磁體用調(diào)節(jié)機構的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種磁體用調(diào)節(jié)機構，適用于磁控濺射鍍膜機，磁控濺射鍍膜機包括鍍膜室、加熱保溫板、靶材、安裝架及呈板狀結構的磁體，加熱保溫板及靶材均設于鍍膜室內(nèi)，且靶材位于加熱保溫板的一側，安裝架安裝于鍍膜室的外部；磁體呈移動的設于安裝架，磁體位于加熱保溫板的另一側且兩者呈間隔開的設置，磁體用調(diào)節(jié)機構設于磁體及安裝架之間，磁體用調(diào)節(jié)機構包括移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件，移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均設于磁體及安裝架之間，通過移磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體相對靶材沿平行于靶材的方向做平移調(diào)節(jié)操作，通過均磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體彎曲以調(diào)節(jié)磁體兩端與靶材的距離。從而實現(xiàn)根據(jù)實際的需求對磁體進行調(diào)節(jié)。
【專利說明】磁體用調(diào)節(jié)機構
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及磁控濺射鍍膜領域，尤其涉及一種適用于磁控濺射鍍膜機的磁體用調(diào)節(jié)機構。
【背景技術】
[0002]眾所周知，磁控濺射是為了在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。通過在靶材陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率的方法；即在二極濺射中增加一個平行于靶材表面的封閉磁場，借助于靶材表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶材表面特定區(qū)域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)高速率濺射的過程。
[0003]在現(xiàn)有技術中，通常是通過一呈板狀長方體結構的磁體來提供磁場，雖然磁控濺射的技術日趨成熟，但是其仍存在眾多的缺陷，一方面，由于板狀長方體結構的磁體本身的磁場分布是不均勻的，造成了靶材所處區(qū)域的磁場分布不均勻，使得在二極濺射中的二次電子的運動不穩(wěn)定及分布不均勻，最終導致待鍍膜的基片的鍍膜分布不均勻及鍍膜厚度不一致，從而嚴重影響了基片的鍍膜質(zhì)量及合格率；另一方面，由于磁體相對于靶材往往是呈固定設置的，無法移動，對于靶材面積較大而磁體所產(chǎn)生的磁場較小的情況時，則使得靶材的利用率和濺射范圍受到限制，無法充分利用靶材，對未處于磁場作用區(qū)域內(nèi)的靶材造成浪費，且很大的制約了基片鍍膜的加工效率，且也會對基片的鍍膜質(zhì)量及合格率產(chǎn)生一定的不良影響。
[0004]因此，急需要一種磁體用調(diào)節(jié)機構來克服上述存在的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)Υ朋w進行調(diào)節(jié)的磁體用調(diào)節(jié)機構，該磁體用調(diào)節(jié)機構不但能提高鍍膜合格率及鍍膜質(zhì)量，而且還能提高靶材利用率及鍍膜加工效率。
[0006]為實現(xiàn)上述的目的，本發(fā)明提供了一種磁體用調(diào)節(jié)機構，適用于磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機包括鍍膜室、加熱保溫板、靶材、安裝架及呈板狀結構的磁體，所述加熱保溫板及靶材均設于所述鍍膜室內(nèi)，且所述靶材位于加熱保溫板的一側，所述安裝架安裝于鍍膜室的外部；其中，所述磁體呈移動的設于所述安裝架，所述磁體位于所述加熱保溫板的另一側且兩者呈間隔開的設置，所述磁體用調(diào)節(jié)機構設于所述磁體及安裝架之間，所述磁體用調(diào)節(jié)機構包括移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件，所述移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均設于所述磁體及安裝架之間，通過所述移磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使所述磁體相對所述靶材沿平行于所述靶材的方向做 平移調(diào)節(jié)操作，通過所述均磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使所述磁體彎曲以調(diào)節(jié)所述磁體兩端與所述靶材的距離。
[0007]較佳地，所述移磁調(diào)節(jié)組件包含主動齒輪及從動條形齒，所述主動齒輪樞接于所述安裝架，所述從動條形齒沿所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向安裝于所述磁體，且所述主動齒輪與所述從動條形齒嚙合配合。[0008]較佳地，所述靶材及磁體均沿豎直方向設置，所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向呈水平方向設置。
[0009]較佳地，所述移磁調(diào)節(jié)組件還包含樞轉(zhuǎn)軸及操作件，所述樞轉(zhuǎn)軸樞接于所述安裝架，所述主動齒輪安裝于所述樞轉(zhuǎn)軸靠近所述磁體的一端，所述操作件安裝于所述樞轉(zhuǎn)軸遠離所述磁體的一端。
[0010]較佳地，所述安裝架上設有一樞接座，所述樞轉(zhuǎn)軸樞接于所述樞接座。
[0011]較佳地，所述磁體的兩端均設有所述均磁調(diào)節(jié)組件，所述均磁調(diào)節(jié)組件包含連接座、抵推螺栓及回拉螺栓，所述連接座連接于所述安裝架，所述抵推螺栓的一端螺紋連接于所述連接座，所述抵推螺栓的另一端抵觸于所述磁體，所述回拉螺栓的一端螺紋連接于所述磁體，所述回拉螺栓的另一端滑動貫穿所述連接座，所述連接座均位于所述磁體與所述回拉螺栓的螺帽之間，且所述連接座抵觸于所述回拉螺栓的螺帽；所述安裝架還連接有頂推部，所述頂推部朝靠近所述靶材的方向抵推于所述磁體，且所述頂推部位于所述磁體的兩端的所述均磁調(diào)節(jié)組件之間。
[0012]較佳地，所述均磁調(diào)節(jié)組件還包含導向件，所述導向件沿所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向設于所述安裝架，所述連接座呈滑動連接于所述導向件。[0013]較佳地，所述移磁調(diào)節(jié)組件位于所述磁體的兩端的所述均磁調(diào)節(jié)組件之間，且所述頂推部形成于所述移磁調(diào)節(jié)組件。
[0014]較佳地，所述頂推部形成于所述主動齒輪靠近于所述磁體的端部。
[0015]較佳地，所述安裝架開設有一容置槽，所述移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均位于所述容置槽內(nèi)。
[0016]與現(xiàn)有技術相比，由于本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構的磁體呈移動的設于安裝架，磁體位于加熱保溫板的另一側且兩者呈間隔開的設置，磁體用調(diào)節(jié)機構設于磁體及安裝架之間，磁體用調(diào)節(jié)機構包括移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件，移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均設于磁體及安裝架之間，通過移磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體相對靶材沿平行于靶材的方向做平移調(diào)節(jié)操作，通過均磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體彎曲以調(diào)節(jié)磁體兩端與靶材的距離。從而實現(xiàn)根據(jù)實際的使用需求對磁體進行調(diào)節(jié)，一方面，通過移磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體相對靶材沿平行于靶材的方向做平移調(diào)節(jié)，使得靶材的每一處都能夠輪流處于磁體的磁場作用范圍內(nèi)，從而大大增加了靶材的利用率和濺射范圍，充分利用靶材，同時大大提高了基片鍍膜的加工效率，且無需增大磁體的體積，節(jié)約了磁控濺射鍍膜機的制造成本；另一方面，通過均磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使磁體彎曲以調(diào)節(jié)磁體兩端與靶材的距離，從而使得靶材所處區(qū)域的磁場分布更為均勻，使得在二極濺射中的二次電子的運動更為穩(wěn)定及分布更為均勻，進而使待鍍膜的基片的鍍膜分布更為均勻及鍍膜厚度更為一致，最終大大提高了基片的鍍膜質(zhì)量及合格率。且本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構還具有結構簡單、制造成本低及易維護的優(yōu)點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為安裝有本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構的磁控濺射鍍膜機的組合立體示意圖。
[0018]圖2為圖1的平面結構示意圖。
[0019]圖3為沿圖2中A-A線的剖視圖。
[0020]圖4為本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構的移磁調(diào)節(jié)組件的組合立體示意圖。[0021]圖5為本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構的均磁調(diào)節(jié)組件的組合立體示意圖。
【具體實施方式】
[0022]為了詳細說明本發(fā)明的技術內(nèi)容、構造特征，以下結合實施方式并配合附圖作進
一步說明。
[0023]請參閱圖1至圖5，本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構100適用于磁控濺射鍍膜機200，磁控濺射鍍膜機200包括鍍膜室(圖中未示)、加熱保溫板40、靶材50、安裝架60及呈板狀結構的磁體70，加熱保溫板40及靶材50均設于鍍膜室內(nèi)，且靶材50位于加熱保溫板40的一偵牝安裝架60安裝于鍍膜室的外部；其中，磁體70呈移動的設于安裝架60，磁體70位于加熱保溫板40的另一側且兩者呈間隔開的設置，磁體用調(diào)節(jié)機構100設于磁體70及安裝架60之間，磁體用調(diào)節(jié)機構100包括移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20，移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20均設于磁體70及安裝架60之間，通過移磁調(diào)節(jié)組件10驅(qū)使磁體70相對靶材50沿平行于靶材50的方向做平移調(diào)節(jié)操作，通過均磁調(diào)節(jié)組件20驅(qū)使磁體70彎曲以調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離。從而實現(xiàn)根據(jù)實際的使用需求對磁體70進行調(diào)節(jié)，一方面，通過移磁調(diào)節(jié)組件10驅(qū)使磁體70相對靶材50沿平行于靶材50的方向做平移調(diào)節(jié)，使得靶材50的每一處都能夠輪流處于磁體70的磁場作用范圍內(nèi)，從而大大增加了靶材50的利用率和濺射范圍，充分利用靶材50，同時大大提高了基片鍍膜的加工效率，且無需增大磁體70的體積，節(jié)約了磁控濺射鍍膜機200的制造成本；另一方面，通過均磁調(diào)節(jié)組件20驅(qū)使磁體70彎曲以調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離，從而使得靶材50所處區(qū)域的磁場分布更為均勻，使得在二極濺射中的二次電子的運動更為穩(wěn)定及分布更為均勻，進而使待鍍膜的基片的鍍膜分布更為均勻及鍍膜厚度更為一致，最終大大提高了基片的鍍膜質(zhì)量及合格率。具體地，如下:
[0024]其中，移磁調(diào)節(jié)組件10包含主動齒輪11及從動條形齒12，主動齒輪11樞接于安裝架60，從動 條形齒12沿磁體70做平移調(diào)節(jié)的方向安裝于磁體70，且主動齒輪11與從動條形齒12嚙合配合，從而通過樞轉(zhuǎn)主動齒輪11驅(qū)使從動條形齒12移動以帶動磁體70移動而對磁體70進行平移的位置調(diào)節(jié)，以提高靶材50的利用效率，結構更為合理緊湊。較優(yōu)是，在本實施例中，靶材50及磁體70均沿豎直方向設置，磁體70做平移調(diào)節(jié)的方向呈水平方向設置，結構更為合理緊湊，但，不以此為限。更優(yōu)是，在本實施例中，移磁調(diào)節(jié)組件10還包含樞轉(zhuǎn)軸13及操作件14，樞轉(zhuǎn)軸13樞接于安裝架60，主動齒輪11安裝于樞轉(zhuǎn)軸13靠近磁體70的一端，操作件14安裝于樞轉(zhuǎn)軸13遠離磁體70的一端，使得主動齒輪11的樞接結構更為合理緊湊，且通過操作件14能夠更為方便省力地樞轉(zhuǎn)主動齒輪11。具體地，安裝架60上設有一樞接座15，樞轉(zhuǎn)軸13樞接于樞接座15，結構更為合理緊湊。
[0025]同時，在本實施例中，磁體70的兩端均設有均磁調(diào)節(jié)組件20，具體地，均磁調(diào)節(jié)組件20包含連接座21、抵推螺栓22及回拉螺栓23，連接座21連接于安裝架60，抵推螺栓22的一端螺紋連接于連接座21，抵推螺栓22的另一端抵觸于磁體70，回拉螺栓23的一端螺紋連接于磁體70，回拉螺栓23的另一端滑動貫穿連接座21，連接座21均位于磁體70與回拉螺栓23的螺帽之間，且連接座21抵觸于回拉螺栓23的螺帽，即通過抵推螺栓22及回拉螺栓23 —推一拉的相互配合作用來定位磁體70兩端與靶材50的距離，當需要調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離時，僅需樞轉(zhuǎn)抵推螺栓22及回拉螺栓23來進行操作，極為方便，且結構簡單緊湊；較優(yōu)是，在本實施例中，均磁調(diào)節(jié)組件20包括兩個回拉螺栓23及一個抵推螺栓22，兩個回拉螺栓23分布于抵推螺栓22的兩側且關于抵推螺栓22呈對稱的布置，結構更為合理緊湊，當然，抵推螺栓22及回拉螺栓23的具體數(shù)量及布置結構并不以此為限，在其它實施例中，還可以根據(jù)實際的使用需求而靈活選擇和設計；安裝架60還連接有頂推部24，頂推部24朝靠近靶材50的方向抵推于磁體70，且頂推部24位于磁體70的兩端的均磁調(diào)節(jié)組件20之間，從而通過頂推部24抵推于磁體70的中部，及通過位于磁體70兩端的均磁調(diào)節(jié)組件20的調(diào)節(jié)操作，最終驅(qū)使磁體70彎曲以調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離，從而使得靶材50所處區(qū)域的磁場分布更為均勻。更優(yōu)是，均磁調(diào)節(jié)組件20還包含導向件25，導向件25沿磁體70做平移調(diào)節(jié)的方向設于安裝架60，連接座21呈滑動連接于導向件25，從而使的磁體70的平移調(diào)節(jié)更為順暢穩(wěn)定，結構更為合理。更優(yōu)是，在本實施例中，移磁調(diào)節(jié)組件10位于磁體70的兩端的均磁調(diào)節(jié)組件20之間，且頂推部24較優(yōu)為形成于移磁調(diào)節(jié)組件10，結構更為簡單緊湊，但不以此為限。更優(yōu)是，位于磁體70的兩端的均磁調(diào)節(jié)組件20關于頂推部24呈對稱的布置。詳細而言，頂推部24形成于主動齒輪11靠近于磁體70的端部，結構更為合理緊湊。
[0026]較優(yōu)者，安裝架60開設有一容置槽61，移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20均位于容置槽61內(nèi)，使得移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20布局空間更為合理，減少整體的占用空間，結構更為合理緊湊，但，并以此為限。
[0027]結合附圖，對本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構100的工作原理作詳細說明:當需要將磁體70相對靶材50沿平行于靶材50的方向做平移調(diào)節(jié)操作時，僅需通過樞轉(zhuǎn)操作件14以帶動樞轉(zhuǎn)軸13驅(qū)使主動齒輪11旋轉(zhuǎn)，從而通過樞轉(zhuǎn)主動齒輪11驅(qū)使從動條形齒12移動以帶動磁體70移動而對磁體70進行平移的位置調(diào)節(jié)處于不同的位置，進而提高靶材50的利用效率。
[0028]當需要調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離時，僅需通過位于磁體70的兩端的均磁調(diào)節(jié)組件20進行調(diào)節(jié)，即通過抵推螺栓22及回拉螺栓23 —推一拉的相互配合作用來定位磁體70兩端與靶材50的距離，即通過樞轉(zhuǎn)抵推螺栓22及回拉螺栓23來進行調(diào)節(jié)操作，且在頂推部24的頂推下，使得磁體70的中部朝靠近靶材50的方向彎曲，而此輪的兩端朝遠離靶材50的方向彎曲，以對磁體70兩端與靶材50的距離進行調(diào)整，從而使得靶材50所處區(qū)域的磁場分布更為均勻，使得在二極濺射中的二次電子的運動更為穩(wěn)定及分布更為均勻，進而使待鍍膜的基片的鍍膜分布更為均勻及鍍膜厚度更為一致。
[0029]與現(xiàn)有技術相比，由于本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構100的磁體70呈移動的設于安裝架60，磁體70位于加熱保溫板40的另一側且兩者呈間隔開的設置，磁體用調(diào)節(jié)機構100設于磁體70及安裝架60之間，磁體用調(diào)節(jié)機構100包括移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20，移磁調(diào)節(jié)組件10及均磁調(diào)節(jié)組件20均設于磁體70及安裝架60之間，通過移磁調(diào)節(jié)組件10驅(qū)使磁體70相對靶材50沿平行于靶材50的方向做平移調(diào)節(jié)操作，通過均磁調(diào)節(jié)組件20驅(qū)使磁體70彎曲以調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離。從而實現(xiàn)根據(jù)實際的使用需求對磁體70進行調(diào)節(jié)，一方面，通過移磁調(diào)節(jié)組件10驅(qū)使磁體70相對靶材50沿平行于靶材50的方向做平移調(diào)節(jié)，使得靶材50的每一處都能夠輪流處于磁體70的磁場作用范圍內(nèi)，從而大大增加了靶材50的利用率和濺射范圍，充分利用靶材50，同時大大提高了基片鍍膜的加工效率，且無需增大磁體70的體積，節(jié)約了磁控濺射鍍膜機200的制造成本；另一方面，通過均磁調(diào)節(jié)組件20驅(qū)使磁體70彎曲以調(diào)節(jié)磁體70兩端與靶材50的距離，從而使得靶材50所處區(qū)域的磁場分布更為均勻，使得在二極濺射中的二次電子的運動更為穩(wěn)定及分布更為均勻，進而使待鍍膜的基片的鍍膜分布更為均勻及鍍膜厚度更為一致，最終大大提高了基片的鍍膜質(zhì)量及合格率。且本發(fā)明的磁體用調(diào)節(jié)機構100還具有結構簡單、制造成本低及易維護的優(yōu)點。
[0030]以上所揭露的僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，當然不能以此來限定本發(fā)明之權利范圍，因此依本發(fā) 明權利要求所作的等同變化，仍屬于本發(fā)明所涵蓋的范圍。
【權利要求】
1.一種磁體用調(diào)節(jié)機構，適用于磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機包括鍍膜室、加熱保溫板、靶材、安裝架及呈板狀結構的磁體，所述加熱保溫板及靶材均設于所述鍍膜室內(nèi)，且所述靶材位于加熱保溫板的一側，所述安裝架安裝于鍍膜室的外部；其特征在于，所述磁體呈移動的設于所述安裝架，所述磁體位于所述加熱保溫板的另一側且兩者呈間隔開的設置，所述磁體用調(diào)節(jié)機構設于所述磁體及安裝架之間，所述磁體用調(diào)節(jié)機構包括移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件，所述移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均設于所述磁體及安裝架之間，通過所述移磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使所述磁體相對所述靶材沿平行于所述靶材的方向做平移調(diào)節(jié)操作，通過所述均磁調(diào)節(jié)組件驅(qū)使所述磁體彎曲以調(diào)節(jié)所述磁體兩端與所述靶材的距離。
2.如權利要求1所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述移磁調(diào)節(jié)組件包含主動齒輪及從動條形齒，所述主動齒輪樞接于所述安裝架，所述從動條形齒沿所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向安裝于所述磁體，且所述主動齒輪與所述從動條形齒嚙合配合。
3.如權利要求2所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述靶材及磁體均沿豎直方向設置，所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向呈水平方向設置。
4.如權利要求2所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述移磁調(diào)節(jié)組件還包含樞轉(zhuǎn)軸及操作件，所述樞轉(zhuǎn)軸樞接于所述安裝架，所述主動齒輪安裝于所述樞轉(zhuǎn)軸靠近所述磁體的一端，所述操作件安裝于所述樞轉(zhuǎn)軸遠離所述磁體的一端。
5.如權利要求4所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述安裝架上設有一樞接座，所述樞轉(zhuǎn)軸樞接于所述樞接座。
6.如權利要求2所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述磁體的兩端均設有所述均磁調(diào)節(jié)組件，所述均磁調(diào)節(jié)組件包含連接座、抵推螺栓及回拉螺栓，所述連接座連接于所述安裝架，所述抵推螺栓的一端螺紋連接于所述連接座，所述抵推螺栓的另一端抵觸于所述磁體，所述回拉螺栓的一端螺紋連接于所述磁體，所述回拉螺栓的另一端滑動貫穿所述連接座，所述連接座均位于所述磁體與所述回拉螺栓的螺帽之間，且所述連接座抵觸于所述回拉螺栓的螺帽；所述安裝架還連接有頂推部，所述頂推部朝靠近所述靶材的方向抵推于所述磁體，且所述頂推部位于所述磁體`的兩端的所述均磁調(diào)節(jié)組件之間。
7.如權利要求6所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述均磁調(diào)節(jié)組件還包含導向件，所述導向件沿所述磁體做平移調(diào)節(jié)的方向設于所述安裝架，所述連接座呈滑動連接于所述導向件。
8.如權利要求6所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述移磁調(diào)節(jié)組件位于所述磁體的兩端的所述均磁調(diào)節(jié)組件之間，且所述頂推部形成于所述移磁調(diào)節(jié)組件。
9.如權利要求8所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述頂推部形成于所述主動齒輪靠近于所述磁體的端部。
10.如權利要求1所述的磁體用調(diào)節(jié)機構，其特征在于，所述安裝架開設有一容置槽，所述移磁調(diào)節(jié)組件及均磁調(diào)節(jié)組件均位于所述容置槽內(nèi)。
【文檔編號】C23C14/54GK103849846SQ201410083058
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2014年3月7日 優(yōu)先權日:2014年3月7日
【發(fā)明者】盧秀強, 熊樹林, 李響 申請人:東莞鑫泰玻璃科技有限公司