本技術(shù)涉及化學(xué)氣相沉積爐,具體地說(shuō)是一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置。
背景技術(shù):
1、化學(xué)氣相沉積(cvd)是一種材料表面改性技術(shù)。它可以利用氣相間的反應(yīng),在不改變基體材料的成分和不削弱基體材料的強(qiáng)度條件下,賦予材料表面一些特殊的性能。目前,由化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備的材料,例如熱解炭涂層(pyc)、碳化硅涂層(sic)、碳化鉭涂層(tac)、氮化硼涂層(bn)涂層等,不僅應(yīng)用于刀具材料、耐磨耐熱耐腐蝕材料、宇航工業(yè)上的特殊復(fù)合材料、原子反應(yīng)堆材料及生物醫(yī)用材料等領(lǐng)域,而且被廣泛應(yīng)用于制備與合成各種粉體材料、塊體材料、新晶體材料、陶瓷纖維及金剛石薄膜等。在作為大規(guī)模集成電路技術(shù)的鐵電材料、絕緣材料、磁性材料、光電子材料的薄膜制備技術(shù)方面,更是不可或缺。
2、化學(xué)氣相沉積爐是實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積工藝的重要設(shè)備之一,主要有電控系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、升降系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、爐殼、保溫層、加熱器、馬弗筒等幾部分組成,其中馬弗筒是承載產(chǎn)品沉積cvd涂層的重要部件,起到了提供封閉環(huán)境、平均溫度、導(dǎo)通氣流、穩(wěn)定氣氛的重要作用。
3、然而目前市面上大部分立式化學(xué)氣相沉積爐均采用馬弗筒底部多點(diǎn)進(jìn)氣、頂部單點(diǎn)排氣的技術(shù)方案,這樣做的優(yōu)點(diǎn)是爐體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于維護(hù),缺點(diǎn)則是進(jìn)氣孔軸線位置氣流流速高。結(jié)果就是在馬弗筒底部產(chǎn)生渦流現(xiàn)象,馬弗筒內(nèi)氣氛不均勻,導(dǎo)致個(gè)別產(chǎn)品表面cvd涂層厚度不一、涂層發(fā)花等現(xiàn)象,嚴(yán)重影響到產(chǎn)品的使用壽命及表面美觀。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、針對(duì)上述問(wèn)題,本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置可以明顯改善馬弗筒內(nèi)的氣氛均勻性,從而提高沉積產(chǎn)品表面的涂層均勻性,提高產(chǎn)品質(zhì)量及使用壽命。
2、本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是:
3、一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,包括扣設(shè)于化學(xué)氣相沉積爐底板出氣口處的導(dǎo)流蓋,所述的導(dǎo)流蓋包括呈錐形結(jié)構(gòu)的導(dǎo)流部,所述導(dǎo)流部的上端設(shè)置有封閉端部,所述的導(dǎo)流部上設(shè)置有散氣孔,且所述散氣孔的軸線呈傾斜狀態(tài)。
4、進(jìn)一步地,所述的導(dǎo)流蓋內(nèi)設(shè)置有定位筒,且所述定位筒的下端插入到所述的出氣口內(nèi)。
5、進(jìn)一步地,所述的定位筒包括定位部,且所述定位部的下端插入到所述的出氣口內(nèi),所述定位部的上端設(shè)置有導(dǎo)向部,所述導(dǎo)流部的下端設(shè)置有與所述的導(dǎo)向部相配合的導(dǎo)向支撐部,且通過(guò)導(dǎo)向部與導(dǎo)向支撐部的配合,所述的定位筒能夠沿所述導(dǎo)流蓋的導(dǎo)向支撐部上下滑動(dòng)。
6、進(jìn)一步地,所述的導(dǎo)向支撐部上設(shè)置有若干個(gè)用于承托所述定位筒的擋柱,且所述的擋柱通過(guò)可拆卸的方式與所述的導(dǎo)向支撐部相連接。
7、進(jìn)一步地,所述的擋柱與所述的導(dǎo)向支撐部螺紋連接。
8、進(jìn)一步地,所述的導(dǎo)向支撐部上沿圓周方向均布設(shè)置有四個(gè)擋柱。
9、進(jìn)一步地,所述的封閉端部向?qū)Я魃w的內(nèi)部凹陷,并呈錐形結(jié)構(gòu)。
10、進(jìn)一步地,所述的定位部和導(dǎo)向部之間設(shè)置有過(guò)渡連接部,且所述的過(guò)渡連接部和封閉端部共同形成呈錐形結(jié)構(gòu)的環(huán)形流道。
11、進(jìn)一步地,所述導(dǎo)流蓋的上端設(shè)置有蓋板。
12、本實(shí)用新型的有益效果是:
13、本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,采用頂端封閉的錐形結(jié)構(gòu),通過(guò)在傾斜的錐面上設(shè)置散氣孔,這樣能夠使氣體軸線流速部分轉(zhuǎn)換為徑向流速,抵消氣氛渦流現(xiàn)象,避免了傳統(tǒng)化學(xué)氣相沉積爐氣氛直上直下而不向四周擴(kuò)散的現(xiàn)象。這樣,可以有效優(yōu)化馬弗筒內(nèi)的氣氛均勻性,使得氣體由下而上均勻上升而不會(huì)造成氣體集中的現(xiàn)象,提高產(chǎn)品表面cvd涂層的厚度均勻性、表面美觀性,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量及使用壽命。
1.一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:包括扣設(shè)于化學(xué)氣相沉積爐底板出氣口(1)處的導(dǎo)流蓋(21),所述的導(dǎo)流蓋(21)包括呈錐形結(jié)構(gòu)的導(dǎo)流部(211),所述導(dǎo)流部(211)的上端設(shè)置有封閉端部(212),所述的導(dǎo)流部(211)上設(shè)置有散氣孔(2111),且所述散氣孔(2111)的軸線呈傾斜狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的導(dǎo)流蓋(21)內(nèi)設(shè)置有定位筒(22),且所述定位筒(22)的下端插入到所述的出氣口(1)內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的定位筒(22)包括定位部(221),且所述定位部(221)的下端插入到所述的出氣口(1)內(nèi),所述定位部(221)的上端設(shè)置有導(dǎo)向部(222),所述導(dǎo)流部(211)的下端設(shè)置有與所述的導(dǎo)向部(222)相配合的導(dǎo)向支撐部(213),且通過(guò)導(dǎo)向部(222)與導(dǎo)向支撐部(213)的配合,所述的定位筒(22)能夠沿所述導(dǎo)流蓋(21)的導(dǎo)向支撐部(213)上下滑動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的導(dǎo)向支撐部(213)上設(shè)置有若干個(gè)用于承托所述定位筒(22)的擋柱(23),且所述的擋柱(23)通過(guò)可拆卸的方式與所述的導(dǎo)向支撐部(213)相連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的擋柱(23)與所述的導(dǎo)向支撐部(213)螺紋連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的導(dǎo)向支撐部(213)上沿圓周方向均布設(shè)置有四個(gè)擋柱(23)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的封閉端部(212)向?qū)Я魃w(21)的內(nèi)部凹陷,并呈錐形結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述的定位部(221)和導(dǎo)向部(222)之間設(shè)置有過(guò)渡連接部(223),且所述的過(guò)渡連接部(223)和封閉端部(212)共同形成呈錐形結(jié)構(gòu)的環(huán)形流道。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于化學(xué)氣相沉積爐的分散排氣裝置,其特征在于:所述導(dǎo)流蓋(21)的上端設(shè)置有蓋板(24)。