濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及濺射鍍膜設(shè)備的靶材輔助加熱裝置結(jié)構(gòu)改進(jìn)技術(shù)，尤其是濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器。
【背景技術(shù)】
[0002]由于電子薄膜、光學(xué)薄膜、光電薄膜、磁性薄膜和超導(dǎo)薄膜等在高新技術(shù)和工業(yè)上的大規(guī)模開(kāi)發(fā)應(yīng)用，靶材已經(jīng)逐漸發(fā)展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，隨著薄膜技術(shù)的不斷發(fā)展，靶材市場(chǎng)將進(jìn)一步擴(kuò)大。
[0003]濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無(wú)論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用，因此，對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年來(lái)，隨著我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展，在集成電路、光盤(pán)及顯示器等領(lǐng)域，中國(guó)已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區(qū)之一。
[0004]隨著技術(shù)的進(jìn)步，靶材的設(shè)計(jì)逐漸由平面靶材向旋轉(zhuǎn)靶材過(guò)渡，因?yàn)樾D(zhuǎn)靶材的材料利用率可以達(dá)到80%，而一般平面靶材利用率只能達(dá)到30% ;旋轉(zhuǎn)耙材在使用過(guò)程中不斷旋轉(zhuǎn)，把材表面可以保持光滑，不會(huì)產(chǎn)生“結(jié)瘤”俗稱“勒材中毒”，可以保障成膜的均勻性，減少缺陷，提高成品率。期望通過(guò)使用旋轉(zhuǎn)靶材達(dá)到降低成本、提高膜層質(zhì)量和提高成品率的目的。
[0005]部分旋轉(zhuǎn)靶材采用貼合的方法制備，把靶材分節(jié)綁定在金屬襯管上，以提高導(dǎo)熱性能和強(qiáng)度。目前旋轉(zhuǎn)靶材綁定的工藝是，把單節(jié)靶管綁定在金屬襯管上，靶管和金屬襯管之間通過(guò)低熔點(diǎn)的金屬焊料粘接。在綁定的過(guò)程中，需要對(duì)金屬襯管和靶管進(jìn)行預(yù)熱，然后把低熔點(diǎn)的金屬焊料填充到靶管和金屬襯管的縫隙里。綁定的質(zhì)量直接關(guān)系到靶材濺射過(guò)程中的導(dǎo)熱效果，若導(dǎo)熱不好，金屬焊料將會(huì)熔化流出或者靶管會(huì)局部熔化或開(kāi)裂。在綁定工藝過(guò)程中，靶管和襯管加熱的均勻性和穩(wěn)定性對(duì)貼合質(zhì)量具有重要的影響。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的是提供濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，以開(kāi)發(fā)一種旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，達(dá)到加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定的效果。
[0007]本實(shí)用新型的目的將通過(guò)以下技術(shù)措施來(lái)實(shí)現(xiàn):包括低熔點(diǎn)金屬填料、加熱管、夕卜管和內(nèi)管;外管內(nèi)部安裝內(nèi)管，而且在內(nèi)管之中安裝加熱管，在外管和內(nèi)管之間有低熔點(diǎn)金屬填料。
[0008]尤其是，加熱管外端伸出在外管外側(cè)，而且，加熱管外端面上安裝有電源接線柱。
[0009]尤其是，在外管上安裝測(cè)溫器，測(cè)溫器的內(nèi)段伸入外管和內(nèi)管之間的低熔點(diǎn)金屬填料中。
[0010]尤其是，外管和內(nèi)管為等高的同軸圓管，而且，在外管和內(nèi)管的上下端面分別固定有外徑與外管相同的圓盤(pán)。
[0011]尤其是，加熱管高度不小于外管高度的1/2。
[0012]尤其是，測(cè)溫器高度不小于外管高度的1/5。
[0013]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和效果:通過(guò)加熱元件加熱低熔點(diǎn)金屬，而且，將低熔點(diǎn)金屬作為導(dǎo)熱介質(zhì)，同時(shí)具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導(dǎo)面積大的特點(diǎn)，并使之進(jìn)一步的實(shí)現(xiàn)對(duì)所綁定靶材進(jìn)行更為優(yōu)良的加熱。加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定，測(cè)溫精確，使用方便。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1外形結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]附圖標(biāo)記包括:低熔點(diǎn)金屬填料1、加熱管2、電源接線柱3、測(cè)溫器4、外管5、內(nèi)管6。
【具體實(shí)施方式】
[0017]本實(shí)用新型原理在于，通過(guò)加熱元件加熱低熔點(diǎn)金屬，而且，將低熔點(diǎn)金屬作為導(dǎo)熱介質(zhì)，同時(shí)具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導(dǎo)面積大的特點(diǎn)，并使之進(jìn)一步的實(shí)現(xiàn)對(duì)所綁定靶材進(jìn)行更為優(yōu)良的加熱。
[0018]本實(shí)用新型包括:低熔點(diǎn)金屬填料1、加熱管2、外管5和內(nèi)管6。
[0019]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0020]實(shí)施例1:如附圖1和2所示，外管5內(nèi)部安裝內(nèi)管6，而且在內(nèi)管6之中安裝加熱管2，在外管5和內(nèi)管6之間有低熔點(diǎn)金屬填料1。
[0021]前述中，加熱管2外端伸出在外管5外側(cè)，而且，加熱管2外端面上安裝有電源接線柱3。
[0022]前述中，在外管5上安裝測(cè)溫器4，測(cè)溫器4的內(nèi)段伸入外管5和內(nèi)管6之間的低熔點(diǎn)金屬填料1中。
[0023]前述中，外管5和內(nèi)管6為等高的同軸圓管，而且，在外管5和內(nèi)管6的上下端面分別固定有外徑與外管5相同的圓盤(pán)。
[0024]前述中，外管5外形是圓柱體，使用時(shí)可以放在金屬襯管內(nèi)部進(jìn)行加熱；
[0025]前述中，外管5和內(nèi)管6為同軸鋼管。
[0026]前述中，加熱管2高度不小于外管5高度的1/2。
[0027]前述中，測(cè)溫器4高度不小于外管5高度的1/5。
[0028]本實(shí)用新型中，把直徑110-120mm的鋼管作為外管5、直徑80-90mm的鋼管作為內(nèi)管
6、以及直徑與外管5相同的圓盤(pán)底座和頂蓋焊接在一起，拼成一個(gè)密閉的雙層鋼管;然后把熔化的低熔點(diǎn)金屬填充在兩層鋼管的夾縫里作為低熔點(diǎn)金屬填料1，而且把測(cè)溫儀4固定在低熔點(diǎn)金屬填料1夾層里;把加熱管2固定在內(nèi)管6的中心孔內(nèi)；連接電源和溫控儀器后即可開(kāi)始工作;工作原理是，通過(guò)加熱管2加熱內(nèi)管6，繼而，先把外管5和內(nèi)管6之間夾層的低熔點(diǎn)金屬填料1熔化，然后獲得溫度均勻的加熱體。然后再均勻而穩(wěn)定的加熱綁定的靶材。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，包括低熔點(diǎn)金屬填料(1)、加熱管(2)、外管(5)和內(nèi)管(6);其特征在于，外管(5)內(nèi)部安裝內(nèi)管(6)，而且在內(nèi)管(6)之中安裝加熱管(2)，在外管(5)和內(nèi)管(6)之間有低熔點(diǎn)金屬填料(1)。2.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，加熱管(2)外端伸出在外管(5)外側(cè)，而且，加熱管(2)外端面上安裝有電源接線柱(3)。3.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，在外管(5)上安裝測(cè)溫器(4)，測(cè)溫器(4)的內(nèi)段伸入外管(5)和內(nèi)管(6)之間的低熔點(diǎn)金屬填料(1)中。4.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，外管(5)和內(nèi)管(6)為等高的同軸圓管，而且，在外管(5)和內(nèi)管(6)的上下端面分別固定有外徑與外管(5)相同的圓盤(pán)。5.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，加熱管(2)高度不小于外管(5)高度的1/2。6.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，測(cè)溫器(4)高度不小于外管(5)高度的1/5。
【專利摘要】濺射鍍膜旋轉(zhuǎn)靶材綁定的內(nèi)部加熱器，外管(5)內(nèi)部安裝內(nèi)管(6)，而且在內(nèi)管(6)之中安裝加熱管(2)，在外管(5)和內(nèi)管(6)之間有低熔點(diǎn)金屬填料(1)。通過(guò)加熱元件加熱低熔點(diǎn)金屬，而且，將低熔點(diǎn)金屬作為導(dǎo)熱介質(zhì)，同時(shí)具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導(dǎo)面積大的特點(diǎn)，并使之進(jìn)一步的實(shí)現(xiàn)對(duì)所綁定靶材進(jìn)行更為優(yōu)良的加熱。加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定，測(cè)溫精確，使用方便。
【IPC分類】C23C14/34
【公開(kāi)號(hào)】CN205099745
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520876503
【發(fā)明人】曹興民, 莊志杰
【申請(qǐng)人】基邁克材料科技（蘇州）有限公司
【公開(kāi)日】2016年3月23日
【申請(qǐng)日】2015年11月3日