盤(pán)式平面打磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種盤(pán)式平面打磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]助聽(tīng)器是幫助聽(tīng)力殘弱者改善聽(tīng)力，從而提高言語(yǔ)交往能力的一種擴(kuò)音裝置。助聽(tīng)器在配置過(guò)程中，硬耳模和外殼的形狀表面應(yīng)適合制作的要求，需打磨修整?，F(xiàn)有打磨裝置的電機(jī)暴露在外界，磨盤(pán)磨削時(shí)產(chǎn)生大量的粉塵，粉塵四處飛濺，使得電機(jī)上沾染很多粉塵，影響電機(jī)的使用壽命，從而大大影響產(chǎn)品的加工質(zhì)量；另外，粉塵集聚在打磨裝置內(nèi)無(wú)法排出，影響打磨裝置的使用性能。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的盤(pán)式平面打磨裝置。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種盤(pán)式平面打磨裝置，包括前側(cè)開(kāi)口的殼體、電機(jī)和磨盤(pán)，所述電機(jī)、磨盤(pán)均安裝在所述殼體內(nèi)，所述電機(jī)與所述磨盤(pán)之間設(shè)置有隔離板，所述電機(jī)的轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述隔離板與所述磨盤(pán)固定，所述殼體的底端位于所述磨盤(pán)的下方設(shè)置有出屑口，所述殼體外位于所述出屑口處設(shè)置有底蓋板。
[0005]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述殼體的前側(cè)安裝有托架。
[0006]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述殼體的前側(cè)兩端分別固定有支板，所述托架包括兩個(gè)側(cè)板、設(shè)于兩個(gè)所述側(cè)板之間的托板，所述側(cè)板固定在所述支板上。
[0007]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述支板或側(cè)板上設(shè)有至少兩個(gè)長(zhǎng)條形孔。
[0008]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述殼體包括下殼體、蓋合在所述下殼體上的上殼體。
[0009]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述下殼體的側(cè)端設(shè)置有電源開(kāi)關(guān)，所述電源開(kāi)關(guān)外設(shè)置有防護(hù)罩。
[0010]本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，盤(pán)式平面打磨裝置進(jìn)一步包括所述下殼體的底端設(shè)置有腳墊。
[0011]本實(shí)用新型解決了【背景技術(shù)】中存在的缺陷，本實(shí)用新型通過(guò)隔離板將磨盤(pán)磨削后產(chǎn)生的粉塵擋住，避免粉塵沾染在電機(jī)上，延長(zhǎng)電機(jī)的使用壽命，確保磨削的順暢進(jìn)行，塵屑可沿出屑口排出，便于清除打磨產(chǎn)生的塵屑，操作者可以手持工件撐持在托板上，以穩(wěn)定工件打磨角度，確保打磨質(zhì)量，擰動(dòng)手?jǐn)Q螺釘能夠微調(diào)托板的位置，以取得最佳的工件打磨位置，防護(hù)罩不僅可以避免電源開(kāi)關(guān)沾染塵屑，還能防止誤操作，確保安全。
【附圖說(shuō)明】
[0012]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。
[0013]圖1是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的主視圖；
[0014]圖2是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的俯視圖；
[0015]圖3是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的右視圖；
[0016]圖4是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的后視圖；
[0017]圖5是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)部俯視圖；
[0018]圖6是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的內(nèi)部右視圖；
[0019]圖中:2、殼體，4、電機(jī)，6、磨盤(pán)，8、隔離板，9、轉(zhuǎn)軸，10、出屑口，11、底蓋板，12、托架，14、支板,16、側(cè)板,18、托板,20、長(zhǎng)條形孔,22、手抒螺釘,24、下殼體,26、上殼體,28、電源開(kāi)關(guān)，30、防護(hù)罩，32、腳墊。
【具體實(shí)施方式】
[0020]現(xiàn)在結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。
[0021]如圖1-圖6所示，一種盤(pán)式平面打磨裝置，包括前側(cè)開(kāi)口的殼體2、電機(jī)4和磨盤(pán)6，所述電機(jī)4、磨盤(pán)6均安裝在殼體2內(nèi)，電機(jī)4位于磨盤(pán)6的后方，電機(jī)4與磨盤(pán)6之間設(shè)置有隔離板8，磨盤(pán)6與電機(jī)4前后隔離，隔離板8的上端、下端分別與殼體2的上頂壁、下底壁抵接，磨盤(pán)6磨削后產(chǎn)生的粉塵被隔離板8擋住，避免粉塵沾染在電機(jī)4上，延長(zhǎng)電機(jī)4的使用壽命，確保磨削的順暢進(jìn)行，電機(jī)4的轉(zhuǎn)軸9穿過(guò)隔離板8與磨盤(pán)6固定，殼體2的底端位于磨盤(pán)6的下方設(shè)置有出屑口 10，殼體2外位于出屑口 10處設(shè)置有底蓋板11，打磨產(chǎn)生的塵屑可集聚在底蓋板11上，當(dāng)將底蓋板11從殼體2上拆卸后，塵屑可沿出屑口10排出，便于清除打磨產(chǎn)生的塵屑。
[0022]本實(shí)用新型優(yōu)選殼體2的前側(cè)安裝有托架12。殼體2的前側(cè)兩端分別固定有支板14,托架12包括兩個(gè)側(cè)板16、設(shè)于兩個(gè)側(cè)板16之間的托板18，兩個(gè)側(cè)板16與托板18 —體成型，側(cè)板16固定在支板14上，托架12穩(wěn)固在支板14上，在打磨工件時(shí)操作者可以手持工件撐持在托板18上，以穩(wěn)定工件打磨角度，確保打磨質(zhì)量。本實(shí)用新型優(yōu)選側(cè)板16上設(shè)有至少兩個(gè)長(zhǎng)條形孔20，但并不局限于此種方式，也可以在支板14上設(shè)有至少兩個(gè)長(zhǎng)條形孔20，進(jìn)一步優(yōu)選長(zhǎng)條形孔20的數(shù)量為兩個(gè)，通過(guò)手?jǐn)Q螺釘22穿過(guò)長(zhǎng)條形孔20與支板14旋緊，使得側(cè)板16固定在支板14上，同時(shí)通過(guò)手?jǐn)Q螺釘22穿過(guò)兩個(gè)長(zhǎng)條形孔20中的任一個(gè)以及長(zhǎng)條形孔20的不同位置即可實(shí)現(xiàn)側(cè)板16的前后移動(dòng)和上下移動(dòng)，微調(diào)托板18的位置，以取得最佳的工件打磨位置。
[0023]為了便于安裝電機(jī)4和磨盤(pán)6，本實(shí)用新型優(yōu)選殼體2包括下殼體24、蓋合在下殼體24上的上殼體26，安裝時(shí)，先將上殼體26與下殼體24分離，當(dāng)電機(jī)4和磨盤(pán)6均安裝在下殼體24上時(shí),將上殼體26蓋合固定在下殼體24上。
[0024]本實(shí)用新型優(yōu)選下殼體24的側(cè)端設(shè)置有電源開(kāi)關(guān)28，電源開(kāi)關(guān)28外設(shè)置有防護(hù)罩30，防護(hù)罩30不僅可以避免電源開(kāi)關(guān)28沾染塵屑，還能防止誤操作，確保安全。本實(shí)用新型優(yōu)選下殼體24的底端設(shè)置有腳墊32，腳墊32與工作臺(tái)之間具有間隙，便于手伸入間隙內(nèi)搬動(dòng)殼體2，同時(shí)腳墊32高于工作臺(tái)，避免水灑在工作臺(tái)上而進(jìn)入殼體2內(nèi)，確保殼體2內(nèi)的部件的完好。
[0025]以上依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容，相關(guān)人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定技術(shù)性范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種盤(pán)式平面打磨裝置，包括前側(cè)開(kāi)口的殼體、電機(jī)和磨盤(pán)，其特征在于:所述電機(jī)、磨盤(pán)均安裝在所述殼體內(nèi)，所述電機(jī)與所述磨盤(pán)之間設(shè)置有隔離板，所述電機(jī)的轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述隔離板與所述磨盤(pán)固定，所述殼體的底端位于所述磨盤(pán)的下方設(shè)置有出屑口，所述殼體外位于所述出屑口處設(shè)置有底蓋板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述殼體的前側(cè)安裝有托架。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述殼體的前側(cè)兩端分別固定有支板，所述托架包括兩個(gè)側(cè)板、設(shè)于兩個(gè)所述側(cè)板之間的托板，所述側(cè)板固定在所述支板上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述支板或側(cè)板上設(shè)有至少兩個(gè)長(zhǎng)條形孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述殼體包括下殼體、蓋合在所述下殼體上的上殼體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述下殼體的側(cè)端設(shè)置有電源開(kāi)關(guān)，所述電源開(kāi)關(guān)外設(shè)置有防護(hù)罩。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤(pán)式平面打磨裝置，其特征在于:所述下殼體的底端設(shè)置有腳墊。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種盤(pán)式平面打磨裝置，包括前側(cè)開(kāi)口的殼體、電機(jī)和磨盤(pán)，所述電機(jī)、磨盤(pán)均安裝在所述殼體內(nèi)，電機(jī)與磨盤(pán)之間設(shè)置有隔離板，所述電機(jī)的轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述隔離板與所述磨盤(pán)固定，所述殼體的底端位于所述磨盤(pán)的下方設(shè)置有出屑口，所述殼體外位于所述出屑口處設(shè)置有底蓋板。本實(shí)用新型通過(guò)隔離板將磨盤(pán)磨削后產(chǎn)生的粉塵擋住，避免粉塵沾染在電機(jī)上，延長(zhǎng)電機(jī)的使用壽命，確保磨削的順暢進(jìn)行，塵屑可沿出屑口排出，便于清除打磨產(chǎn)生的塵屑，操作者可以手持工件撐持在托板上，以穩(wěn)定工件打磨角度，確保打磨質(zhì)量，擰動(dòng)手?jǐn)Q螺釘能夠微調(diào)托板的位置，以取得最佳的工件打磨位置，防護(hù)罩不僅可以避免電源開(kāi)關(guān)沾染塵屑，還能防止誤操作，確保安全。
【IPC分類】B24B55-10, B24B7-10
【公開(kāi)號(hào)】CN204321771
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420769487
【發(fā)明人】徐斌, 吳秋麒
【申請(qǐng)人】蘇州立人聽(tīng)力器材有限公司
【公開(kāi)日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月10日