技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及新材料和現(xiàn)代表面技術(shù)領(lǐng)域。尤其涉及一種等離子體化學(xué)氣相沉積與磁控濺射或離子鍍復(fù)合的鍍覆方法。在陰極與陽極之間施加電壓，使反應(yīng)氣體或惰性氣體發(fā)生輝光放電，產(chǎn)生由電子和離子構(gòu)成的等離子體。其中電子的運動受到正交電場和磁場的束縛，局限在一定區(qū)域呈旋輪漂移運動，增大了電子與氣體原子的碰撞幾率，從而提高氣體的離化率；而離子在陰極與陽極電勢差以及交叉電磁場所形成霍爾電流的共同作用下，從陰極的開口處束引出，直接沉積到基材表面，形成所需要的薄膜。這項復(fù)合表面技術(shù)的一個重要用途，就是用來制備優(yōu)質(zhì)類金剛石碳膜。該膜因具有優(yōu)異的性能而具有很大的使用價值。

技術(shù)研發(fā)人員：莫強(qiáng)強(qiáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：湖州金象科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.27
技術(shù)公布日：2017.09.08