薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法。所述薄膜沉積裝置包括：沉積源和角度限制板，該沉積源經(jīng)由噴射孔朝向基板噴射沉積蒸氣，該角度限制板被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設(shè)定范圍內(nèi)限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的角度。所述角度限制板包括相對(duì)于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對(duì)于所述噴射孔能移動(dòng)的能移動(dòng)限制板。
【專(zhuān)利說(shuō)明】薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2012年12月13日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的名稱(chēng)為“薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法”的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第10-2012-0145711號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其作為一個(gè)整體通過(guò)引用合并于此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]各實(shí)施例涉及一種薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的薄膜沉積方法。
【背景技術(shù)】
[0004]薄膜制造過(guò)程可被用于形成例如作為有機(jī)發(fā)光顯示器件的封裝體的薄膜。沉積方法可包括產(chǎn)生沉積源的蒸氣，從而使沉積源的材料被附著到基板的表面上。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]各實(shí)施例的目的在于一種薄膜沉積裝置，包括:沉積源和角度限制板，該沉積源經(jīng)由噴射孔朝向基板噴射沉積蒸氣，該角度限制板被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設(shè)定范圍內(nèi)限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的角度。所述角度限制板可包括相對(duì)于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對(duì)于所述噴射孔能移動(dòng)的能移動(dòng)限制板。
[0006]所述固定限制板和所述能移動(dòng)限制板均可被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設(shè)定范圍內(nèi)限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的所述角度，并且所述能移動(dòng)限制板可被布置為能夠相對(duì)于所述固定限制板滑動(dòng)。
[0007]所述能移動(dòng)限制板·可被滑動(dòng)地布置在所述固定限制板的內(nèi)壁上。
[0008]所述能移動(dòng)限制板可包括能夠獨(dú)立滑動(dòng)的多個(gè)能移動(dòng)限制板。
[0009]所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板可被布置為，使由所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板形成的開(kāi)口的尺寸根據(jù)所設(shè)定的噴射角向外增大。
[0010]所述裝置可進(jìn)一步包括驅(qū)動(dòng)所述能移動(dòng)限制板的致動(dòng)器。
[0011]各實(shí)施例目的還在于一種沉積薄膜的方法，該方法包括:提供角度限制板，該角度限制板被布置在沉積源的噴射孔附近，以便將噴射沉積蒸氣的角度限制到設(shè)定范圍內(nèi)的角度，所述角度限制板包括相對(duì)于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對(duì)于所述噴射孔能移動(dòng)的能移動(dòng)限制板；以通過(guò)使用所述能移動(dòng)限制板限制的噴射角執(zhí)行第一沉積；重新定位所述能移動(dòng)限制板，以便從用于限制所述噴射角的位置移出；以及以通過(guò)使用所述固定限制板限制的所述噴射角執(zhí)行第二沉積。
[0012]通過(guò)沿所述固定限制板的內(nèi)壁滑動(dòng)所述能移動(dòng)限制板，所述能移動(dòng)限制板可被移動(dòng)。
[0013]所述能移動(dòng)限制板可包括能夠獨(dú)立滑動(dòng)的多個(gè)能移動(dòng)限制板。
[0014]所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板可被布置使得為，由所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板形成的開(kāi)口的尺寸根據(jù)所設(shè)定的噴射角向外增大，并且自最內(nèi)部的能移動(dòng)限制板開(kāi)始，通過(guò)依次使用所述最內(nèi)部的能移動(dòng)限制板至所述固定限制板執(zhí)行所述噴射角的限制，所述固定限制板位于最外部。
[0015]通過(guò)使用致動(dòng)器可移動(dòng)所述能移動(dòng)限制板。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0016]通過(guò)參照附圖詳細(xì)描述各示例實(shí)施例，各特征對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員將變得明顯，其中:
[0017]圖1為根據(jù)示例實(shí)施例的薄膜沉積裝置的剖視圖；
[0018]圖2為顯示圖1所示薄膜沉積裝置中的能移動(dòng)限制板的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的示意圖；以及
[0019]圖3A至圖3C為顯示使用圖1所示薄膜沉積裝置的實(shí)例的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]在下文中現(xiàn)在將參照附圖更充分地描述各示例實(shí)施例；然而，這些示例實(shí)施例可以不同的形式實(shí)施，并且不應(yīng)該被認(rèn)為限于在此提出的實(shí)施例。相反，這些實(shí)施例被提供以使本公開(kāi)將為全面和完整的，并且將這些示例實(shí)施例的范圍充分地傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。
[0021]在附圖中，各尺寸為例示清楚可被夸大。將會(huì)理解，當(dāng)元件被提及為在另一元件“上”時(shí)，其可直接在另一元件上，或者也可存在一個(gè)或更多中間元件。還將理解，當(dāng)元件被提及為在另一元件“下方 ”時(shí)，其可直接在下方，或者也可存在一個(gè)或更多中間元件。還將理解，當(dāng)元件被提及為在兩個(gè)元件“之間”時(shí)，其可為這兩個(gè)元件之間的唯一元件，或者還可存在一個(gè)或更多中間元件。相似的附圖標(biāo)記始終指代相似的元件。
[0022]圖1為根據(jù)示例實(shí)施例的薄膜沉積裝置的剖視圖，圖2為顯示下面描述的能移動(dòng)限制板320的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的示意圖。
[0023]在圖1和圖2所示的示例實(shí)施例中，薄膜沉積裝置包括室100和沉積源200，基板10 (沉積靶)被固定在室100內(nèi)，沉積源200于室100內(nèi)在基板10下方掃描移動(dòng)并噴射沉積蒸氣。在沉積開(kāi)始時(shí)，沉積源200噴射沉積蒸氣，并且所噴射的沉積蒸氣被沉積到基板10上并形成薄膜。
[0024]在本示例實(shí)施例中，角度限制板300被布置為用于限制沉積蒸氣從沉積源200被噴射的角度的部件。因而，沉積蒸氣僅可通過(guò)由角度限制板300限制的開(kāi)口飛向基板10，由此限制沉積區(qū)域。
[0025]在本示例實(shí)施例中，角度限制板300包括固定限制板310和能移動(dòng)限制板320。固定限制板310相對(duì)于沉積源200的噴射孔201被固定地布置，并引導(dǎo)沉積源200的沉積蒸氣經(jīng)由固定限制板310限制的開(kāi)口朝向基板10運(yùn)動(dòng)。能移動(dòng)限制板320相對(duì)于沉積源200的噴射孔201被可移動(dòng)地布置。在本示例實(shí)施例中，能移動(dòng)限制板320包括可以多種狀態(tài)布置的第一能移動(dòng)限制板和第二能移動(dòng)限制板，例如，第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322被布置成分別相對(duì)于固定限制板310滑動(dòng)。
[0026]參見(jiàn)圖2，將在下面詳細(xì)描述能移動(dòng)限制板320。
[0027]在本示例實(shí)施例中，能移動(dòng)限制板320包括第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322，第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322中的每一個(gè)被布置成能夠沿著形成在固定限制板310中的引導(dǎo)槽311滑動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中，能移動(dòng)限制板320可被滑動(dòng)地布置在固定限制板310的內(nèi)壁上。在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)沿固定限制板310的內(nèi)壁滑動(dòng)能移動(dòng)限制板320，能移動(dòng)限制板320可被移動(dòng)。
[0028]致動(dòng)器410和420被分別連接到第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322，因而第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322可被驅(qū)動(dòng)，以便相對(duì)于彼此獨(dú)立滑動(dòng)。
[0029]如圖1和圖2所示，第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322以及固定限制板310形成一種結(jié)構(gòu)，其中由第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322以及固定限制板310形成的開(kāi)口向內(nèi)變得更小。換言之，由最內(nèi)部的第一能移動(dòng)限制板321形成的開(kāi)口是最小的開(kāi)口，由第二能移動(dòng)限制板322和固定限制板310形成的開(kāi)口以敘述的順序向外變得更大。該結(jié)構(gòu)將根據(jù)沉積角向外增大開(kāi)口的尺寸，以便使所限制的角度保持恒定。第一能移動(dòng)限制板和第二能移動(dòng)限制板以及固定限制板具有朝向開(kāi)口凸出的邊緣，并且由最內(nèi)部的第一能移動(dòng)限制板的邊緣形成的開(kāi)口是最小的開(kāi)口，由第二能移動(dòng)限制板322的邊緣和固定限制板310的邊緣形成的開(kāi)口以敘述的順序向外變得更大。
[0030]具有上述結(jié)構(gòu)的薄膜沉積裝置可如圖3A至圖3C所示那樣被操作。
[0031]首先，基板10被安裝在室100內(nèi)，以便執(zhí)行沉積過(guò)程。
[0032]其次，當(dāng)基板10被安裝時(shí)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)沉積源200起動(dòng)主沉積過(guò)程。
[0033]如圖3A所示，當(dāng)?shù)谝荒芤苿?dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322以及固定限制板310被布置為彼此最接近(例如，它們彼此緊密接觸)時(shí)，也就是說(shuō)，當(dāng)?shù)谝荒芤苿?dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322均被升高時(shí)，開(kāi)始起動(dòng)沉積。此時(shí)，最內(nèi)部的第一能移動(dòng)限制板321限制沉積角。如圖3A所示，因?yàn)橛傻谝荒芤苿?dòng)限制板321的凸出邊緣形成的開(kāi)口是最小的開(kāi)口，所以從沉積源200的噴射孔201噴射的沉積蒸氣被第一能移動(dòng)限制板321限制。結(jié)果，沉積蒸氣在由第一能移動(dòng)限制板321限制的角度內(nèi)向基板10噴射。
[0034]隨著重復(fù)執(zhí)行沉積，沉積蒸氣也附著到第一能移動(dòng)限制板321的端部，因而開(kāi)口的直徑逐漸改變。因此，在執(zhí)行沉積足夠次數(shù)之后，角度限制的任務(wù)被移交給另一能移動(dòng)限制板320。為此目的，如圖3B所示，連接到第一能移動(dòng)限制板321的致動(dòng)器410被驅(qū)動(dòng)，由此使第一能移動(dòng)限制板321自動(dòng)下降。結(jié)果，第一能移動(dòng)限制板321從第一能移動(dòng)限制板321限制沉積角的位置移出，并且第二能移動(dòng)限制板322接替。因此，可在沉積限制角被幾乎恒定地保持的同時(shí)重新開(kāi)始沉積。
[0035]當(dāng)沉積蒸氣隨著時(shí)間的推移被附著到第二能移動(dòng)限制板322的端部時(shí)，固定限制板310接替以限制沉積角。為此目的，如圖3C所示，連接到第二能移動(dòng)限制板322的致動(dòng)器420被驅(qū)動(dòng)，由此使第二能移動(dòng)限制板322自動(dòng)下降。結(jié)果，第二能移動(dòng)限制板322從第二能移動(dòng)限制板322限制沉積角的位置移出，并且固定限制板310接替。因此，可在沉積限制角被幾乎恒定地保持的同時(shí)重新開(kāi)始沉積。
[0036]當(dāng)如上所述依次執(zhí)行沉積角限制時(shí)，可在沉積角被幾乎恒定地保持的同時(shí)執(zhí)行沉積，因而可非常穩(wěn)定和均勻地執(zhí)行沉積。
[0037] 盡管本示例實(shí)施例顯示兩個(gè)能移動(dòng)限制板(第一能移動(dòng)限制板321和第二能移動(dòng)限制板322)構(gòu)成能移動(dòng)限制板320的結(jié)構(gòu)，但是可布置多于兩個(gè)的能移動(dòng)限制板。
[0038]作為總結(jié)和回顧，通過(guò)將角度限制板附接在沉積源附近來(lái)限制沉積角的方法可被用于適當(dāng)?shù)叵拗瞥练e在基板上的區(qū)域。因而，通過(guò)將角度限制板安裝在沉積源的蒸氣孔周?chē)?，?lái)自沉積源的蒸氣可被限制，從而可僅在期望區(qū)域執(zhí)行沉積。隨著沉積被重復(fù)執(zhí)行，沉積源的蒸氣可附著到角度限制板。在這種情況下，沉積角可能逐漸偏離初始設(shè)定的沉積角。這可導(dǎo)致從一個(gè)區(qū)域至另一個(gè)區(qū)域的不期望的沉積變化。
[0039]如上所述，各實(shí)施例涉及一種薄膜沉積裝置，該薄膜沉積裝置產(chǎn)生沉積源的蒸氣，以便將來(lái)自沉積源的材料沉積到基板上，更具體而言，各實(shí)施例涉及以受限制的沉積角形成薄膜的薄膜沉積裝置以及使用該薄膜沉積裝置的方法。各實(shí)施例可提供增強(qiáng)的薄膜沉積裝置，該增強(qiáng)的薄膜沉積裝置被構(gòu)造為提供基本恒定的沉積角，使由角度限制板限定的沉積區(qū)域基本恒定。根據(jù)實(shí)施例的薄膜沉積裝置可有助于快速和有效地控制由角度限制板限定的沉積區(qū)域，從而使沉積區(qū)域隨著時(shí)間的推移基本保持恒定，以便提供穩(wěn)定和均勻薄膜沉積的方法。
[0040]已在此公開(kāi)了各示例實(shí)施例，盡管采用了具體術(shù)語(yǔ)，但是它們僅在廣義和描述性的意義上并且不用于限制的目的被使用和將要進(jìn)行解釋。在一些情況下，從遞交本申請(qǐng)起對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見(jiàn)的是，除非以任何方式明確指出，結(jié)合特定實(shí)施例描述的各特征、各特性和/或各元件可單獨(dú)使用，或與結(jié)合其它實(shí)施例描述的各特征、各特性和/或各元件組合使用。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，在不偏離如所附權(quán)利要求書(shū)中提出的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，·可做出形式上和細(xì)節(jié)上的各種改變。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜沉積裝置，包括: 沉積源，該沉積源經(jīng)由噴射孔朝向基板噴射沉積蒸氣；和 角度限制板，該角度限制板被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設(shè)定范圍內(nèi)限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的角度， 其中所述角度限制板包括相對(duì)于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對(duì)于所述噴射孔能移動(dòng)的能移動(dòng)限制板。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜沉積裝置，其中: 所述固定限制板和所述能移動(dòng)限制板均被布置為鄰近所述噴射孔，以便在設(shè)定范圍內(nèi)限制從所述噴射孔噴射所述沉積蒸氣的所述角度，并且 所述能移動(dòng)限制板被布置為能夠相對(duì)于所述固定限制板滑動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的薄膜沉積裝置，其中所述能移動(dòng)限制板被滑動(dòng)地布置在所述固定限制板的內(nèi)壁上。
4.如權(quán)利要求3所述的薄膜沉積裝置，其中所述能移動(dòng)限制板包括能夠獨(dú)立滑動(dòng)的多個(gè)能移動(dòng)限制板。
5.如權(quán)利要求4所述的薄膜沉積裝置，其中所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板被布置為，使由所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板形成的開(kāi)口的尺寸根據(jù)所設(shè)定的噴射角向外增大。
6.如權(quán)利要求1所述的薄膜沉積裝置，進(jìn)一步包括驅(qū)動(dòng)所述能移動(dòng)限制板的致動(dòng)器。
7.—種沉積薄膜的 方法,該方法包括: 提供角度限制板，該角度限制板被布置在沉積源的噴射孔附近，以便將噴射沉積蒸氣的角度限制到設(shè)定范圍內(nèi)的角度，所述角度限制板包括相對(duì)于所述噴射孔被固定的固定限制板和相對(duì)于所述噴射孔能移動(dòng)的能移動(dòng)限制板； 以通過(guò)使用所述能移動(dòng)限制板限制的噴射角執(zhí)行第一沉積； 重新定位所述能移動(dòng)限制板，以便從用于限制所述噴射角的位置移出；以及 以通過(guò)使用所述固定限制板限制的所述噴射角執(zhí)行第二沉積。
8.如權(quán)利要求7所述的沉積薄膜的方法，其中，通過(guò)沿所述固定限制板的內(nèi)壁滑動(dòng)所述能移動(dòng)限制板，所述能移動(dòng)限制板被移動(dòng)。
9.如權(quán)利要求8所述的沉積薄膜的方法，其中所述能移動(dòng)限制板包括能夠獨(dú)立滑動(dòng)的多個(gè)能移動(dòng)限制板。
10.如權(quán)利要求9所述的沉積薄膜的方法，其中: 所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板被布置為，使由所述多個(gè)能移動(dòng)限制板和所述固定限制板形成的開(kāi)口的尺寸根據(jù)所設(shè)定的噴射角向外增大，并且 自最內(nèi)部的能移動(dòng)限制板開(kāi)始，通過(guò)依次使用所述最內(nèi)部的能移動(dòng)限制板至所述固定限制板執(zhí)行所述噴射角的限制，所述固定限制板位于最外部。
11.如權(quán)利要求7所述的沉積薄膜的方法，其中通過(guò)使用致動(dòng)器移動(dòng)所述能移動(dòng)限制板。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK103866237SQ201310246571
【公開(kāi)日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2013年6月20日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月13日
【發(fā)明者】姜聲鐘 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司