對本發(fā)明進(jìn)行了描 述，但將理解，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施方式，而是相反，意圖覆蓋包含在所附權(quán)利要求 書的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種包括由玻璃基材支撐的涂層的涂敷制品，所述涂層包括： 第一介電層； 至少在所述第一介電層上方的包含銀的紅外反射層； 在所述紅外反射層上方并與其直接接觸的包含金屬百分比為54-58wt. %Ni、20-22.5wt. %Cr、和 12.5-14.5wt. %Mo的氧化阻擋層。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，所述涂層為低-E涂層。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，還包括位于所述包含銀的紅外反射層 下方并與其直接接觸的包含54-58wt. %Ni、20-22.5wt. %Cr、和12.5-14.5wt. %Mo的另一 個(gè)氧化阻擋層。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆制品，其特征在于，還包括與所述阻擋層接觸的包含NbZr 的子阻擋層。5. -種包含由玻璃基材支撐的涂層的涂覆制品，所述涂層包括： 第一介電層； 至少在所述第一介電層上方的包含銀的紅外反射層； 在所述紅外反射層下方并與其直接接觸的包含金屬百分比為63-67wt. %Ni、l-2wt. % Cr、和25-30wt. %Mo的接觸層。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，所述涂層為低-E涂層。7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，還包括位于所述接觸層下方并與其直 接接觸的包含NbZr的層。8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂覆制品，其特征在于，所述介電層包括氮化硅。
【文檔編號】C03C17/36GK105948534SQ201610257540
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2011年10月12日
【發(fā)明人】穆罕默德·伊姆蘭, 貝恩德·迪斯特爾多爾夫, 馬庫斯·弗蘭克, 理查德·布萊克
【申請人】葛迪恩實(shí)業(yè)公司