技術(shù)編號:2926186
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及電子發(fā)射裝置。更特別地,本發(fā)明涉及具有間隔物加載區(qū)域的電子發(fā)射裝置,其中限定間隔物加載區(qū)域的寬度從而減小由于間隔物的充電而導(dǎo)致的屏幕圖像質(zhì)量變差。背景技術(shù) 通常,電子發(fā)射裝置分為利用熱陰極作為電子發(fā)射源的那些和利用冷陰極作為電子發(fā)射源的那些。有數(shù)種類型的冷陰極電子發(fā)射裝置,包括場發(fā)射器陣列(FEA)型、金屬-絕緣體-金屬(MIM)型、金屬-絕緣體-半導(dǎo)體(MIS)型和表面導(dǎo)電發(fā)射器(SCE)型。MIM型和MIS型電子發(fā)射裝置分別具有金屬/絕緣體/...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。