專利名稱：一種電解銅粉還原氣氛純度提高裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種提高電解銅粉還原氣氛純度的裝置。
背景技術(shù)：
電解銅粉采用電解、洗粉、抽濾、還原、篩粉的方法生產(chǎn)，一般要求產(chǎn)品含氧量在
0.05%以下。由于在還原工序過程中，采用氫氮混合氣氛，按工藝要求氮?dú)庵醒鹾繎?yīng)小于5ppm，而在實(shí)際生產(chǎn)中，用微氧儀測得氮?dú)庵醒鹾看笥?ppm，產(chǎn)品易發(fā)生氧化，降低合格率,生產(chǎn)成本提高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種提高電解銅粉還原氣氛純度的裝置，該裝置能有效的提高氣氣純度，減少廣品的氧化，提聞合格率。本實(shí)用新型的目的是通過以下措施實(shí)現(xiàn)的:一種提高電解銅粉還原氣氛純度的裝置，包括氮?dú)忸A(yù)混罐1，預(yù)混罐I設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)氣口 6和氮?dú)獬鰵饪?7，安裝在除氧器前端，其特征在于預(yù)混罐I外套設(shè)儲(chǔ)水罐2，預(yù)混罐I和儲(chǔ)水罐2夾層間設(shè)有加熱器3，儲(chǔ)水罐2設(shè)有出水口 4和進(jìn)水口 5。氮?dú)饨?jīng)過所述裝置處理能保持適當(dāng)?shù)臏囟?，使催化劑鈀觸媒更好的進(jìn)行加氫除氧，保證氮?dú)獾募兌取Ｉ鲜黾訜崞鳛镮KW的電加熱器。上述儲(chǔ)水罐裝有冷卻氨分解熱交換器后的水，進(jìn)行循環(huán)利用，節(jié)約能源。上述氮?dú)膺M(jìn)氣口· 6設(shè)于氮?dú)忸A(yù)混罐I頂部，出氣口 7設(shè)于氮?dú)忸A(yù)混罐I底部。上述出水口 4設(shè)于儲(chǔ)水罐2側(cè)面上部，進(jìn)水口設(shè)于儲(chǔ)水罐2側(cè)面下部。上述氮?dú)忸A(yù)混罐I尺寸為Φ 200 X 600mm，儲(chǔ)水罐2尺寸為Φ400Χ550_。上述氮?dú)忸A(yù)混罐I與儲(chǔ)水罐2密閉焊接。有益效果本實(shí)用新型解決了電解銅粉生產(chǎn)過程中除氧器溫度過低、氮?dú)饧兌冗_(dá)不到工藝要求的問題，減少了產(chǎn)品的氧化，確保電解銅粉質(zhì)量，提高了合格率，并降低了原輔料的消耗，提高了金屬的回收率，直收率，降低了生產(chǎn)成本。

圖1本實(shí)用新型實(shí)施例1所述的提高電解銅粉還原氣氛純度的裝置示意圖。
具體實(shí)施方式
以下通過實(shí)施例來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型，但本實(shí)用新型不局限于實(shí)施例。實(shí)施例1一種提高電解銅粉還原氣氛純度的裝置，安裝在除氧器前端，所述裝置包括氮?dú)忸A(yù)混罐1，預(yù)混罐I頂部設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)氣口 6、底部設(shè)有氮?dú)獬鰵饪?7，預(yù)混罐I外套設(shè)儲(chǔ)水罐2，預(yù)混罐I和儲(chǔ)水罐2夾層間設(shè)有電加熱器3，儲(chǔ)水罐2側(cè)面上部設(shè)有出水口 4、側(cè)面下部設(shè)有進(jìn)水口 5 。
權(quán)利要求1.一種電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，安裝在除氧器前端，所述裝置包括氮?dú)忸A(yù)混罐(I)，預(yù)混罐(I)設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)氣口( 6 )和氮?dú)獬鰵饪? 7 )，其特征在于預(yù)混罐(I)外套設(shè)儲(chǔ)水罐(2)，預(yù)混罐(I)和儲(chǔ)水罐(2)夾層間設(shè)有加熱器(3)，儲(chǔ)水罐(2)設(shè)有出水口(4)和進(jìn)水口(5)。
2.如權(quán)利要求1所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述加熱器為IKW的電加熱器。
3.如權(quán)利要求1所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述氮?dú)膺M(jìn)氣口(6)設(shè)于氮?dú)忸A(yù)混罐(I)頂部，出氣口(7)設(shè)于氮?dú)忸A(yù)混罐(I)底部。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述出水口(4)設(shè)于儲(chǔ)水罐(2)側(cè)面上部，進(jìn)水口( 5)設(shè)于儲(chǔ)水罐(2)側(cè)面下部。
5.如權(quán)利要求4所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述氮?dú)忸A(yù)混罐(I)尺寸為O 200 X 600mm，儲(chǔ)水罐(2)尺寸為 O400 X 550mm。
6.如權(quán)利要求1、2或3所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述氮?dú)忸A(yù)混罐(I)與儲(chǔ)水罐(2)密閉焊接。
7.如權(quán)利要求4所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述氮?dú)忸A(yù)混罐(I)與儲(chǔ)水罐(2)密閉焊接。
8.如權(quán)利要求5所述的電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，所述氮?dú)忸A(yù)混罐(I)與儲(chǔ)水罐(2)密閉焊 接。
專利摘要本實(shí)用新型提供了一種電解銅粉還原氣氛純度提高裝置，安裝在除氧器前端，包括氮?dú)忸A(yù)混罐(1)，預(yù)混罐(1)設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)氣口(6)和氮?dú)獬鰵饪?7)，其特征在于預(yù)混罐(1)外套設(shè)儲(chǔ)水罐(2)，預(yù)混罐(1)和儲(chǔ)水罐(2)夾層間設(shè)有加熱器(3)，儲(chǔ)水罐(2)設(shè)有出水口(4)和進(jìn)水口(5)。解決了電解銅粉生產(chǎn)過程中除氧器溫度過低、氮?dú)饧兌冗_(dá)不到工藝要求的問題，減少了產(chǎn)品的氧化，確保電解銅粉質(zhì)量，提高了合格率，并降低了原輔料的消耗，提高了金屬的回收率，直收率，降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)C01B21/04GK203128200SQ20122068227
公開日2013年8月14日 申請日期2012年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月12日
發(fā)明者蔡雙洪, 程?hào)|, 張辛, 雷明, 劉海峰 申請人:重慶華浩冶煉有限公司