本發(fā)明涉及一種cvd(化學(xué)氣相沉積)或pvd(物理氣相沉積)覆層設(shè)備，具有殼體、固定在殼體上的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固定在殼體的上部區(qū)段上的固持裝置，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)具有具備排氣口的排氣面，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)在多個懸吊位置上固定在固持裝置上。

在ep1815493b1中描述了這種類型的覆層設(shè)備，其示出覆層設(shè)備的殼體，在殼體內(nèi)安置有固持裝置，該固持裝置固持著進(jìn)氣機(jī)構(gòu)。類似的裝置在us2008/0317973a1中描述。

de2361744a描述了一種用于cvd反應(yīng)器的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，其中，在設(shè)有加熱器的氣體供應(yīng)裝置的下面安置有進(jìn)氣機(jī)構(gòu)。處理氣體穿過小孔輸送至排氣口。小孔構(gòu)成固持件，進(jìn)氣機(jī)構(gòu)通過固持件固定在氣體供應(yīng)裝置上。

us2009/0250008a1同樣描述了一種cvd反應(yīng)器。蓮蓬頭具有排氣面，其構(gòu)成排氣板。在排氣板的邊緣上設(shè)有具有通道的管形體，冷卻劑可以流動穿過通道。此外設(shè)有加熱件，管形體可以通過加熱件被加熱。

這種類型的覆層設(shè)備具有用于容納待覆層的基板的基座和承擔(dān)氣體分配器作用的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，處理氣體通過進(jìn)氣機(jī)構(gòu)可以被導(dǎo)入處理室內(nèi)，處理室在氣體分配器的下側(cè)和基座之間延伸。氣體分配器在其下側(cè)具有多個排氣口，處理氣體通過排氣口可以進(jìn)入處理室內(nèi)。在氣體分配器的內(nèi)部，用于分配處理氣體的腔室位于排氣口上。這種類型的氣體分配器例如在de102013101534a1內(nèi)描述。

為了沉積oled，在被加熱的氣體分配器內(nèi)借助運載氣體輸入氣態(tài)的有機(jī)的初始材料。氣態(tài)的初始材料穿過排氣口進(jìn)入處理室內(nèi)，以便在基板上冷凝，基板為此放置在被冷卻的基座上?；蹇梢跃哂写笥?m²的表面。隨之要求制造具有2m至3m的基座對角線的cvd或pvd反應(yīng)器。因為進(jìn)氣機(jī)構(gòu)必須在基座的整個表面上延伸，所以需要提供具有2m至3m的對角線的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)。處理室具有數(shù)厘米的處理室高度。為了在整個基板表面上可以沉積相同的層厚度和相同的層質(zhì)量，要求處理室高度在較小的公差范圍內(nèi)在整個處理室之上具有恒定的值。沉積過程在低壓范圍內(nèi)開始，也就是在這個范圍內(nèi)大氣壓對殼體壁施加非常高的變形力。無法避免的是，殼體在壓力下降時發(fā)生變形。此外，進(jìn)氣機(jī)構(gòu)被加熱，使得相對于機(jī)械力附加地要考慮熱膨脹現(xiàn)象。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于，如此改進(jìn)這種類型的覆層設(shè)備，使得在整個基座面之上的或者在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的排氣面上的處理室高度僅在較小公差范圍內(nèi)變化。

所述技術(shù)問題通過在權(quán)利要求中提供發(fā)明解決，其中，每個權(quán)利要求原則上示出技術(shù)問題的獨立的解決方案。

首先和本質(zhì)上建議一種固持裝置，其固定在殼體的上部區(qū)段上。其涉及一種可穩(wěn)定溫度的且機(jī)械穩(wěn)定的固持裝置。在這種形狀穩(wěn)定的固持裝置上進(jìn)氣機(jī)構(gòu)固定在多個懸吊位置上。懸吊位置基本上均勻地在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的整個延伸面內(nèi)分布。懸吊位置的相互距離小于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的對角線延伸長度的至少3倍、但優(yōu)選4倍或5倍。尤其優(yōu)選的是，兩個相鄰的懸吊位置的最大間距等于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的對角線延伸長度的最大十分之一。為了機(jī)械穩(wěn)定性，固持裝置可以具有機(jī)械的穩(wěn)定元件。該機(jī)械的穩(wěn)定元件可以由豎向壁構(gòu)成。固持裝置優(yōu)選由框架構(gòu)成，該框架由交叉的豎向壁構(gòu)成。兩個豎直且必要時也相互平行延伸的豎向壁的間距比進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的對角線長度小最少3倍、4倍、優(yōu)選5倍。沿豎向延伸的柱形的腔室設(shè)計有基礎(chǔ)面，該基礎(chǔ)面優(yōu)選最大等于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的基礎(chǔ)面的百分之一并且可以具有棋盤形狀或蜂巢形狀的輪廓。固持裝置優(yōu)選僅通過在其水平邊緣上鄰接的區(qū)域固定在殼體上。固持裝置的水平邊緣與殼體固定。固持裝置的整個中央的面區(qū)域沒有覆蓋進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，但是在多個基本上均勻地在面上分布的位置上具有與進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的固定連接。固持裝置是溫度穩(wěn)定的。為此可以設(shè)有主動或被動的溫度穩(wěn)定裝置。固持裝置被如此穩(wěn)定溫度，使得當(dāng)相對于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的溫度差變化時，進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的溫度既不會在水平方向上，也不會在豎直方向上出現(xiàn)可識別的改變。優(yōu)選地，在整體由固持裝置構(gòu)成的部件的內(nèi)部的溫度、優(yōu)選在框架內(nèi)的溫度在+/-5度內(nèi)變化。最冷點和最熱點的溫度差優(yōu)選最大等于5度。為了被動地穩(wěn)定溫度可以設(shè)有熱屏蔽件、例如其具有反射的表面或絕熱體。為了主動地穩(wěn)定溫度，可以使用控溫介質(zhì)，例如控溫液體，其流動穿過調(diào)溫通道。調(diào)溫通道可以布置在固持裝置內(nèi)。但是，調(diào)溫通道優(yōu)選設(shè)在固持裝置的上部或下部。因為進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的溫度在覆層過程中保持在較高的溫度，所以固持裝置必須為了控溫而被冷卻，則優(yōu)選使用主動調(diào)溫件，其安置在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固持裝置之間的區(qū)域內(nèi)。固持裝置的蜂巢形狀或盒子形狀的結(jié)構(gòu)賦予固持裝置框架的形狀，這還實現(xiàn)了機(jī)械的穩(wěn)定性。這還使得在內(nèi)壓力改變時可能待調(diào)節(jié)的殼體上部的形狀改變不會影響固持裝置的形狀。固定件涉及彈性固定件，固持裝置的邊緣區(qū)域借助固定件固定在殼體上。在優(yōu)選的設(shè)計方案中，在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固持裝置之間延伸有豎向的間隔空間。為了將進(jìn)氣機(jī)構(gòu)固定在固持裝置上使用多個懸吊件。懸吊件可以涉及長形延伸的金屬的或陶瓷的拉伸元件，其通過它的上端部固定在固持裝置上并且通過它的下端部固定在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的固定位置上。懸吊件可以是高度可調(diào)節(jié)的。由此，在每個懸掛位置上均可調(diào)節(jié)排氣面和基座上側(cè)之間的距離、也就是處理室高度。優(yōu)選由具有較低熱膨脹系數(shù)的材料制造懸吊件。進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的壁設(shè)有調(diào)溫通道。尤其構(gòu)成排氣面的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的壁、但也包括從排氣面遠(yuǎn)離的壁具有多個通道，調(diào)溫劑、例如較熱的液體可以流動穿過這些通道。為了穩(wěn)定固持裝置的溫度，不僅其形狀發(fā)揮作用。固持裝置設(shè)計為輕質(zhì)構(gòu)件。采取措施用于主動地避免從進(jìn)氣機(jī)構(gòu)至固持裝置的熱傳導(dǎo)，這些措施包括在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固持裝置之間的間隔空間內(nèi)安置一個或多個隔熱件。隔熱件涉及面狀物體，其平行于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的面延伸。隔熱件的表面可以是高反射性的。備選地，也可以在間隔空間內(nèi)安置絕熱體。至少一個隔熱件可以是主動冷卻的。主動冷卻的隔熱件優(yōu)選與固持裝置直接相鄰。主動冷卻的隔熱件可以涉及板件，該板件的延伸面大約相應(yīng)于固持裝置的延伸面或進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的延伸面。在板件的內(nèi)部流動著冷卻劑通道，冷卻劑可以流動穿過冷卻劑通道。由此，固持裝置可以保持在恒定的溫度。如果進(jìn)氣機(jī)構(gòu)被加熱，則固持裝置基本上保持它的溫度。在設(shè)備運行時可以改變的處理室高度的距離在1mm以下。殼體的表面溫度大約處于30℃。固持裝置的溫度可以穩(wěn)定在50℃。為此，主動隔熱件將溫度冷卻到大約50℃。蓮蓬頭在例如450℃的溫度下運行，并且基板被冷卻到20℃。通過一個或多個安裝在主動隔熱件和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)之間的被動隔熱件，從進(jìn)氣機(jī)構(gòu)至主動冷卻的隔熱件的熱流被減小。直接鄰接進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的隔熱件例如可以具有350℃的表面溫度。隔熱件可以由金屬或陶瓷材料構(gòu)成。在被動隔熱件和主動隔熱件之間可以安置另外的被動隔熱件，該另外的被動隔熱件同樣由金屬板或陶瓷板構(gòu)成。它們的溫度在運行時大約為270℃。也可以在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和主動隔熱件之間設(shè)置兩個以上的被動隔熱件。隔熱件的表面可以具有較低的光輻射度。這種表面可以是被研磨的、反射的表面。可以使用懸吊件，用于固定隔熱件。但也可以規(guī)定，懸吊件僅穿過隔熱件的開口，使得隔熱件的變形在空間上不會影響進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的位置。按照本發(fā)明，固持裝置針對變形是穩(wěn)定的。在此涉及由于溫度改變和/或壓力改變而導(dǎo)致的變形。隔熱件可以懸掛在獨立的懸掛裝置上，該懸掛裝置或者固定在殼體蓋上或者固定在固持裝置上。本發(fā)明還涉及一種運行這種設(shè)備的方法。本發(fā)明尤其涉及一種cvd或pvd覆層設(shè)備，具有殼體、固定在殼體的上部區(qū)段上的固持裝置和可調(diào)溫的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)具有具備排氣口的排氣面，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)在多個懸吊位置上固定在固持裝置上。固持裝置通過可主動調(diào)溫的調(diào)溫裝置可以控制溫度。本質(zhì)上，調(diào)溫裝置沿豎向安置在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固持裝置之間。本發(fā)明還涉及一種cvd或pvd覆層設(shè)備，具有殼體、固定在殼體的上部區(qū)段上的固持裝置和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)具有具備排氣口的排氣面，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)在多個懸吊位置上固定在固持裝置上。固持裝置通過可主動調(diào)溫的調(diào)溫裝置可以控制溫度。本質(zhì)上，固持裝置具有腔室結(jié)構(gòu)。該腔室結(jié)構(gòu)具有沿豎向延伸的腔室壁和沿水平延伸的腔室面，所述腔室面最大等于固持裝置的基礎(chǔ)面的二十五分之一、優(yōu)選最大為百分之一。

以下結(jié)合附圖闡述本發(fā)明的實施例。在附圖中：

圖1示出沿圖2的剖切線i-i剖切示意示出的pvd覆層設(shè)備的剖面圖，

圖2示出覆層設(shè)備的俯視圖，

圖3示出根據(jù)圖1的剖切線iii-iii所得的剖面圖，

圖4示出第二實施例的pvd反應(yīng)器的殼體上部的基本根據(jù)圖1的剖面圖，

圖5示出根據(jù)圖4的殼體上部的局部立體圖。

圖1至3所示的設(shè)備是用于對大面積基板進(jìn)行有機(jī)層覆層的pvd設(shè)備?；蹇梢跃哂芯匦涡螤睿渚哂写笥?m的對角線，尤其大約2m或3m。殼體下部2支承著用于放置基板的基座15。所述基座15具有多個冷卻通道16，冷卻劑通過冷卻通道16可以被布置在處理室內(nèi)?；柚鋮s劑保持在大約20℃的溫度下。

殼體的上部1具有殼體蓋，該殼體蓋通過肋條結(jié)構(gòu)17、18被機(jī)械地穩(wěn)定。殼體下部2具有類似的肋條結(jié)構(gòu)，用于機(jī)械地穩(wěn)定殼體底板。在殼體蓋內(nèi)可以布置調(diào)溫劑通道，液態(tài)的調(diào)溫劑流動穿過調(diào)溫劑通道，用于將殼體蓋保持在預(yù)設(shè)的溫度。

在殼體蓋的邊緣上和殼體上部1的側(cè)壁的邊緣上設(shè)有固定件13、14。這涉及彈性的固定件13、14，固持裝置3通過固定件在其水平的邊緣上固定在殼體上部1上。

固持裝置3是桁架形式或蜂窩結(jié)構(gòu)的輕質(zhì)構(gòu)件。該輕質(zhì)構(gòu)件具有多個沿豎向連接線相互連接的面狀元件4、5。所述面狀元件4、5構(gòu)成豎向壁。在實施例中，固持裝置3設(shè)計為由交叉的豎向壁4、5構(gòu)成的固持架，該固持架通過其邊緣3’借助固定件13、14固定在殼體1上。因為固持裝置3僅在其邊緣3’上與殼體固定，所以當(dāng)在殼體1、2內(nèi)部出現(xiàn)壓力變化時無法避免的殼體蓋的扭曲不會導(dǎo)致固持裝置3在殼體1、2內(nèi)部明顯的位置變化。整體被邊緣3’圍繞的固持裝置3的中央的平面區(qū)域沒有承受與之平行延伸的殼體上部1的蓋壁的應(yīng)力。固定件13、14在殼體上部1的蓋壁的邊緣上固定。固持裝置3構(gòu)成開放的或封閉的腔室結(jié)構(gòu)，其中，腔室的水平的面比固持裝置3的水平的面小至少100倍。面的豎向高度可以處在腔室的水平面的等量圓對角線的數(shù)量級內(nèi)。

涉及空腔體的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的壁板具有調(diào)溫通道9，該進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7沿豎向安置在基座15的上方。進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的構(gòu)成排氣面7’的下側(cè)與基座15的上側(cè)的間距等于數(shù)厘米。排氣面7’具有多個蓮蓬頭形狀布置的排氣口8，來自進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的空腔內(nèi)的處理氣體通過排氣口可以流到處理室內(nèi)，該處理室由基座15的上側(cè)和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的下側(cè)構(gòu)成。進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7將溫度控制在大約450℃。

進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7通過機(jī)械的固定元件6固定在固持裝置3上。機(jī)械的固定元件6基本上均勻地在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的整個延伸面內(nèi)分布。相鄰的固定元件6的相互距離大大小于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的邊棱長度或?qū)蔷€。優(yōu)選地，兩個相鄰的固定元件6的最大間距小于進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的等量圓對角線的十分之一。

機(jī)械的固定元件是懸吊件6，該懸吊件通過頭部6’固定在固持裝置3上并且在至進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的豎向間隙內(nèi)延伸。在此，懸吊件6在懸掛位置6’上通過其腳部固定在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7上。進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7具有兩個相互平行延伸的壁，這些壁分別具有調(diào)溫劑通道9。固定位置6’可以設(shè)在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的上壁上。但在實施例中，固定位置6’也可以設(shè)在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的具有排氣口8的壁上。懸吊件6的腳部在此則固定在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的下壁上。

懸吊件6的頭部6”支承在固持裝置3的上側(cè)的開口或缺口19內(nèi)。頭部6”可以由螺栓構(gòu)成，該螺栓旋入螺紋內(nèi)，使得通過頭部6”的旋轉(zhuǎn)改變懸吊件6的長度或改變懸掛位置6’的豎向位置。但是，頭部6”也可以由螺母或其它調(diào)節(jié)件構(gòu)成，借此局部調(diào)節(jié)進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的高度位置。由此，處理室的高度可以局部地預(yù)設(shè)。懸吊件6優(yōu)選由具有較低熱膨脹系數(shù)的材料構(gòu)成，使得對懸吊件6的加熱不會影響處理室的局部高度。

在優(yōu)選的設(shè)計方案中，其也在圖1和3所示的實施例中實現(xiàn)，固持裝置3不僅涉及機(jī)械穩(wěn)定的固持框架，也涉及溫度穩(wěn)定的固持框架。為此，主動控溫的隔熱件11直接位于固持裝置3的下方。隔熱件11設(shè)計由金屬或陶瓷構(gòu)成的、具有冷卻劑通道12的板件。通過該冷卻劑通道12導(dǎo)引穿流冷卻劑，這使得主動冷卻的隔熱板11將溫度置于大約50℃。

在主動冷卻的隔熱件11和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7之間可以安置一個或多個被動隔熱件。在實施例中設(shè)計被動隔熱件，其同樣可以涉及金屬板或陶瓷板。被動隔熱件具有一個溫度，該溫度在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的溫度和主動隔熱件的溫度之間的范圍內(nèi)。被動隔熱件的溫度可以在400℃至200℃之間的范圍內(nèi)。在使用多個相互平行布置的被動隔熱件的情況下，各個隔熱件可以具有270℃或350℃的溫度。固持裝置的溫度由此保持在大約50℃。殼體溫度則處于大約30℃。被動隔熱件10優(yōu)選是具有高反射表面的金屬板。其發(fā)射系數(shù)小于0.2。

圖4和5示出殼體上部1的第二實施例同樣具有設(shè)計為輕質(zhì)構(gòu)件的固持框架3，其由框架形式的隔間結(jié)構(gòu)構(gòu)成，其中，豎向的隔間壁4、5在豎向連接線上相互連接。隔間壁4、5在此也可以設(shè)計為薄的金屬板。在此附加地，固持框架3還具有水平延伸的上水平壁20和下水平壁21。

即便在該實施例中，僅僅固持裝置3的豎向延伸的邊緣3’與殼體1相連。與之相關(guān)的固定件13可以是彈性的固定件。固持裝置3的所有的壁板由最薄的屏幕材料構(gòu)成，如板材。這構(gòu)成了開放腔室的或封閉腔室形式的空間結(jié)構(gòu)。固持裝置3固定在殼體上部1的蓋板的邊緣上。

具有多個排氣口的進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7通過多個在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的延展面上基本均勻布置的固定位置6’固定在固持裝置3上。其連接機(jī)械的固定元件6，該固定元件6在此也由懸吊件構(gòu)成。懸吊件6’的頭部與固持裝置3相連。懸吊件6的腳部在固定位置6’上與進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7相連。在此在固持裝置3和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7之間的豎向間隔空間內(nèi)也設(shè)有多個熱屏蔽件10、11。在此也設(shè)有至少一個主動冷卻的熱屏蔽件11，其直接安置在固持裝置的下方并且平行于固持裝置3的下側(cè)延伸。在主動冷卻的隔熱件11和進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7的上側(cè)之間延伸有多個相互平行延伸的被動熱屏蔽件10。

在該實施例中，熱屏蔽件與懸吊件6相連。懸吊件6由此不僅將進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7固持在固持裝置3上，而且也將熱屏蔽件10、11固定在其豎向位置上。熱屏蔽件10、11也可以通過獨立的懸吊件固定在固持裝置3上。它們具有高反射的表面。安置在固持裝置3的下方的板件11在固持裝置3的整個延展面上延伸，該板件11具有冷卻劑通道12，冷卻水通過該冷卻通道被導(dǎo)引穿流。

在未示出的實施例中可以規(guī)定，熱屏蔽件10、11的豎向位置基本上是不重要的，熱屏蔽件10、11通過獨立的懸吊裝置直接固定在殼體1上。與之相關(guān)的懸吊裝置可以設(shè)在熱屏蔽件10、11的邊緣上。但是，懸吊裝置也可以設(shè)在熱屏蔽件10、11的中央的面區(qū)域內(nèi)并且例如穿過固持裝置3的通孔，用于固定在殼體上部1的蓋子上。

在殼體上部1的蓋區(qū)段內(nèi)在加強(qiáng)肋條17、18之間的區(qū)域內(nèi)設(shè)有可關(guān)閉的開口22。通過打開該開口22可以到達(dá)固持裝置3的上側(cè)或者到達(dá)上部水平壁20。開口19處在上述位置，懸吊件6的頭部6”在開口19內(nèi)延伸。頭部6”可以由螺紋件構(gòu)成，使得通過頭部6”的轉(zhuǎn)動影響懸吊件6的有效長度。懸吊件的頭部6”由此構(gòu)成調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，用于局部影響處理室的高度，即進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7與基座15的距離。

應(yīng)用前述裝置用于在大面積的基本上沉積oled。在該方法中，固體的、粉末形狀的初始材料通過蒸發(fā)器轉(zhuǎn)變?yōu)闅怏w形式。由此構(gòu)成的有機(jī)蒸汽借助運載氣體被輸送到進(jìn)氣機(jī)構(gòu)7內(nèi)，在那里蒸汽從排氣口7’排出，以便在位于基座15上的基板的表面上冷凝。

前述實施方式用于闡述本申請整體包含的發(fā)明，所述發(fā)明至少通過以下特征組合也分別獨立地改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)，即：

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，設(shè)有可主動調(diào)溫的調(diào)溫裝置(11、12)，所述固持裝置(3)借助所述調(diào)溫裝置(11、12)能夠穩(wěn)定溫度。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述調(diào)溫裝置(11、12)具有調(diào)溫劑通道(12)。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述調(diào)溫裝置(11、12)安置在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)(7)和固持裝置(3)之間。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述固持裝置具有機(jī)械的穩(wěn)定元件。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述固持裝置由固持框架構(gòu)成，所述固持框架具有在豎向連接線上相互連接的豎向壁。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述固持裝置僅在其水平邊緣上固定在所述殼體上。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述固持裝置通過彈性的固定件固定在所述殼體上。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述進(jìn)氣機(jī)構(gòu)通過多個在整個水平延伸面上分布的懸吊件固定在所述固持裝置上，其中，所述懸吊件沿豎向從懸掛位置延伸至所述固持裝置。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，一個或多個隔熱件安置在進(jìn)氣機(jī)構(gòu)和固持裝置之間的豎向間隔空間內(nèi)。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述調(diào)溫裝置(11)由直接與固持裝置(3)相鄰的隔熱件構(gòu)成。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，兩個直接相鄰的懸掛位置最大彼此間隔進(jìn)氣機(jī)構(gòu)的等量圓對角線的五分之一。

一種cvd或pvd覆層設(shè)備，其特征在于，所述固持裝置具有腔室結(jié)構(gòu)，該腔室結(jié)構(gòu)具有沿豎向延伸的腔室壁和沿水平延伸的腔室面，所述腔室面最大等于固持裝置的基礎(chǔ)面的二十五分之一、優(yōu)選最大為百分之一。

一種運行cvd或pvd覆層設(shè)備的方法，其特征在于，固持裝置3借助調(diào)溫裝置11、12保持在均一的溫度上，使得固持裝置的最冷點最多低于固持裝置的最熱點5度。

所有公開的特征(本身及其相互組合)都有發(fā)明意義或發(fā)明價值。在本申請的公開文件中，所屬/附屬的優(yōu)先權(quán)文本(在先申請文件)的公開內(nèi)容也被完全包括在內(nèi)，為此也將該優(yōu)先權(quán)文本中的特征納入本申請的權(quán)利要求書中。從屬權(quán)利要求的特征都是對于現(xiàn)有技術(shù)有獨立發(fā)明意義或價值的改進(jìn)設(shè)計，尤其可以這些從屬權(quán)利要求為基礎(chǔ)提出分案申請。

附圖標(biāo)記列表

1殼體上部

2殼體下部

3固持裝置

3’邊緣

4豎向壁

5豎向壁

6固定元件

6’懸掛位置

6”頭部

7進(jìn)氣機(jī)構(gòu)

7’排氣面

8排氣口

9調(diào)溫通道

10被動隔熱件

11主動隔熱件

12冷卻劑通道

13固定件

14固定件

15基座

16冷卻劑通道

17肋條

18肋條

19開口

20上部水平壁

21下部水平壁

22開口

23

24

25