本技術(shù)涉及金剛石化學(xué)氣相沉積設(shè)備，尤其涉及一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積是一種化工技術(shù)，廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料，這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物等，它們的物理功能可以通過(guò)氣相摻雜的淀積過(guò)程精確控制。

2、專利號(hào)cn202310187355.5公開(kāi)了一種金剛石氣相沉積裝置，其通過(guò)爐體以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置于爐體頂部的導(dǎo)流筒，所述爐體內(nèi)腔中固定連接有底板，且底板與爐體頂壁之間滑動(dòng)設(shè)置有隔板，導(dǎo)流筒穿過(guò)隔板并與隔板螺紋連接；所述底板上開(kāi)設(shè)有貫穿的第一排氣孔以及第二排氣孔，所述隔板與導(dǎo)流筒之間設(shè)置有導(dǎo)流組件，且底板底端設(shè)置有與導(dǎo)流組件相配合的密封組件，所述密封組件能夠交替對(duì)第一排氣孔以及第二排氣孔進(jìn)行密封，使得通過(guò)導(dǎo)流組件的氣體從底板處交替導(dǎo)出；此裝置通過(guò)設(shè)置的導(dǎo)流組件與密封組件相配合，使得混合氣體能夠持續(xù)地被輸送至爐體內(nèi)部，并且利用隔板，使得氣體在向下導(dǎo)出之前能夠混合均勻，從而提高后期沉積的均勻性，并且氣體在向下導(dǎo)出的過(guò)程中連續(xù)性好，但是該裝置存在以下問(wèn)題：其一，沉積效率低下，其次，緩震效果差，密封性能差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，通過(guò)設(shè)置沉積臺(tái)，利用加熱機(jī)構(gòu)對(duì)導(dǎo)熱柱進(jìn)行加熱，從而使得發(fā)生臺(tái)上溫度上升，沉積復(fù)合片上沉積效率升高，而且將沉積復(fù)合片豎直放置，確保正反兩面均可以生長(zhǎng)晶體，還設(shè)置了緩震支撐腿來(lái)解決現(xiàn)有技術(shù)中沉積效率低下，緩震效果差，密封性能不佳的技術(shù)問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，包括圓形真空反應(yīng)罐，所述圓形真空反應(yīng)罐后端設(shè)有進(jìn)氣管，且圓形真空反應(yīng)罐下端固定連接支撐架，所述支撐架前后側(cè)下端均勻固定連接支撐柱，所述支撐柱下端固定連接矩形框，所述矩形框前后側(cè)下端均勻設(shè)有支撐腳；

4、圓形真空反應(yīng)罐，所述圓形真空反應(yīng)罐為夾層結(jié)構(gòu)，且圓形真空反應(yīng)罐側(cè)邊均勻開(kāi)設(shè)有活動(dòng)密封孔，所述圓形真空反應(yīng)罐內(nèi)部中心位置設(shè)有沉積臺(tái)，所述沉積臺(tái)下端設(shè)有加熱機(jī)構(gòu)，所述加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置在圓形真空反應(yīng)罐下端中部，且所述圓形真空反應(yīng)罐下端均勻設(shè)有三個(gè)相同的緩震支撐腿，且所述加熱機(jī)構(gòu)右側(cè)設(shè)有抽真空設(shè)備，所述抽真空設(shè)備上端固定連接圓形真空反應(yīng)罐。

5、作為一種優(yōu)選，所述沉積臺(tái)包括導(dǎo)熱柱，所述導(dǎo)熱柱下端設(shè)有隔熱墊，且導(dǎo)熱柱上端固定連接發(fā)生臺(tái)，所述隔熱墊下端固定連接圓形真空反應(yīng)罐，所述發(fā)生臺(tái)上端設(shè)有沉積復(fù)合片，所述沉積復(fù)合片側(cè)邊固定連接連接桿，所述連接桿另一端固定連接調(diào)節(jié)固定桿，所述調(diào)節(jié)固定桿下端均勻開(kāi)設(shè)有調(diào)節(jié)孔，所述調(diào)節(jié)孔內(nèi)固定連接固定桿，所述固定桿貫穿調(diào)節(jié)孔固定連接發(fā)生臺(tái)。

6、作為一種優(yōu)選，其中一個(gè)所述活動(dòng)密封孔密封連接進(jìn)氣管，且其余所述活動(dòng)密封孔外側(cè)均密封連接密封蓋，所述密封蓋外側(cè)邊均勻設(shè)有螺紋連接桿。

7、作為一種優(yōu)選，所述圓形真空反應(yīng)罐上端密封連接上端蓋，所述上端蓋外側(cè)邊緣均勻設(shè)有c型密封塊，所述c型密封塊上端開(kāi)設(shè)有螺紋孔，所述螺紋孔內(nèi)螺紋連接緊固螺絲，且所述上端蓋下端面與圓形真空反應(yīng)罐相接觸位置設(shè)有密封橡膠墊。

8、作為一種優(yōu)選，所述加熱機(jī)構(gòu)包括加熱腔，所述加熱腔，所述加熱腔上端固定連接導(dǎo)熱腔，所述導(dǎo)熱腔上端固定連接導(dǎo)熱柱，所述導(dǎo)熱柱為雙層結(jié)構(gòu)，且導(dǎo)熱柱外側(cè)夾層內(nèi)設(shè)有隔熱棉。

9、作為一種優(yōu)選，所述緩震支撐腿包括緩震連接構(gòu)件，所述緩震連接構(gòu)件下端設(shè)有緩震彈簧，所述緩震彈簧下端設(shè)有二號(hào)緩震連接構(gòu)件，所述二號(hào)緩震連接構(gòu)件結(jié)構(gòu)與緩震連接構(gòu)件結(jié)構(gòu)相同，且二號(hào)緩震連接構(gòu)件下端設(shè)有支撐連接柱體，所述支撐連接柱體下端設(shè)有二號(hào)支撐腳，所述二號(hào)支撐腳結(jié)構(gòu)與支撐腳結(jié)構(gòu)相同，所述支撐連接柱體之間均相互固定連接加強(qiáng)筋。

10、作為又一種優(yōu)選，所述支撐腳包括防滑圓墊，所述防滑圓墊上端中心位置設(shè)有圓形凹槽口，所述圓形凹槽口內(nèi)放置圓形固定球，所述圓形固定球上端固定連接支撐細(xì)桿，所述支撐細(xì)桿上端固定連接矩形框。

11、本實(shí)用新型的有益效果：

12、(1)本實(shí)用新型中通過(guò)設(shè)置上端蓋，對(duì)整個(gè)圓形真空反應(yīng)罐上端進(jìn)行密封，利用c型密封塊均勻設(shè)置對(duì)上端蓋和圓形真空反應(yīng)罐進(jìn)行密封牢固連接，確保整個(gè)圓形真空反應(yīng)罐密封性能好，抽真空完全，金剛石化學(xué)氣相沉積氣體雜質(zhì)更少。

13、(2)本實(shí)用新型中通過(guò)設(shè)置沉積臺(tái)，利用加熱機(jī)構(gòu)對(duì)導(dǎo)熱柱進(jìn)行加熱，導(dǎo)熱柱將熱量傳遞到發(fā)生臺(tái)上，然后傳遞到與發(fā)生臺(tái)接觸的沉積復(fù)合片上，沉積復(fù)合片可以更加其本身型號(hào)規(guī)格進(jìn)行高度調(diào)節(jié)，然后將沉積復(fù)合片豎直放置，兩端均可以進(jìn)行晶體的生長(zhǎng)，確保生長(zhǎng)效率高。

14、(3)本實(shí)用新型中通過(guò)設(shè)置緩震支撐腿和支撐架，確保圓形真空反應(yīng)罐放置更加穩(wěn)定，緩震效果好，不會(huì)受到放置地面震動(dòng)的影響，確保整體的密封效果更佳，使用壽命更長(zhǎng)，安全系數(shù)高。

15、綜上所述，該設(shè)備具有緩震效果好，安全系數(shù)高，生長(zhǎng)晶石效率高，密封性能好的優(yōu)點(diǎn)，尤其適用于金剛石化學(xué)氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。

技術(shù)特征：

1.一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于：包括

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述沉積臺(tái)(4)包括導(dǎo)熱柱(41)，所述導(dǎo)熱柱(41)下端設(shè)有隔熱墊(42)，且導(dǎo)熱柱(41)上端固定連接發(fā)生臺(tái)(43)，所述隔熱墊(42)下端固定連接圓形真空反應(yīng)罐(1)，所述發(fā)生臺(tái)(43)上端設(shè)有沉積復(fù)合片(44)，所述沉積復(fù)合片(44)側(cè)邊固定連接連接桿(45)，所述連接桿(45)另一端固定連接調(diào)節(jié)固定桿(46)，所述調(diào)節(jié)固定桿(46)下端均勻開(kāi)設(shè)有調(diào)節(jié)孔(47)，所述調(diào)節(jié)孔(47)內(nèi)連接固定桿(48)，所述固定桿(48)貫穿調(diào)節(jié)孔(47)固定連接發(fā)生臺(tái)(43)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，其中一個(gè)所述活動(dòng)密封孔(11)密封連接進(jìn)氣管(2)，且其余所述活動(dòng)密封孔(11)外側(cè)均密封連接密封蓋(111)，所述密封蓋(111)外側(cè)邊均勻設(shè)有螺紋連接桿(112)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述圓形真空反應(yīng)罐(1)上端密封連接上端蓋(12)，所述上端蓋(12)外側(cè)邊緣均勻設(shè)有c型密封塊(13)，所述c型密封塊(13)上端開(kāi)設(shè)有螺紋孔，所述螺紋孔內(nèi)螺紋連接緊固螺絲(14)，且所述上端蓋(12)下端面與圓形真空反應(yīng)罐(1)相接觸位置設(shè)有密封橡膠墊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述加熱機(jī)構(gòu)(5)包括加熱腔(51)，所述加熱腔(51)，所述加熱腔(51)上端固定連接導(dǎo)熱腔(52)，所述導(dǎo)熱腔(52)上端固定連接導(dǎo)熱柱(41)，所述導(dǎo)熱柱(41)為雙層結(jié)構(gòu)，且導(dǎo)熱柱(41)外側(cè)夾層內(nèi)設(shè)有隔熱棉。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述緩震支撐腿(6)包括緩震連接構(gòu)件(61)，所述緩震連接構(gòu)件(61)下端設(shè)有緩震彈簧(62)，所述緩震彈簧(62)下端設(shè)有二號(hào)緩震連接構(gòu)件(63)，所述二號(hào)緩震連接構(gòu)件(63)結(jié)構(gòu)與緩震連接構(gòu)件(61)結(jié)構(gòu)相同，且二號(hào)緩震連接構(gòu)件(63)下端設(shè)有支撐連接柱體(64)，所述支撐連接柱體(64)下端設(shè)有二號(hào)支撐腳(65)，所述二號(hào)支撐腳(65)結(jié)構(gòu)與支撐腳(33)結(jié)構(gòu)相同，所述支撐連接柱體(64)之間均相互固定連接加強(qiáng)筋(66)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種cvd金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述支撐腳(33)包括防滑圓墊(331)，所述防滑圓墊(331)上端中心位置設(shè)有圓形凹槽口，所述圓形凹槽口內(nèi)放置圓形固定球(332)，所述圓形固定球(332)上端固定連接支撐細(xì)桿(333)，所述支撐細(xì)桿(333)上端固定連接矩形框(32)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種CVD金剛石化學(xué)氣相沉積機(jī)構(gòu)，包括圓形真空反應(yīng)罐為夾層結(jié)構(gòu)，且圓形真空反應(yīng)罐側(cè)邊均勻開(kāi)設(shè)有活動(dòng)密封孔，圓形真空反應(yīng)罐內(nèi)部中心位置設(shè)有沉積臺(tái)，沉積臺(tái)下端設(shè)有加熱機(jī)構(gòu)，加熱機(jī)構(gòu)設(shè)置在圓形真空反應(yīng)罐下端中部，圓形真空反應(yīng)罐下端均勻設(shè)有三個(gè)相同的緩震支撐腿，加熱機(jī)構(gòu)右側(cè)設(shè)有抽真空設(shè)備，抽真空設(shè)備上端固定連接圓形真空反應(yīng)罐，通過(guò)設(shè)置沉積臺(tái)，利用加熱機(jī)構(gòu)對(duì)導(dǎo)熱柱進(jìn)行加熱，從而使得發(fā)生臺(tái)上溫度上升，沉積復(fù)合片上沉積效率升高，而且將沉積復(fù)合片豎直放置，確保正反兩面均可以生長(zhǎng)晶體，還設(shè)置了緩震支撐腿來(lái)實(shí)現(xiàn)沉積效率高，緩震效果好，密封性能佳，安全系數(shù)高。

技術(shù)研發(fā)人員：劉宏明,李升
受保護(hù)的技術(shù)使用者：湖州中芯半導(dǎo)體科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240102
技術(shù)公布日：2024/12/26