專利名稱：降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及石墨設(shè)備和合成鹽酸生產(chǎn)領(lǐng)域，是ー種合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
常規(guī)合成鹽酸生產(chǎn)包括氯化 氫合成——氯化氫冷卻——氯化氫被水吸收成鹽酸三個過程，其中吸收過程通常包括降膜吸收器和尾氣吸收塔，這些設(shè)備主要由浸潰石墨制造，除三合一石墨鹽酸合成爐已將上述合成爐——冷卻器——降膜吸收器三臺設(shè)備合ニ為一外，國內(nèi)外主要有以下兩種流程①合成爐——冷卻器——降膜吸收器——尾氣吸收塔，②ニ合一合成爐——降膜吸收器——尾氣吸收塔。但在我國，由于冷卻水質(zhì)較差等原因，也有采用ニ級降膜吸收流程(也有人稱三級吸收流程)，即③合成爐——冷卻器——ー級降膜吸收器——ニ級降膜吸收器——尾氣吸收塔，④ニ合一合成爐——一級降膜吸收器——ニ級降膜吸收器——尾氣吸收塔，⑤ニ合一合成爐——冷卻器——一級降膜吸收器——ニ級降膜吸收器——尾氣吸收塔。其中二合一合成爐是將冷卻器合并到合成爐內(nèi)，上述設(shè)備中除合成爐可以用鋼材制造(但屬淘汰材料，現(xiàn)絕大多數(shù)也用石墨制造)、尾氣塔可以用塑料或襯塑制造外，其余全部采用浸潰石墨制造。由于ニ合一合成爐可以將氯化氫燃燒轉(zhuǎn)換為鍋爐熱水的熱焓，故上述②、④、⑤流程得到推廣。而在需要生產(chǎn)裝置能適應(yīng)可以為生產(chǎn)出HCl氣，也可應(yīng)急時為生產(chǎn)出鹽酸的要求時，上述流程④、⑤的應(yīng)用在増加。但流程④、⑤存在可以改進(jìn)的缺陷流程⑤的優(yōu)點(diǎn)是合成HCl的降溫要求主要由爐后冷卻器完成，因此其前面的ニ合ー爐中石墨換熱塊主要用于取熱副產(chǎn)蒸汽(或熱水)，節(jié)能效果好，缺點(diǎn)是増加了一臺設(shè)備。而流程④正相反，減少了一臺爐后的冷卻器，就要求ニ合一爐內(nèi)的換熱塊主要作冷卻器用而不取熱，降低節(jié)能效果。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理，増加取熱率和提高節(jié)能效果的降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)。本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是—種降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)，依次包括ニ合一合成爐、ニ級降膜吸收器、尾氣吸收塔，其特征是在ニ合一合成爐與ニ級降膜吸收器之間設(shè)置具有HCl冷卻器和一級降膜吸收器作用的石墨冷卻吸收器。在石墨冷卻吸收器的上部設(shè)置吸收水進(jìn)ロ，在石墨冷卻吸收器的下部設(shè)置HCl氣體出口，在石墨冷卻吸收器的底部設(shè)置鹽酸出口 ；石墨冷卻吸收器的吸收水進(jìn)ロ通過吸收水管道與ニ級降膜吸收器相通，在吸收水管道上設(shè)置第二閥；石墨冷卻吸收器的HCl氣體出ロ連接HCl氣體輸送管道，在HCl氣體輸送管道上設(shè)置第五閥，在第五閥之前，HCl氣體輸送管道與HCl氣體支管道連接，在HCl氣體支管道上設(shè)有第四閥，HCl氣體支管道與ニ級降膜吸收器連接；石墨吸收器的鹽酸出口通過鹽酸輸送管道與ニ級降膜吸收器連接，在鹽酸輸送管道上設(shè)置第三閥，在第三閥前的部位，鹽酸輸送管道通過支管與鹽酸儲罐連接。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，在不增加獨(dú)立的HCl冷卻器的前提下，可以將常規(guī)二合一石墨合成爐內(nèi)的石墨換熱塊全部用于取熱以副產(chǎn)蒸汽或熱水，增加取熱率，提高節(jié)能效果。
以下結(jié)合附圖
和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。圖I是本實(shí)用新型一個實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
一種降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)，依次包括二合一合成爐I及HCl石墨冷卻管道2、二級降膜吸收器4、尾氣吸收塔5，在二合一合成爐與二級降膜吸收器之間設(shè)置具有HCl冷卻器和一級降膜吸收器作用的石墨冷卻吸收器3。需要副產(chǎn)鹽酸時，還配有汽包 6 (或稱閃蒸罐)及熱水循環(huán)泵7。在石墨冷卻吸收器的上部設(shè)置吸收水進(jìn)口，在石墨冷卻吸收器的下部設(shè)置HCl氣體出口，在石墨冷卻吸收器的底部設(shè)置鹽酸出口 ；石墨冷卻吸收器的吸收水進(jìn)口通過吸收水管道與二級降膜吸收器相通，在吸收水管道上設(shè)置第二閥A2 ;石墨冷卻吸收器的HCl氣體出口連接HCl氣體輸送管道，在HCl氣體輸送管道上設(shè)置第五閥C，在第五閥之前，HCl氣體輸送管道與HCl氣體支管道連接，在HCl氣體支管道上設(shè)有第四閥B，HCl氣體支管道與二級降膜吸收器連接；石墨吸收器的鹽酸出口通過鹽酸輸送管道與二級降膜吸收器連接，在鹽酸輸送管道上設(shè)置第三閥A3，在第三閥前的部位，鹽酸輸送管道通過支管與鹽酸儲槽8連接。圖中還有吸收水進(jìn)水閥(即第一閥Al)。本實(shí)用新型的工作過程是(I)當(dāng)需要裝置產(chǎn)出HCl氣體時，停供吸收水，關(guān)閉ApA2、A3閥、B閥，打開C閥，SP可由C閥向外輸送冷卻后的HCl氣，而合成氣中所含飽和水汽冷凝成濃鹽酸進(jìn)入儲槽，此時石墨冷卻吸收器3作HCl冷卻器用。(2)當(dāng)需要產(chǎn)出鹽酸時，則打開閥門Ap AjPB閥，關(guān)閉A3、C閥，同時向尾氣塔輸入吸收水，此時合成HCl經(jīng)過石墨冷卻吸收器3和閥門B流經(jīng)(二級)降膜吸收器4和尾氣塔5，在流動過程中被吸收水吸收成鹽酸，此時石墨冷卻吸收器3成一級降膜吸收器，由底部排出產(chǎn)品鹽酸。(3)當(dāng)輸出一部分HCl氣體,又要同時產(chǎn)出一部分鹽酸時,則打開ApApB'C,關(guān)閉A2閥，向尾氣塔輸送吸收水,此時由C閥向外輸送HCl,同時A3閥向外輸送鹽酸,并由B、C閥的開度調(diào)控二者的產(chǎn)量。此時石墨冷卻吸收器3作冷卻器用。(4)當(dāng)二合一爐具有超產(chǎn)裕度，或因水垢使冷卻、吸收效率下降需輸出少量HCl氣又需增加鹽酸產(chǎn)量，或提高鹽酸濃度(34% 35%)時，可以打開Ai、A2、B、C閥，關(guān)閉或小開A3閥，此時既可從C閥向外輸送HCl氣，又可從石墨冷卻吸收器3為主產(chǎn)出鹽酸(需要時也從^閥排放部分鹽酸)，其HCl與鹽酸的產(chǎn)量由B、C閥的開度調(diào)控，此時石墨冷卻吸收器3同時成HCl冷卻器和降膜吸收器；閥門A2、A3的開度取決于HCl氣產(chǎn)率和產(chǎn)品酸的濃度，鹽酸濃度偏高且HCl量偏低時，關(guān)小A2、開大A3,HCl量偏大、鹽酸濃度偏低時開大A2、關(guān)小A3。
權(quán)利要求1.一種降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)，依次包括二合一合成爐、二級降膜吸收器、尾氣吸收塔，其特征是在二合一合成爐與二級降膜吸收器之間設(shè)置具有HCl冷卻器和一級降膜吸收器作用的石墨冷卻吸收器。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)，其特征是在石墨冷卻吸收器的上部設(shè)置吸收水進(jìn)口，在石墨冷卻吸收器的下部設(shè)置HCl氣體出口，在石墨冷卻吸收器的底部設(shè)置鹽酸出口 ；石墨冷卻吸收器的吸收水進(jìn)口通過吸收水管道與二級降膜吸收器相通，在吸收水管道上設(shè)置第二閥；石墨冷卻吸收器的HCl氣體出口連接HCl氣體輸送管道，在HCl氣體輸送管道上設(shè)置第五閥，在第五閥之前，HCl氣體輸送管道與HCl氣體支管道連接，在HCl氣體支管道上設(shè)有第四閥，HCl氣體支管道與二級降膜吸收器連接；石墨吸收器的鹽酸出口通過鹽酸輸送管道與二級降膜吸收器連接，在鹽酸輸送管道上設(shè)置第三閥，在第三閥前的部位，鹽酸輸送管道通過支管與鹽酸儲罐連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種降膜吸收器兩用的合成鹽酸生產(chǎn)系統(tǒng)，依次包括二合一合成爐、二級降膜吸收器、尾氣吸收塔，在二合一合成爐與二級降膜吸收器之間設(shè)置具有HCl冷卻器和一級降膜吸收器作用的石墨冷卻吸收器。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理，在不增加獨(dú)立的HCl冷卻器的前提下，可以將常規(guī)二合一石墨合成爐內(nèi)的石墨換熱塊全部用于取熱以副產(chǎn)蒸汽或熱水，增加取熱率，提高節(jié)能效果。
文檔編號C01B7/01GK202519024SQ201220116278
公開日2012年11月7日 申請日期2012年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月23日
發(fā)明者姚建, 姚松年 申請人:南通山劍石墨設(shè)備有限公司