專利名稱：用于在等離子電弧中制備粉末的方法及實(shí)施該方法的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)制備粉末的方法，其中，第一反應(yīng)組分和第二反應(yīng)組份被輸往借助處于第一和第二電極之間的電壓得以保持的等離子電弧，其中，至少第一反應(yīng)組分是導(dǎo)電的并且被用作第一電極。
此外，發(fā)明還涉及一種通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在一個(gè)等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)制備粉末的設(shè)備，該設(shè)備具有一個(gè)用以至少把第一反應(yīng)組分輸往一個(gè)等離子室的一個(gè)注入口的輸送裝置，等離子室具有一個(gè)朝面對(duì)注入口的通路方向逐漸縮窄的內(nèi)腔，該設(shè)備還具有至少兩個(gè)與一個(gè)發(fā)生器相連的、用于保持等離子室內(nèi)的等離子電弧的電極，其中第一電極是通過第一反應(yīng)組分構(gòu)成的。
等離子體是一種在極高的溫度下，如3000℃得到的綜合介質(zhì)。該介質(zhì)具有很大的活性，因而可使化學(xué)反應(yīng)以高的速度進(jìn)行。等離子體是通過直流放電、通過氣體的電離或在射頻放電時(shí)和在微波放電時(shí)形成的。當(dāng)前的使用例子是通過把鐵礦石(氧化物)和煤噴入等離子燃燒器使鐵礦石還原；通過噴入多種金屬氧化物Cr2O3、SiO2、CaO、MgO……。
等離子電弧首先用在1500℃以上高溫下的冶金中。等離子電弧消耗大量的電能。等離子電弧需要電極，這些電極在用后成為廢物并因此污染環(huán)境。
雖然在沒有電極的情況下也能生成感應(yīng)等離子體，但是，如在法國(guó)教育研究和大學(xué)部的“等離子體工業(yè)”文件(86年第10號(hào)文件)中所描述的那樣，其功率有所變?nèi)酢?br> 瑞士專利CH 281749公開了本說明書開始所述類型的方法和設(shè)備，該專利描述了一種用于制備金屬鹵化物的方法，其中，由相應(yīng)的金屬礦混合物和由碳構(gòu)成陽(yáng)極，在該陽(yáng)極和由碳構(gòu)成的陰極之間生成一個(gè)處在含鹵素的氣氛內(nèi)的電弧并據(jù)此形成金屬鹵化物。
其中，陽(yáng)極被消耗。因?yàn)殛?yáng)極材料的不均勻性，等離子體的燃燒也不均勻。此外，制作電極很費(fèi)工并且成本高。
英國(guó)專利GB 959027公開了一種所述類型的設(shè)備。該專利描述的等離子噴射設(shè)備具有一個(gè)等離子室和一個(gè)用于把一根作為電極的金屬線送入等離子室的輸送裝置。該輸送裝置在其下緣具有一個(gè)為金屬線而設(shè)的出口，金屬線同心地向等離子室的朝上的、即朝輸送裝置方向敞開的內(nèi)腔伸展。等離子室的內(nèi)腔向下朝出口噴嘴方向呈錐形地逐漸縮窄。
實(shí)踐表明，在公開的設(shè)備中，在等離子腔中生成的等離子體得不到充分穩(wěn)定。
因此，本發(fā)明的任務(wù)在于，提供一種通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在一個(gè)等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)地和可再現(xiàn)地制備粉末的方法并且提供一種實(shí)施以上方法的設(shè)備，該設(shè)備確保等離子體的均勻性并從而確保結(jié)果的再現(xiàn)性。
在方法方面，按照本發(fā)明，解決以上任務(wù)的技術(shù)方案在于，第一反應(yīng)組分以流體形式被輸往等離子電弧。
第一反應(yīng)組分能譬如以熔液、液體、懸浮液、乳化液、凝膠體或松散的粉末的形式出現(xiàn)。需要建立一個(gè)包含第一反應(yīng)組分的、固定的電極。因此，無需擔(dān)心通過磨損造成的、譬如在使用感應(yīng)等離子體時(shí)出現(xiàn)的磨損現(xiàn)象或污染。在把包含第一反應(yīng)組分的料流從上方輸往等離子電弧的情況下，譬如可利用其自重的重力把第一反應(yīng)組分輸往等離子電弧。由于第一反應(yīng)組分以流體的形式被輸往等離子電弧，因此也可輕易實(shí)現(xiàn)料流內(nèi)第一反應(yīng)組分的均勻分布。
第二反應(yīng)組分同樣能以流體的形式、例如作為氣體被輸往等離子電弧。據(jù)此可得到特別穩(wěn)定的和均勻的等離子體。
作為電極的第一反應(yīng)組分有利地與負(fù)電位相連。
為了節(jié)能并為了使等離子電弧穩(wěn)定，等離子電弧具有的能量有利地相當(dāng)于待由反應(yīng)組分制備的化合物的化合自由焓加上等離子電弧中的熱損耗。
如果等離子室內(nèi)的等離子電弧保持有一個(gè)從截面看基本上為拋物線形狀的內(nèi)腔，該內(nèi)腔具有一個(gè)為第一反應(yīng)組分而設(shè)的注入口并具有一個(gè)與以上注入口面對(duì)的通路，則可得到特別穩(wěn)定的等離子體。經(jīng)過上述通路，在等離子電弧中形成的反應(yīng)產(chǎn)物脫離等離子室。內(nèi)腔基本上為拋物面形狀。
被證明特別行之有效的是，至少處在一個(gè)射流中的第一反應(yīng)組分被輸往等離子室，其中，等離子室的拋物線形狀內(nèi)腔的長(zhǎng)軸與射流同軸地伸展，并且在注入口范圍內(nèi)的等離子室內(nèi)腔的直徑大于平均電離距離，并且通道的直徑小于平均電離距離。
等離子電弧有利地在拋物線的中心之一上被觸發(fā)。拋物線的該中心應(yīng)是那個(gè)最靠近等離子室通路的中心。據(jù)此可得到特別穩(wěn)定的等離子體。
獲得特別穩(wěn)定的等離子體的條件在于，等離子室的通路借助一個(gè)混合管向外延長(zhǎng)，在混合管的出口處保持負(fù)壓。其中，混合管可起所謂的“文丘里嘴”的作用。
借助一個(gè)與混合管相接的超聲嘴有利地使負(fù)壓得到保持。
本發(fā)明的方法被證明對(duì)下列反應(yīng)是有利的，即其中的第一反應(yīng)組分以粉末的形式被輸往等離子電弧，其中，借助載運(yùn)氣體的電離建立與一個(gè)維持電壓的發(fā)生器的電氣連接。
對(duì)本發(fā)明的方法而言，作為第一反應(yīng)組分的譬如有下列金屬Pb、Sn、Bi、Ga、Cu、In、Ag、Zn。
作為第二反應(yīng)組分的譬如有下列氣體O2、空氣、N2或含有碳的氣體，如甲烷。
在用銦和錫熔液作為第一反應(yīng)組分，并用一種氧化的氣體作為第二反應(yīng)組分的情況下，本發(fā)明的方法被證明是特別行之有效的。
在設(shè)備方面，按照本發(fā)明，從本說明書開頭所述的設(shè)備出發(fā)，解決前述任務(wù)的技術(shù)方案在于，輸送裝置包括一個(gè)用于容納第一反應(yīng)組分的容器，該容器在其面對(duì)等離子室的注入口的下緣上具有一個(gè)出口。
用于容納第一反應(yīng)組分的容器具有一個(gè)出口，反應(yīng)組分以流體的形式經(jīng)過該出口可被輸往等離子電弧，這使實(shí)施其優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)被描述的發(fā)明的方法成為可能。
通過一個(gè)其截面基本上為拋物線形的等離子室內(nèi)腔的優(yōu)選的實(shí)施形式，既能使等離子電弧的幾何結(jié)構(gòu)得到局部固定，又能在能量方面得到特別穩(wěn)定的等離子電弧。除了譬如在上部或下部范圍不連續(xù)之外，內(nèi)腔構(gòu)成一個(gè)拋物面體。
從屬權(quán)利要求描述了設(shè)備的優(yōu)選的實(shí)施形式。下面借助附圖詳細(xì)說明發(fā)明的實(shí)施例。附圖以示意的形式分別示出的是


圖1鐵礦石通過一個(gè)等離子電弧還原的原理圖，圖2粉末被噴入等離子電弧的原理，圖3感應(yīng)等離子體的原理，圖4發(fā)明的設(shè)備的第一實(shí)施例的總體簡(jiǎn)圖，圖5圖4所示等離子室的放大圖，圖6說明電離距離的、如圖5所示的等離子室的一部分，圖7本發(fā)明的設(shè)備的等離子室的另一實(shí)施例。
圖1示出了礦石通過一個(gè)等離子電弧還原的原理。燃器1和電極2被饋以由發(fā)生器3發(fā)生的直流電流。等離子氣體4被輸往燃燒器，而外部的氣體7被輸入或被抽吸。
氧化物5或組分通過一個(gè)漏斗8被輸往等離子電弧9。在等離子電弧9中形成的粉末狀化合物被收集在一個(gè)容器6內(nèi)。
圖2示出了另一通常的、用于在等離子電弧中制備一種粉末的方法，其中，借助一個(gè)噴射器11把原始粉末10噴入一個(gè)燃燒器13的火焰12中。從該圖中可以看出，如此制備的粉末不可能是很均勻的。
圖3示出了感應(yīng)等離子體的原理。氣體15被輸入石英管14中，通過一個(gè)能量很大的高速射流16在一個(gè)高頻線圈19內(nèi)被電離并按此方式生成等離子體17，在該等離子體中生成所需的反應(yīng)產(chǎn)物18。
圖4示出了發(fā)明的方法的一個(gè)實(shí)施例。液態(tài)金屬20處在一個(gè)坩堝21內(nèi)。在金屬熔液20內(nèi)設(shè)有一根由一種耐高溫的、導(dǎo)電的金屬陶瓷制作的棒24，該金屬陶瓷棒與電壓源26相連。據(jù)此，金屬熔液20構(gòu)成設(shè)備的帶負(fù)電荷的電極。
坩堝21在其下緣上具有一個(gè)經(jīng)校準(zhǔn)的陶瓷噴嘴22，金屬熔液20以射流23的形式脫離陶瓷噴嘴22。經(jīng)過等離子室28的注入口37，帶負(fù)電荷的射流23流經(jīng)帶相反電荷的電極25，電極25與電壓源26的正極相連。等離子室28是在電極25之內(nèi)形成的。其它的反應(yīng)組分也被送入等離子室28中，這些其它的反應(yīng)組分在等離子電弧內(nèi)與金屬熔液20反應(yīng)，生成所需的粉末。該方法當(dāng)然也適于應(yīng)用另外的、公開的、用于生成等離子體的設(shè)備和方法，例如應(yīng)用高頻電流。
本發(fā)明的一個(gè)特征在于，等離子體在一個(gè)其結(jié)構(gòu)是固定和穩(wěn)定的位置上被閉塞。在如圖2所示的公開的方法中，由固體或顆?；蚍勰?gòu)成的原始材料分布在由被電離的氣體或等離子體構(gòu)成的、以高速脫離燃燒器的射流之內(nèi)。原始材料導(dǎo)入等離子體和在等離子體內(nèi)的滯留時(shí)間是短的并且取決于隨機(jī)性。
而在發(fā)明的方法中，由原始材料構(gòu)成的射流23，如從圖4所示的設(shè)備中看到的，進(jìn)入一個(gè)拋物面體結(jié)構(gòu)的等離子室28。該室28具有一個(gè)對(duì)已知的壓力或已知的等離子氣體而言最佳的形狀。該室28向下過渡到一個(gè)混合噴嘴27中，該混合噴嘴包括一個(gè)向外呈錐形擴(kuò)展的內(nèi)腔。射流23與室28的內(nèi)壁之間的距離首先有慢的變化，并且該距離變化在射流向下的途徑上變得越來越快。通過計(jì)算和實(shí)驗(yàn)，圖5所示的等離子室28的內(nèi)腔的最適宜的形狀得到確認(rèn)。它是一條處于與原始材料射流23同軸位置的拋物線。
在圖5中可看到譬如與發(fā)生器26的負(fù)極相連的射流23，該射流從一個(gè)不導(dǎo)電的陶瓷噴嘴29中流出。等離子室30具有一個(gè)注入口37，射流23通過該注入口流入等離子室30。此外，第二反應(yīng)組分譬如經(jīng)過另一個(gè)(圖中未示出的)開在室30的側(cè)壁上的口或一個(gè)伸入注入口的噴嘴被輸往等離子室30。在圖5中，為拋物線形狀的等離子室30繪出了一個(gè)xy座標(biāo)系，其中，射流在等離子室內(nèi)的伸展相當(dāng)于y軸。通過其中心F和其標(biāo)準(zhǔn)直線D表示的拋物線涉及x和y軸并具有下列等式(P)y＝ax2其中，a是一個(gè)常數(shù)。
本發(fā)明的等離子室30的拋物線形狀的內(nèi)壁可通過數(shù)控裝置(CN)或用成型刀具加工。
在有一個(gè)連續(xù)的、按牛頓定律根據(jù)其速度和粘度保持在長(zhǎng)度y1上的射流的情況下，并且假設(shè)電離距離根據(jù)氣體并根據(jù)等離子室30內(nèi)的壓力等于Li，則陶瓷噴嘴29范圍內(nèi)的射流23與該范圍內(nèi)的等離子室30的內(nèi)壁之間的距離L至少等于2Li被證明是足夠的。
L＞2Li這是以識(shí)別是一個(gè)二次曲線的、并通過在以下公式中點(diǎn)“A”和叉點(diǎn)“B”被定義的拋物線(ρ)y＝ax2其出發(fā)點(diǎn)是“a”是一個(gè)公知的常數(shù)，對(duì)本專業(yè)的專業(yè)人員而言，從以上所作的說明中當(dāng)然可推斷出該常數(shù)。
如圖6所示，等離子室30的該拋物線形狀的內(nèi)腔產(chǎn)生一個(gè)盡可能穩(wěn)定的等離子電弧。實(shí)際上，P和其切線的點(diǎn)M(x、y)得出推導(dǎo)P的等式。
Py＝ax2Ty′＝2ax＋b其中，y＝2xm2電離距離Li相當(dāng)于至拋物線M點(diǎn)的法線的長(zhǎng)度HM減去射流的半徑，該半徑譬如等于一個(gè)為1、2、3、4毫米的常數(shù)值。由T的等式推導(dǎo)出法線N的等式。
Ny＝-(1/2a)x＋c其中， y＝axm2y＝axm2＝-(1/2a)xm＋cc＝axm2＋(1/2a)xm而 xm＝(ym/a)1/2c＝a(ym/a)－1/2a(ym/a)1/2c＝y(tǒng)m－(1/2a3/2)ymN y＝-(1/2a)x＋ym－kym應(yīng)按照HM計(jì)算在等離子室內(nèi)相對(duì)于被輸往等離子室的射流的電離距離。
HM2＝(y－ym)2＋(x－xm)2＝〔(ym/a)1/2－0〕2＋〔ym2－(-2a3/2b1/2)〕2＝y(tǒng)m/a＋ym4＋(2a2/3)2ym＋2ym22a3/2ym1/2＝y(tǒng)m4＋4a3/2＋y3/2＋(2a3＋1/a)ym按照公式L2＝y(tǒng)m4＋aym3/2＋bym該計(jì)算是對(duì)圖5和圖6所示的等離子室的確認(rèn)。這意味著，等離子室30的內(nèi)壁在靠近射流23從陶瓷噴嘴29的流出處(與點(diǎn)A相鄰)實(shí)際上平行于射流23伸展，然后很快接近射流23并且最后，如在點(diǎn)B所示，與射流23會(huì)合。
圖7示出的是，等離子體座落在點(diǎn)C上，人們可有利地使點(diǎn)C與拋物線的中心會(huì)合。等離子體在該處的狀態(tài)是穩(wěn)定的并且處在至等離子室30的內(nèi)壁的電離距離Li中。該工作點(diǎn)是特別穩(wěn)定的，因此上方的極間距離是緩慢變小的，而下方的極間距離是很快地變小的。
圖7所示的等離子室30的上部直徑相當(dāng)于2Li。等離子體座落在點(diǎn)C上，該點(diǎn)C至等離子室30的內(nèi)壁的距離等于Li。等離子室30在其下部有一個(gè)通路31，該通路的直徑小于長(zhǎng)度Li。用方向箭頭32表示等離子氣體(在實(shí)施例中用的是空氣)的噴入。通路31向外呈錐形擴(kuò)展。借助一個(gè)環(huán)形噴嘴34把附加的氣體送入通路31的出口33的區(qū)域內(nèi)，使出口33的區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生一個(gè)負(fù)壓。環(huán)形噴嘴34為文丘里噴嘴式的超聲嘴結(jié)構(gòu)。在圖7中用標(biāo)號(hào)36表示等離子電弧。
通過通路31的這種結(jié)構(gòu)，該通路通過一種具有內(nèi)孔35(見圖7)的錐形混合管被延長(zhǎng)。據(jù)此，通路31與一個(gè)文丘里噴嘴并從而與一個(gè)有高的流速和低的壓力的區(qū)域相通。在一般情況下，混合管35具有一個(gè)小的錐角度，該錐角度可為7至14°。
可通過氣體量的變化任意確定待制備粉末的化學(xué)計(jì)量。在一優(yōu)選的處理方式中制備由氧化銦/氧化錫構(gòu)成的混氣晶體粉末，其中，氧化銦組分為90(重量)％，氧化錫組分為10(重量)％。為了制備具有低化學(xué)劑量的含氧量的混氣晶體粉末，把相應(yīng)少的空氣流輸往等離子體，輸入的空氣流在等離子電弧中與金屬熔液反應(yīng)，生成所需的低化學(xué)計(jì)量的氧化物。
本發(fā)明的設(shè)備也可被供以粉末或顆粒。
本發(fā)明的工業(yè)應(yīng)用的例子是連續(xù)制備氧化鉛PbO。為了制備1000公斤氧化物，需用928公斤鉛和72公斤即101米3氧氣。此外，必須輸送96千卡/克分子(氧化鉛的克分子＝224克)，即約430,000大卡。液態(tài)的鉛從一個(gè)其底上有一個(gè)陶瓷噴嘴的坩堝中流出。該液態(tài)的鉛以1000公斤/小時(shí)的流量通過其直徑為4毫米的噴嘴的孔。
氧化所需的氧氣流被通入由石墨制作的、拋物線形狀的等離子室。等離子室的上部直徑譬如為60毫米，其下部直徑為12毫米。
金屬流與離子室之間的電壓使等離子體座落在一個(gè)穩(wěn)定的軸點(diǎn)上。通過文丘里噴嘴，等離子囊被抽吸并據(jù)此使氧化物粉末被向下擲出。為此制備的粉末是細(xì)粒的并具有致密的粒度分布。
權(quán)利要求
1.一種通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)制備粉末的方法，其中，第一反應(yīng)組分和第二反應(yīng)組分被輸往借助處于第一和第二電極之間的電壓得以保持的等離子電弧，其中，至少第一反應(yīng)組分是導(dǎo)電的并且被用作第一電極，其特征在于，第一反應(yīng)組分(20)以流體的形式被輸往等離子電弧(36)。
2.按照權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，第一反應(yīng)組分(20)作為電極與負(fù)電位相連。
3.按照權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，等離子電弧(36)具有的能量相當(dāng)于待制備的化合物的化合自由焓加上等離子電弧(36)中的熱損耗。
4.按照以上權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，等離子電弧(36)被保持在一個(gè)等離子室(28、30)內(nèi)，該等離子室具有一個(gè)基本上為拋物線形狀的內(nèi)腔(30)，該內(nèi)腔具有一個(gè)為第一反應(yīng)組分(20)而設(shè)的注入口(37)并具有一個(gè)與以上注入口(37)面對(duì)的通路(31)。
5.按照權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，至少處在一個(gè)射流(23)中的第一反應(yīng)組分(20)被輸往等離子室(28、30)，其中，等離子室(28、30)的拋物線形內(nèi)腔(30)的長(zhǎng)軸同軸于射流(23)伸展，并且在注入口(37)范圍內(nèi)的等離子室內(nèi)腔(30)的直徑大于等離子電弧(36)中的平均電離距離，并且通道(31)的直徑小于在等離子電弧(36)中的平均電離距離。
6.按照權(quán)利要求4或5所述的方法，其特征在于，等離子電弧(36)在拋物線的中心(F)之一上被觸發(fā)。
7.按照權(quán)利要求4至6之一所述的方法，其特征在于，等離子室(28、30)的通路(27、31)借助一個(gè)混合管(27、35)向外被延長(zhǎng)，在混合管的出口(33)處保持負(fù)壓。
8.按照權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，借助一個(gè)與混合管(27、35)相接的超聲嘴(34)使負(fù)壓得到保持。
9.按照權(quán)利要求1至8之一所述的方法，其特征在于，第一反應(yīng)組分以粉末的形式被輸往等離子電弧，其中，借助載運(yùn)氣體的電離建立與一個(gè)維持電壓的發(fā)生器的電氣連接。
10.按照以上權(quán)利要求之一所述的方法，其特征在于，用錫和銦熔液(20)作為第一反應(yīng)組分，用含有氧的氣體作為第二反應(yīng)組分。
11.一種用于通過至少一個(gè)第一反應(yīng)組分和一個(gè)第二反應(yīng)組分在等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)制備粉末的設(shè)備，該設(shè)備具有一個(gè)用于至少把第一反應(yīng)組分輸往一個(gè)等離子室的注入口的輸送裝置，等離子室具有一個(gè)朝面對(duì)注入口的通路方向逐漸縮窄的內(nèi)腔，該設(shè)備還具有至少兩個(gè)與發(fā)生器相連的、用于保持等離子電弧的電極，其中，第一電極是通過第一反應(yīng)組分構(gòu)成的，其特征在于，輸送裝置包括一個(gè)用于容納第一反應(yīng)組分(20)的容器(21)，該容器在其面對(duì)等離子室(28、30)的注入口(37)的下緣上具有一個(gè)出口(22)。
12.按照權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，等離子室(28)具有一個(gè)其截面基本上為拋物線形狀的內(nèi)腔(30)。
13.按照權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，注入口(37)和等離子室(28、30)的通路(31)之間的設(shè)想連線大致同軸于拋物線的長(zhǎng)軸伸展，并且等離子室(28、30)的、在注入口(37)范圍內(nèi)的上部直徑大于平均電離距離Li，并且通路(31)的直徑小于平均電離距離Li。
14.按照權(quán)利要求11至13之一所述的設(shè)備，其特征在于，等離子室(28、30)的通路(31)借助一個(gè)混合管(27、35)向外延長(zhǎng)，該混合管的內(nèi)截面自等離子室(28、30)朝其出口(33)看呈錐形擴(kuò)大。
15.按照權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，一個(gè)超聲噴嘴(34)與混合管(27、35)相接。
全文摘要
通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)制備粉末的方法，其中至少一個(gè)反應(yīng)組分和一個(gè)第二反應(yīng)組分被輸往等離子電弧，借助被置于第一和第二電極之間的電壓使上述等離子電弧得到保持，其中至少第一反應(yīng)組分是導(dǎo)電的并用作第一電極。在一個(gè)適于此用的設(shè)備中，設(shè)有用于至少把第一反應(yīng)組分輸往等離子室的注入口的輸送裝置，等離子室有一個(gè)朝面對(duì)注入口的通路方向逐漸縮窄的內(nèi)腔。為了由此出發(fā)提供一種用于通過至少兩個(gè)反應(yīng)組分在等離子電弧中的反應(yīng)連續(xù)地和可再現(xiàn)地制備粉末的方法并提供適用于此的設(shè)備，按照本發(fā)明，建議第一反應(yīng)組分的流體的形式被輸往等離子電弧，并且輸送裝置包括一個(gè)用于容納第一反應(yīng)組分的容器，該容器在其面對(duì)等離子室注入口的下緣上設(shè)有一個(gè)出口。
文檔編號(hào)C01G15/00GK1135190SQ95190857
公開日1996年11月6日 申請(qǐng)日期1995年9月7日 優(yōu)先權(quán)日1994年9月7日
發(fā)明者B·塞羅爾 申請(qǐng)人:W·C·赫羅伊斯有限公司