電子器件的芯部件的去毛刺處理方法及其裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供大量地、一次性地、可靠地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺的方法及其裝置。是去除具備多個凸緣的由塊狀陶瓷構成的芯部件的、產(chǎn)生在所述多個凸緣的間隙的凸狀的毛刺的去毛刺處理方法。首先，將多個芯部件投入到一端具有開口部而另一端封閉的帶底的筒狀的滾筒中。繼而，旋轉滾筒，攪拌多個芯部件。然后穿過開口部，朝向至少在芯部件的多個凸緣的間隙產(chǎn)生的凸部的毛刺，噴射混合有比凸緣的間隙小的噴射材料的氣體的噴流。之后，將噴射材料從設置于該滾筒的壁面的貫通孔向滾筒的外部排出。
【專利說明】電子器件的芯部件的去毛刺處理方法及其裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及對電容器、電感器、半導體1C、傳感器器件等小電子器件的部件，大量地一次性地實施表面處理的方法及其裝置。更為具體地涉及電子器件的芯部件的去毛刺處理方法及其裝置。該電子器件中也包括片狀電阻、片狀電容器、片狀線圈等片式電子器件的部件。
【背景技術】
[0002]以往，在用于液晶顯示器等的便攜用DC-DC轉換器(電壓轉換設備)的器件的制造中，在造型后進行模具成型、去毛刺，卷繞繞組，在外裝部實施樹脂鑄型，附加外部電極。所述去毛刺是為了在下一道工序的卷繞繞組工序中使繞組不被殘留的毛刺切斷而實施的工序。
[0003]為了該去毛刺而對電子器件的芯部件的表面實施滾筒研磨是眾所周知的。但是，滾筒研磨是在旋轉滾筒內(nèi)投入被處理器件及介質(zhì)，有時還要投入水、磨料、以及輔助劑，使旋轉滾筒內(nèi)部處于流動狀態(tài)來實施被處理器件的表面處理。
[0004]但是，在滾筒研磨裝置中，在研磨結束后，需要以手工作業(yè)來對被處理器件與介質(zhì)進行區(qū)分等，存在無法大量地一次性地處理的問題。此外，使用水的情況下，存在需要研磨后的水處理設備的問題。而且還存在部件間隙小、無法去除毛刺的問題。
[0005]因此，考慮了采用噴丸裝置的方案。日本特開平11-347941號公報(專利文獻I)公開的方法發(fā)明是將在磁鐵表面具有表面處理被膜的永磁鐵，插入滾筒式噴丸機的回轉式噴丸筒部或者履帶式噴丸機的履帶式噴丸筒部，一邊使該噴丸筒部旋轉一邊向永磁鐵噴射鋼丸，來剝離磁鐵表面的表面處理被膜。
[0006]此外，專利文獻I的發(fā)明中，噴丸筒部的轉速為2?15rpm，鋼丸的平均粒度為0.18mm?0.50mm,鋼丸的平均硬度為40?50HRC，鋼丸相對于R-Fe-B類永磁鐵的投射角度為40。?90。，投射速度為50m/sec?80m/sec。
[0007]但是，若將專利文獻I所公開的使用筒式去毛刺的方法應用到多個小電子器件的部件，則部件會頻繁地或以強大的沖擊力彼此碰撞。由此會使被處理器件產(chǎn)生大量裂紋及缺損。
[0008]此外，專利文獻I所公開的鋼丸的平均粒度為0.18mm-0.50mm,并且鋼丸大于凸緣的間隙，因此鋼丸無法進入凸緣的間隙。由此存在無法去毛刺的問題。
[0009]進而，在日本特開2001-341075號公報(專利文獻2)的噴丸處理裝置中，因為使用了以網(wǎng)格形成的筒型滾筒，因此只能處理大于網(wǎng)格的部件。例如，專利文獻2的實施例1的網(wǎng)格的網(wǎng)眼是一邊為5.1mm的正方形，線徑為1.0mm,因此無法處理小于5mm見方的小部件。為了處理小電子器件的部件，還考慮過縮小網(wǎng)格的網(wǎng)眼，但存在噴射材料觸碰網(wǎng)格的概率增高而無法有效處理的問題。
[0010]此外，在專利文獻2的噴丸處理裝置中，每個投射噴嘴在圓筒形滾筒的長度方向上都具有適當?shù)臄[動角度。因此，為了對在長度方向長于投射范圍的直徑的圓筒滾筒內(nèi)的全部被處理物均勻且有效地投射噴射材料，使一個圓筒形滾筒具有多個投射噴嘴成為前提。否則，對超出投射范圍的部分的投射將不充分。
[0011]進而，專利文獻2的目的在于去除在永磁鐵表面生成的氧化層、清潔表面、用于表面處理被膜的噴丸硬化，而并未想到小電子器件的部件的去毛刺。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]因此，本發(fā)明的目的在于提供一種大量地、一次性地、可靠地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺的方法及其裝置。
[0013]為了達成本發(fā)明的目的，第一發(fā)明是去除具備多個凸緣和卷芯部的由塊狀陶瓷構成的芯部件的、產(chǎn)生在所述多個凸緣的間隙的凸狀的毛刺進行去除的去毛刺處理方法，該方法具備:
[0014]將多個芯部件投入到一端具有開口部而另一端封閉的帶底的筒狀的滾筒中的工序;
[0015]旋轉所述滾筒來攪拌所述多個芯部件的工序；
[0016]穿過所述開口部并朝向由所述塊狀陶瓷構成的芯部件的產(chǎn)生在多個凸緣的間隙的凸狀的毛刺，噴射混合有比所述凸緣的間隙小的噴射材料的氣體的噴流的工序；以及
[0017]將噴射出的噴射材料從設置于該滾筒的壁面的貫通孔向該滾筒的外部排出的工序。
[0018]根據(jù)本發(fā)明，能夠大量地、一次性地、可靠地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺。此外，向該滾筒內(nèi)部噴射的噴射材料在去毛刺后從設置于壁面的貫通孔向該滾筒外部被排出。
[0019]在第二發(fā)明中，所述噴射材料的比重為1.0?3.0，噴射材料的平均直徑為0.02?0.08mm，所述噴流的噴射壓力為0.03MPa以上且0.15MPa以下。
[0020]根據(jù)本發(fā)明，噴射材料的比重及平均直徑小，噴射壓力也低，因此不會在電子器件的部件產(chǎn)生裂紋、缺損。
[0021]在第三發(fā)明中，其特征在于，從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離在200mm以上且500mm以下。
[0022]根據(jù)本發(fā)明，噴射氣流的擴散不會過大，能夠有效地去毛刺。此外，不會在電子器件的部件產(chǎn)生裂紋、缺損。
[0023]在第四發(fā)明中，其特征在于，以在由所述塊狀陶瓷構成的芯部件的位置處的、混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴射范圍中的噴射中心與噴射外周部的轉速差在32mm/s以上且64mm/s以下的方式，翻滾芯部件。
[0024]根據(jù)本發(fā)明，不會因為芯部件彼此碰撞而產(chǎn)生裂紋、缺損。另一方面，能夠有效地去毛刺。
[0025]在第五發(fā)明中，根據(jù)技術方案I所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于，噴射材料的硬度為HV1000?2500。
[0026]根據(jù)本發(fā)明，能夠有效地對塊狀陶瓷的芯部件去毛刺。
[0027]在第六發(fā)明中，其特征在于，由所述塊狀陶瓷構成的芯部件是凸緣的間隙為0.3mm?0.8_、且在造型成型后進行燒制而制造的電子器件的電感器部件或線圈部件，為多邊形形狀，由氧化鋁或碳化硅構成，對于噴射材料而言噴射平均直徑為0.02?0.08mm的噴射材料。
[0028]根據(jù)本發(fā)明，能夠噴射對電子器件的電感器部件或線圈部件的凸緣的間隙噴射大小適當?shù)膰娚洳牧希軌蛴行ッ獭?br> [0029]在第七發(fā)明中，其特征在于，所述噴射材料的噴射量為0.2?0.8Kg/分鐘,從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離在20Ctam以上且30Ctam以下。
[0030]根據(jù)本發(fā)明，能夠更加有效且良好地對由塊狀陶瓷構成的芯部件去毛刺。
[0031]此外，本發(fā)明的第八發(fā)明是芯部件的去毛刺處理方法所使用的去毛刺裝置，其特征在于，具備所述多個滾筒、使所述多個滾筒旋轉的至少一個以上的旋轉機構、以及噴射混合有噴射材料的氣體的噴流的多個噴嘴組件，在形成所述滾筒的外周的壁面設置有多個貫通孔，在所述筒狀的內(nèi)壁設置有攪拌促進部件。
[0032]根據(jù)本發(fā)明，能夠大量地、一次性地、可靠地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺。
[0033]進而，在本發(fā)明的第九發(fā)明中，所述噴嘴組件與所述滾筒的開口部對置，所述噴射材料的噴射是朝向從所述滾筒的開口部投入到所述帶底的筒狀的滾筒中的所述多個芯部件的、產(chǎn)生在多個凸緣的間隙的凸部的毛刺進行的。
[0034]根據(jù)本發(fā)明，能夠大量地、一次性地、可靠地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺。
[0035]進而，在本發(fā)明的第十發(fā)明中，其特征在于，所述滾筒以20°?40°的角度傾斜設置。
[0036]根據(jù)本發(fā)明，使?jié)L筒以20°?40°的角度傾斜旋轉，由此能夠有效地攪拌該滾筒內(nèi)的被處理器件。即，根據(jù)本發(fā)明，能夠更加可靠地、大量地、一次性地且無部件裂紋缺損地去除小電子器件的部件的毛刺。
[0037]此外，在本發(fā)明的第十一發(fā)明中，其特征在于，根據(jù)第十發(fā)明，所述滾筒為上部具有開口部的多邊形的箱狀物或帶底的圓筒狀物。
[0038]根據(jù)本發(fā)明，能夠通過滾筒的旋轉容易地攪拌多個芯部件，并有效地去毛刺。
[0039]在本發(fā)明的第十二發(fā)明中，其特征在于，通過使所述噴嘴組件在噴射噴射材料時能夠移動的噴嘴組件設置部件，將從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離控制在規(guī)定范圍內(nèi)。
[0040]根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)漠a(chǎn)生混合有噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離進行控制，因此能夠以最佳噴射強度去毛刺。此外，在噴射強度過強的情況下，還能夠加長噴射距離。
[0041 ] 在本發(fā)明的第十三發(fā)明中，其特征在于，通過所述噴嘴組件設置部件，在噴射結束后移動所述噴嘴組件，更換滾筒。
[0042]根據(jù)本發(fā)明，在更換滾筒時，通過噴嘴組件設置單元使噴嘴組件的位置移動，由此無需拆除噴嘴組件就能容易地更換該滾筒。
[0043]此外，因為更換滾筒，因此能夠加快換產(chǎn)調(diào)整時間。即，能夠用未實施處理的滾筒為下一批次的處理做準備。[0044]在本發(fā)明的第十四發(fā)明中，其特征在于，所述噴嘴組件具備:空氣噴嘴，其將壓縮空氣導入所述噴嘴保持件內(nèi)部，使所述噴嘴保持件內(nèi)部產(chǎn)生負壓；噴嘴保持件，其具有供由在所述噴嘴組件的內(nèi)部產(chǎn)生的負壓吸引的噴射材料通過的路徑、和在所述壓縮空氣中混合噴射材料的混合室；以及噴射噴嘴，其用于將在所述混合室混合的壓縮空氣與噴射材料向所述芯部件噴射，所述噴嘴保持件與所述空氣噴嘴之間的連接部、以及所述噴嘴保持件與所述噴射噴嘴之間的連接部這兩者中的至少一方具有密封部件。
[0045]根據(jù)本發(fā)明，與將噴射材料投入加壓箱、通過對加壓箱內(nèi)加壓來將噴射材料輸送到噴嘴組件的方式(所謂加壓式)不同，不需要大型的附帶設備，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置整體的小型化。此外，通過在所述噴嘴保持件與所述空氣噴嘴之間的連接部、以及所述噴嘴保持件與所述噴射噴嘴之間的連接部這兩者中的至少一方設置密封部件，能夠穩(wěn)定噴射材料的噴射量。
[0046]本申請基于在日本于2012年I月12日申請的日本特愿2012-004284號，并引用其內(nèi)容作為本申請內(nèi)容的一部分。
[0047]此外，本發(fā)明能夠基于以下的詳細說明更加完整地理解。但是，詳細說明以及特定的實施例為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，僅為說明這一目的而記載。因為根據(jù)該詳細說明，各種變更、改變對于本領域的技術人員而言是顯而易見的。
[0048] 申請人:無意將所述實施方式中任一個呈現(xiàn)給公眾，所公開的變更、替代方案中或有在文字表達上未包含于權利要求書的，基于等同原則亦屬發(fā)明的一部分。
[0049]在本說明書或權利要求書的記載中，對名詞以及同樣的指示語的使用只要沒有特別指示或者基于文脈明確予以否定，就應解釋為包含單數(shù)及復數(shù)兩者。本說明書中所提供的任一示例或者示例性用語(例如，“等”)的使用也僅是為了便于說明本發(fā)明，只要權利要求書中未特別記載，即不對本發(fā)明的范圍增加限制。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0050]圖1是概略表示本發(fā)明的去毛刺裝置的構成的主視圖及側視圖。
[0051]圖2是表示圖1的去毛刺裝置的噴丸加工室的內(nèi)部構成的說明圖。
[0052]圖3是表示在圖1的去毛刺裝置中將滾筒設置于旋轉機構的方法的說明圖。
[0053]圖4是表示圖1的去毛刺裝置中驅(qū)動傳遞部件的設置方法的說明圖。
[0054]圖5是表示可用于本發(fā)明的去毛刺裝置的具有圓形縱截面的滾筒的一例的說明圖。圖5㈧是滾筒的側視圖，圖5⑶是圖5 (A)的B-B線剖面圖，圖5 (C)是圖5 (A)的滾筒的立體圖。
[0055]圖6是表示可用于本發(fā)明的去毛刺裝置的具有多邊形縱截面的滾筒的一例的說明圖。圖6(A)是滾筒的側視圖，圖6(B)是圖6(A)的B方向向視圖，圖6(C)是圖6(A)的C-C線剖面圖。
[0056]圖7是表示圖1的去毛刺裝置的噴嘴組件的說明圖。
[0057]圖8是表示圖7的噴嘴組件的噴射噴嘴的截面形狀的剖面圖。
[0058]圖9是表示可用于本發(fā)明的去毛刺裝置的噴嘴組件設置部件的說明圖。圖9(A)是表示噴嘴組件設置部件的驅(qū)動例的說明圖，圖9(B)是表示該設置部件的構成的一例的說明圖。[0059]圖10是表示圖1的去毛刺裝置的分級裝置的說明圖。圖10(A)是分級裝置的側視圖，圖10⑶是圖10(A)的B方向向視圖，圖10(C)是圖10(B)的C-C線剖面圖，圖10(D)是圖10(A)的D-D線剖面圖。
[0060]圖11是表示圖1的去毛刺裝置的儲留器的側視圖。
[0061]圖12是表示圖1的去毛刺裝置的回收裝置的說明圖。
[0062]圖13是表示本發(fā)明的去毛刺裝置的實施例的參考圖。圖13(A)是表示用于通過機械動力實施門的開閉的去毛刺裝置的外觀圖，圖13(B)是表示用于通過人力實施門的開閉的去毛刺裝置的外觀圖。
【具體實施方式】
[0063]參照附圖來說明本發(fā)明的去毛刺方法的實施方式的一例。另外，本發(fā)明并不限于本實施方式的構成，能夠根據(jù)需要而適當變更。
[0064]圖1是表示本發(fā)明的噴丸加工裝置I的主視圖(圖1右側)及左視圖(圖1左側)。如圖1所示，噴丸加工裝置I由具備用于投入及排出被處理器件W的門IOa的噴丸加工室10、以及回收裝置(回收單元)30構成，它們設置于移動部件、例如具有輥51的基臺50上。此外，與用于儲留噴射材料的儲留器(儲留單元)21連接的分級裝置(分離單元)20，連接于噴丸加工室10。
[0065]如圖2所示，在噴丸加工室10內(nèi)設置有空心的滾筒11、旋轉機構(旋轉單元)12、噴嘴組件13以及噴嘴組件設置部件(噴嘴組件設置單元)14。滾筒11的設置臺數(shù)能夠基于被處理器件W的加工量任意設定。在本實施方式中，設置了 4臺滾筒11。滾筒11為上部具有開口部的多邊形箱狀體或帶底的圓筒體，詳情后述。
[0066]如圖3所示，滾筒11被插入滾筒保持件Ila并被保持。為了將所插入的滾筒11保持于滾筒保持件Ila內(nèi)，可以使用螺栓等，亦可以在兩者設置螺紋部等卡合單元，不特別限制其方式。在本實施方式中采用如下結構，在滾筒保持件Ila形成凸狀的鉤(未圖示)，使?jié)L筒11的外壁與該鉤卡合，由此能夠以一次操作來拆裝。在滾筒保持件Ila的底面中心具有旋轉軸11b，在該旋轉軸Ilb安裝有第一驅(qū)動傳遞件11c。在本實施方式中，使用鏈輪作為第一驅(qū)動傳遞件11c。
[0067]旋轉機構(旋轉單元)12構成為具備馬達(旋轉產(chǎn)生單元)12a與基座12d。在本實施方式中，如圖3所示針對每臺滾筒保持件Ila的旋轉軸Ilb在旋轉機構(旋轉單元)12設置2臺軸承12e，經(jīng)由該軸承12e將保持有滾筒11的所述滾筒保持件Ila保持于旋轉機構(旋轉單元)12。此外，在本實施方式中，僅使用I臺馬達12a，該馬達12a設置于基座12d。
[0068]如圖4所示，在馬達(旋轉產(chǎn)生單元)12a的旋轉軸12b安裝有第二驅(qū)動傳遞件12c。第二驅(qū)動傳遞件12c的形狀設為與第一驅(qū)動傳遞件Ilc同步動作。例如，如本實施方式所示，在第一驅(qū)動傳遞件Ilc為鏈輪的情況下，第二驅(qū)動傳遞件12c為其齒的高度及齒與齒的間隔與第一驅(qū)動傳遞件Ilc相同的鏈輪。
[0069]或者在使用帶輪(未圖示)作為第一驅(qū)動傳遞件Ilc的情況下，第二驅(qū)動傳遞件12c為與第一驅(qū)動傳遞件Ilc的槽的形狀以及槽的深度相同的帶輪。
[0070]于是，在本實施方式中，第二驅(qū)動傳遞件12c使用了與第一驅(qū)動傳遞件Ilc的鏈輪的齒的高度及齒與齒的間距相同的鏈輪。
[0071 ] 為了將馬達(驅(qū)動傳遞單元)12a的旋轉力傳遞給全部滾筒11，而通過驅(qū)動傳遞部件12f使第二驅(qū)動傳遞件12c及全部第一驅(qū)動傳遞件Ilc相連結。
[0072]在本實施方式中，使用鏈條作為驅(qū)動傳遞部件12f，該鏈條12f被連接為，將馬達(旋轉產(chǎn)生單元)12a的旋轉軸12b的鏈輪(第二驅(qū)動傳遞件)12c的旋轉力傳遞給滾筒保持件Ila(圖4未圖示)的旋轉軸Ilb的鏈輪(第一驅(qū)動傳遞件)11c。因此，隨著馬達(驅(qū)動傳遞單元)12a的旋轉軸12b的旋轉,全部滾筒保持件Ila旋轉,進而全部滾筒11旋轉。
[0073]下面使用圖5及圖6說明滾筒11的形狀。滾筒11實質(zhì)上為空心體，其上端具有用于投入及排出被處理器件W、以及向被處理器件W噴射噴射材料的開口部lld，底端封閉。在形成該滾筒11的外周的壁面有多個貫通孔lli。去毛刺時，使?jié)L筒11旋轉，這是為了使投入到滾筒內(nèi)部的多個被處理器件W以流動狀態(tài)進行攪拌。即，通過使全部被處理器件W出現(xiàn)于開口部側而不滯留于滾筒11的底部、壁部，由此對全部被處理器件W去毛刺。為了有效地實施該攪拌，優(yōu)選滾筒11的與所述開口部Ild平行的截面形狀為多邊形或者圓形。在圓形截面的情況下，優(yōu)選在滾筒11的內(nèi)壁設置攪拌促進部件lle(參見圖5)。攪拌促進部件Ile可以是在內(nèi)表面突起的板或棒狀部件等、促進滾筒11內(nèi)的被處理器件W的攪拌的公知結構。
[0074]進而，不限于與滾筒11的所述開口部Ild平行的截面形狀，為防止被處理器件W滯留于滾筒11的底部，優(yōu)選在滾筒11的底部附近設置朝向底部而滾筒11的內(nèi)徑(截面積)連續(xù)縮小的攪拌促進面llh。根據(jù)實驗，該攪拌促進面Ilh的傾斜角度01在115°?135°的范圍內(nèi)效果顯著。此外，貫通孔Ili是以噴射材料不滯留在滾筒內(nèi)部的方式設置的，其直徑為能供噴射材料通過但被處理器件不能從該貫通孔漏出的大小。
[0075]進而，若更有效地實施所述攪拌，則噴射中的被處理器件W從滾筒11漏出，因此可以在滾筒11的開口部Ild的內(nèi)表面部安裝凸部形狀的環(huán)llj。在內(nèi)表面突出的凸部的高度(Ilk)優(yōu)選為不妨礙噴射材料從開口部進入的更優(yōu)選為3_6mm。
[0076]進而，通過傾斜設置滾筒11，更加有效地實施所述攪拌。為了該目的的滾筒11的傾斜角度Θ (參照圖2)根據(jù)試驗優(yōu)選20°?40°的范圍，更優(yōu)選27°?32°的范圍。此時，為了不因滾筒11的傾斜而導致去毛刺中被處理器件W從滾筒11向外部漏出，優(yōu)選在滾筒11的開口部附近設置朝向開口部Ild而直徑(截面積)連續(xù)縮小的防漏出面Hf。但是，在設置了相對于滾筒11的側壁面Ilg成大致90°的防漏出面Ilf的情況下，無論噴嘴組件13的設置角度為多少，都無法向滾筒11的側壁面Ilg與該防漏出面Ilf所成的轉角處的被處理器件W噴射噴射材料。為了不使被處理器件向滾筒11外部漏出，且不對去毛刺造成影響，防漏出面Ilf與滾筒11的側壁面Ilg所成角度02根據(jù)試驗優(yōu)選為115°?135°的范圍。
[0077]本實施方式所使用的空心且底部密封的滾筒11，如圖6所示，與所述開口部I Id平行的截面形狀為八邊形，具有所述傾斜角度Q1S 118°的攪拌促進面Ilh以及所述傾斜角度02為132°的防漏出面Ilf。
[0078]經(jīng)由滾筒保持件Ila保持并旋轉該滾筒11的旋轉機構12配置為該滾筒11的傾斜角度Θ如前所述為30°。
[0079]下面參照圖7，說明用于去毛刺的噴嘴組件13。噴嘴組件13由噴嘴保持件13a、空氣噴嘴13b以及噴射噴嘴13c構成。噴嘴保持件13a具有用于投入噴射材料的噴射材料供給口 13d，此外，噴嘴保持件13a的內(nèi)部還具有供從噴射材料供給口 13d導入的噴射材料通過的路徑13e與混合室13f。在混合室13f中，經(jīng)由空氣噴嘴13b導入的壓縮空氣與從路徑13e到來的所述噴射材料混合。
[0080]空氣噴嘴13b在一端具有用于噴射壓縮空氣的壓縮空氣噴射口 13b。，且為朝向該噴射口 13b。而內(nèi)徑變細的圓筒形狀。該空氣噴嘴13b以使與所述壓縮空氣噴射口 13b。對置的壓縮空氣供給口 Ubi側從噴嘴保持件13a的基端突出的方式被插入噴嘴保持件13a。噴嘴保持件13a的基端(壓縮空氣的導入側)通過空氣噴嘴13b的供給口 Ubi并經(jīng)由軟管(未圖示)與壓縮空氣供給源(未圖示)連通。從壓縮空氣供給源導入的壓縮空氣被噴射到噴嘴保持件13a內(nèi)。此時，在噴嘴保持件13a的內(nèi)部產(chǎn)生負壓。利用該負壓，將噴射材料從噴射材料供給口 13d吸引并導入到噴嘴保持件13a的內(nèi)部。從噴射材料供給口 13d導入的噴射材料通過噴射材料通過路徑13e而被引向混合室13f，與被引導至噴嘴保持件13a內(nèi)的壓縮空氣混合。在本實施方式中，噴射材料供給口 13d，如后所述，經(jīng)由軟管H2與儲留器21連通，對儲留于進行儲留的儲留器21內(nèi)部的噴射材料進行吸引。
[0081]噴射噴嘴13c為兩端開放的空心結構，壓縮空氣與噴射材料的固氣二相流的供給口 Oci側的截面積SUci大于其相反側的固氣二相流的噴射口 13c。側的截面積S13c。。所述供給口 13Ci及所述噴射口 13c。的截面形狀可以是圓形、包括長方形在內(nèi)的多邊形中的任一種。在本實施方式中，將所述供給口 13Ci及所述噴射口 13c。的截面形狀設置為圓形。噴射噴嘴13c被設置為，使空氣噴嘴13b的長度方向的中心線與連接噴射噴嘴13c的供給口13(^及噴射口 13c。的中心點而成的中心線位于大致同一線上，且使所述混合室13f與所述供給口 13Ci連通。在所述混合室13f產(chǎn)生的固氣二相流從所述供給口 13Ci通過噴射噴嘴13c的內(nèi)部，由所述噴射口 13c。噴射。
[0082]此外，優(yōu)選在噴嘴保持件13a與空氣噴嘴13b之間的連接部、以及噴嘴保持件13a與噴射噴嘴13c之間的連接部這兩者中的至少一方設置密封部件13g，更優(yōu)選在雙方設置密封部件13g。如果導入到噴嘴保持件13a的內(nèi)部的壓縮空氣從所述連接部的間隙漏出，則在噴嘴保持件13內(nèi)部產(chǎn)生的負壓減小，噴射材料的吸引力降低，但該降低能夠通過設置該密封部件13g來抑制。在本實施方式中，在空氣噴嘴13b以及噴射噴嘴13c的外周設置槽，在該槽嵌入O形環(huán)來作為密封部件13g。
[0083]另外，在空氣噴嘴13b以及噴射噴嘴13c，從各供給口 Ubi或者13Ci向各噴射口13b?；蛘?3c。而內(nèi)徑變細的形狀，可以選擇如下形狀中的任一個:連續(xù)變細的形狀(參見圖8(C))、階段性變細的形狀、包括以同一直徑連續(xù)的空間的形狀(參見圖8(B))、連續(xù)或者階段性地變細后變粗的形狀(參見圖8(D))、或者將上述形狀組合的形狀(例如在連續(xù)變細后以同一直徑連續(xù)的形狀(參見圖8(A))。
[0084]在本實施方式中，設置了 4臺滾筒11，因此設置了 4個噴嘴組件13。噴嘴組件13如圖9(A)所示，分別通過噴嘴組件設置部件14安裝于噴丸加工室10內(nèi)。本實施方式的滾筒11傾斜，且具有防漏出面llf，因此基于該方式安裝噴嘴組件13。設置部件14由從噴丸加工室10的安裝部位到噴嘴設置部具有至少一個以上的可動部件的臂而形成。
[0085] 例如，在圖9(A)中，使多個棱柱部件與多個圓柱部件卡合而形成轉動自如的噴嘴組件設置部件14，由此能夠?qū)娮旖M件13設定在相對于滾筒11在上下左右方向上自由的位置。在噴丸加工室10內(nèi)設置噴嘴組件設置部件14的位置不特別限定，但是在本實施方式中，配置于旋轉機構12的基座12d(參見圖3)。具體而言，如圖9(B)所示，為了構成噴嘴組件設置部件14而相對于基座12d(圖9(B)中未圖示)卡合的第一、第二、第三、第四及第五臂14a、14b、14c、14d及14e如下所示。
[0086]基座12d:在適合設置各噴嘴組件13的位置設置圓柱部件。
[0087]第一臂14a:由棱柱部件形成，在長度方向(圖9 (B)的紙面的垂直方向)上具有與所述圓柱部件同徑的第一孔，基座12d的圓柱部件嵌入該第一孔。此外，在高度方向(紙面的上下方向)上，具有與第二臂14b同徑的第二孔。
[0088]第二臂14b:由圓柱部件形成，其下端嵌入第一臂14a的第二孔并卡合。
[0089]第三臂14c:由棱柱部件形成，在其一端(圖9(B)的右側)的高度方向上具有與第二臂14b同徑的第三孔，第二臂14b的上端嵌入該孔并卡合。此外，在另一端，在相對于紙面垂直的方向上具有與第五臂He同徑的第四孔，第五臂14e的一端嵌入該孔并卡合。
[0090]第四臂14d:由棱柱部件形成，在其一端(圖9(B)的右側)相對于紙面垂直的方向上，具有與第五臂He的圓柱部件同徑的第五孔，第五臂14e的圓柱部件嵌入在該孔并卡合。此外，在另一端附近有保持噴嘴組件13的保持件(未圖示)。
[0091]第五臂14e:由圓柱部件形成，其一端(相對于圖9(B)的紙面為里側)嵌入第三臂14c的第四孔并卡合，其另一端嵌入第四臂14d的第五孔并卡合。
[0092]此處，并不特別限定噴嘴組件13的保持件。例如，可以以螺栓等固定于第四臂14d，亦可以通過夾持機構進行保持。此外，還可以通過可旋轉地構成該保持件本身，來提高該噴嘴組件13設置的自由度。
[0093]在本實施方式的去毛刺裝置中，構成為，噴嘴組件13的設置部件14與門IOa的開閉連動地移動。即，噴嘴組件13以在打開門IOa的情況下容易拆裝滾筒11、在關閉門IOa的情況下能夠在滾筒11內(nèi)部噴射噴射材料的方式移動。
[0094]參見圖10，對將因從所述噴嘴組件13噴射的噴射材料以及因去毛刺而產(chǎn)生的粉塵分級，去除無法再利用的噴射材料以及所述粉塵(以下稱“灰塵(dust)”)并取出可再利用的噴射材料的分級裝置(分離單元)20加以說明。分級裝置20將第一筒狀體20a與第二筒狀體20b連接而構成，第一筒狀體20a其上表面被具有吸引部件20c的頂棚封閉，且具有連續(xù)的截面積并在側面具有投入部件20d，第二筒狀體20b從上方朝下方而直徑(截面積)連續(xù)縮小。儲留器21與分級裝置20的下表面相連接。投入部件20d經(jīng)由管道隊(圖1)與噴丸加工室10連接。此外，吸引部件20c經(jīng)由管道D2(圖1)與回收裝置30連接。SP，噴丸加工室10內(nèi)的空間、分級裝置20內(nèi)的空間、儲留器21內(nèi)的空間以及回收裝置30形成了連續(xù)的空間。
[0095]用于儲留由分級裝置20取出的可再利用的噴射材料的儲留器21，如圖11所示將第三筒狀體21a和第四筒狀體21b連接而構成,第三筒狀體21a與分級裝置20的底部連接，第四筒狀體21b朝向下方而直徑(截面積)連續(xù)縮小。另外，所謂直徑(截面積)連續(xù)縮小，不僅指朝向下方而直徑(截面積)一律減小，直徑(截面積)的減少率也可以階段性不同，此外，還可以包括以同一直徑(截面積)連續(xù)的區(qū)間。即，只要不包括朝向下方而直徑(截面積)增大的區(qū)間即可。此種情況下，將第四筒狀體21b的側壁相對于水平面所成的角度θ3設定為73°?87°的范圍。[0096]若該角度小于73°，則容易出現(xiàn)儲留器21內(nèi)部的噴射材料因架橋現(xiàn)象(搭棚)而無法取出的現(xiàn)象。為防止該現(xiàn)象，該角度越大越好，但若該角度大于87°，則后述的排出輔助件21d會增大。因此，為了從儲留器21有效地取出噴射材料且使排出輔助件21d變小，優(yōu)選將該角度θ3設定在73°?87°的范圍。而且，在最下面附近，設置有用于將儲留于儲留器21內(nèi)部的噴射材料供給至噴嘴組件13的噴射材料取出件21c。噴射材料取出件21c經(jīng)由軟管H2 (圖2)與噴嘴組件13的噴射材料供給口 13d連接。進而，在第四筒狀體21b的最下面，為了更換等而排出儲留于儲留器21的噴射材料，而設置有排出輔助件21d。作為該排出輔助件21d，在本實施方式中使用了蝶閥，但也可以代替它使用球閥、閘閥。另外，儲留器21的筒狀體21a及21b可以是圓筒體，也可以是橫截面為多邊形的筒狀體。在本實施方式中，使用了橫截面為四方形的筒狀體。
[0097]在本實施方式中，分級裝置20及儲留器21設置為，至少儲留器21的噴射材料取出件21c配置于噴丸加工室10內(nèi)，但是只要在噴射材料向噴嘴組件13的供給方面不產(chǎn)生不良，就不特別限定設置場所。
[0098]在本實施方式中，用于回收所述灰塵的回收裝置30使用了內(nèi)含用于從固氣二相流分離固體(灰塵)與氣體的濾布的集塵器。
[0099]此外，作為對回收時堆積在濾布上的灰塵的除去(撣落)方式，使用了向濾布間歇性地吹壓縮空氣的脈沖式噴氣方式。但是，并不特別限定其方式，例如，可以使用以機械手段撣落的機械方式。
[0100]如圖12所示，為了將從濾布上撣落并儲留于回收裝置30的底部的灰塵排出到回收裝置30的外部，在回收裝置30設置了排出件31。該排出件31在本實施方式中使用了球閥，但取而代之也可以使用例如閘閥、回轉閥等。
[0101](實施例)
[0102]下面對使用本實施方式的去毛刺裝置去毛刺加以說明。在本實施例中，對用于作為被處理器件W而對0.8 X 1.6mm的陶瓷類部件實施粗面化的加工加以說明。另外，在本說明書中，“小型被處理器件”是指直徑或邊大概為30mm以下程度的大小的被處理器件，特別是針對直徑或邊在2_以下程度的被處理器件，能夠適當?shù)厥褂帽景l(fā)明的去毛刺裝置。
[0103]打開噴丸加工室10的門10a，將4臺滾筒11從噴丸加工室10內(nèi)部取出，在各滾筒11中分別大致等量地投入被處理器件W。之后再次將該滾筒11與滾筒保持件Ila卡合，并放置于噴丸加工室10內(nèi)。此外，向噴丸加工室10內(nèi)投入必要量的噴射材料(本實施例為氧化鋯材質(zhì))，關閉門10a。其中，可以手動開閉所述門10a，也可以例如通過氣缸等的機械動作進行開閉。
[0104]接下來，通過運轉回收裝置30，所述噴射材料通過從回收裝置30產(chǎn)生的吸引力被移送至分級裝置20內(nèi)，之后儲留于儲留器21內(nèi)。
[0105]接下來，通過運轉馬達12a，4臺滾筒11旋轉。通過該旋轉，滾筒11內(nèi)的被處理器件W被攪拌。
[0106]接下來，使壓縮空氣產(chǎn)生源運轉，例如，通過從空氣噴嘴13b噴射壓力為0.7MPa的壓縮空氣，在噴嘴組件13內(nèi)部產(chǎn)生負壓。噴射材料通過該負壓被供給給噴嘴組件13，從噴射口 13co與壓縮空氣一同噴射。所噴射的噴射材料與被處理器件W的表面碰撞，由此去毛刺。此外，通過滾筒11的旋轉，被處理器件W被攪拌，因此全部的被處理器件W依次暴露于噴射材料，能夠?qū)θ康谋惶幚砥骷去毛刺。
[0107]所噴射的噴射材料與因去毛刺所產(chǎn)生的粉塵的混合體，通過從回收裝置30產(chǎn)生的吸引力而經(jīng)由管道Dl被移送至分級裝置20。在分級裝置20的內(nèi)部，因由所述回收裝置30所產(chǎn)生的吸引力而產(chǎn)生渦狀氣流。即，吸引力從分級裝置20的上方產(chǎn)生，因此投入到分級裝置20的所述噴射材料以及所述粉塵因該渦狀氣流，重量重的粉體向下方移動，輕的粉體向上方移動。即，可再利用的噴射材料比灰塵重，因此向下方移動，儲留于儲留器21，經(jīng)由軟管H2再次從噴嘴組件13噴射，由于灰塵輕，因此向上方移動，經(jīng)由管道D2，被向回收裝置30移送。被移送到回收裝置30的灰塵堆積于回收裝置30內(nèi)部的濾布的表面。堆積于濾布表面的灰塵通過脈沖式噴氣被撣落，儲留于底部。所儲留的灰塵通過打開排出件31，被排出到回收裝置30的外部。
[0108]在被處理器件W被加工到目的形狀的情況下，停止壓縮空氣供給源的運轉。此時，馬達12a的旋轉依然繼續(xù)。這是為了將殘留于滾筒11內(nèi)的噴射材料經(jīng)由壁面的貫通孔Ili排出到外部。同樣，回收裝置30的運轉也依然繼續(xù)。這是因為噴丸加工室10的內(nèi)部充滿了噴射材料以及粉塵，因此使它們經(jīng)由分級裝置20，將噴射材料儲留(回收)于儲留器21，或者用回收裝置30回收灰塵。
[0109]在滾筒11內(nèi)部的噴射材料排出且完成了噴丸加工室10內(nèi)部的噴射材料以及灰塵的回收后，停止馬達12a以及回收裝置30的運轉，打開噴丸加工室10的門10a，取出被處理器件W，完成去毛刺。
[0110]此外，在因為要改變被處理器件W或改變加工目的而更換噴射材料，為此需要將儲留于儲留器21的噴射材料排出的情況下，通過打開排出輔助件21d能夠容易地取出該噴射材料。
[0111]此外，在被處理器件W改變的情況下等，在需要將滾筒11更換為其他形狀的情況下，驅(qū)動噴嘴組件設置部件14，調(diào)整噴嘴組件13的位置，能夠容易地更換滾筒11。
[0112]圖13示出了本實施例的去毛刺裝置I的一例。圖13(A)是通過機械動力(此時為氣缸)實施門IOa的開閉的噴丸裝置，圖13(B)是通過人力(手動)實施門IOa的開閉的噴丸裝置。
[0113]另外，若噴射材料的比重過小，則無法獲得足夠的去毛刺效果，若過大，則會導致因噴射材料造成的被處理器件的裂紋、缺損。若噴射材料的平均直徑小于0.02mm，則無法獲得充分的去毛刺效果，若大于0.08mm,則噴射材料對實施去毛刺的部位的碰撞不充分。若噴射壓力過低，則無法獲得充分的去毛刺效果，若過高，則被處理器件會產(chǎn)生裂紋、缺損。
[0114]S卩，為了不在被處理產(chǎn)品上產(chǎn)生裂紋、缺損地去毛刺，優(yōu)選將噴射材料的比重設定為1.0?3.0，將噴射材料的平均直徑設定為0.02?0.08mm,將所述噴流的噴射壓力設定為0.03MPa以上且0.15MPa以下。
[0115]此外，若從產(chǎn)生混合有噴射材料的氣體噴流的噴嘴前端的開口到被處理器件W亦即由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離小于200mm，則噴射材料在到達被處理器件亦即由塊狀陶瓷構成的芯部件之前，不充分擴散，浪費所噴射的噴射材料。此外，若大于500mm，則噴射材料相對于被處理器件僅稀疏地碰撞，去毛刺不充分。為了不使噴射氣流的擴散過大且有效地去毛刺，優(yōu)選將從噴嘴前端的開口到被處理器件的距離設定為200mm以上且500mm以下。進而，進一步優(yōu)選設定為200mm以上且300mm以下。通過該適度的距離,不會在被處理器件產(chǎn)生裂紋、缺損。
[0116]此外，可以以由塊狀陶瓷構成的芯部件位置處的、混合有噴射材料的氣體噴流的噴射范圍的噴射中心與噴射外周部的轉速差為32mm/s以上且64mm/s以下的方式,翻滾芯部件。
[0117]若轉速差小，則去毛刺的效率下降。若轉速差大，則芯部件彼此碰撞，產(chǎn)生裂紋、缺損。
[0118]為了不因芯部件彼此碰撞而產(chǎn)生裂紋、缺損且有效地去毛刺，優(yōu)選將轉速差設定為32mm/s以上且64mm/s以下。
[0119]此外，若噴射材料的硬度過低，無法獲得充分的去毛刺效果，若過高，則在被處理器件產(chǎn)生裂紋、缺損。將噴射材料的硬度設定為HV1000~2500，由此能夠?qū)K狀陶瓷的芯部件有效地去毛刺。
[0120]由塊狀陶瓷構成的芯部件，為凸緣的間隙在0.3mm~0.8mm且在造型成型后進行燒制而制造的電子器件的電感器部件或線圈部件，且大多為多邊形狀，由氧化鋁或碳化硅構成。因此，將平均直徑為0.02~0.08mm的噴射材料至少朝向所述多個凸緣的間隙和卷芯部的連接邊緣或卷芯部的外周噴射。
[0121]由此，能 夠?qū)﹄娮悠骷碾姼衅鞑考蚓€圈部件的凸緣的間隙噴射適當大小的噴射材料，因此能夠有效地去毛刺。
[0122]有關本發(fā)明，說明了特定的實施例，但可以具有更多的變更例以及修正例。例如，噴嘴組件13只要能夠確保用于設置加壓箱等附帶設備的空間，也可以采用所謂直壓式。
[0123]在上述實施例中，為了旋轉保持滾筒11，使用了滾筒保持件11a，但是請注意也能夠構成為省略該滾筒保持件Ila而使用在底部具有驅(qū)動軸的滾筒11的實施例。
[0124]噴射材料只要是鐵類或者被鐵類的丸粒、或者磨粒、或者切斷細線(或者對切斷后角部實施磨圓加工)的所謂鋼絲切制丸粒、陶瓷類、樹脂類、植物類等、一般作為去毛刺的噴射材料使用的物質(zhì)就能夠適當應用。
[0125]以下匯總示出本說明書或附圖中所使用的主要符號。
[0126]1:去毛刺裝置，10:噴丸加工室，IOa:門，11:滾筒，Ila:滾筒保持件，Ilb:旋轉軸，Ilc:第一驅(qū)動傳遞件(鏈輪)，lld:開口部，lie:攪拌促進部件，Ilf:防漏出面，llg:側壁面，Ilh:攪拌促進面，Il1:貫通孔，Ilj:凸部形狀的環(huán)，Ilk:凸部的高度，12:旋轉機構(旋轉單元)，12a:馬達(旋轉產(chǎn)生單元)，12b:旋轉軸，12c:第二驅(qū)動傳遞件(鏈輪)，12d:基座，12e:軸承，12f:驅(qū)動傳遞單元(鏈條)，13:噴嘴組件，13a:噴嘴保持件；13b:空氣噴嘴，Ub1:空氣噴嘴的壓縮空氣供給口，13b。:空氣噴嘴的壓縮空氣噴射口，13c:噴射噴嘴，13C1:固氣二相流的供給口，13c。:固氣二相流的噴射口，13d:噴射材料供給口，13e:噴射材料通過路徑，13f:混合室，13g:密封部件，14:噴嘴組件設置部件(噴嘴組件設置單元)，14a:第一臂，14b:第二臂，14c:第三臂，14d:第四臂，14e:第五臂，20:分級裝置(分離單元)，20a:第一筒狀體，20b:第二筒狀體，20c:吸引部件，20d:投入部件，21:儲留單元，21a:第三筒狀體，21b:第四筒狀體，21c:噴射材料取出單元，21d:排出輔助件，30:回收單元，31:排出件，50:基臺，51:移動部件(輥)，?:軟管(壓縮空氣導入用)，H2:軟管(噴射材料供給用)，D1:分級裝置用管道，D2:回收裝置用管道，W:被處理器件
[0127]產(chǎn)業(yè)上的可利用性[0128]在上述實施例中，說明了針對由硬脆材料形成的被處理器件W的去毛刺，但是本發(fā)明的去毛刺裝置無論被處理器件W是金屬材料還是非金屬材料，都能應用于全部的去毛刺。
【權利要求】
1.一種由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，該方法對具備多個凸緣和卷芯部的由塊狀陶瓷構成的芯部件的、產(chǎn)生在所述多個凸緣的間隙的凸狀的毛刺進行去除， 其特征在于，具備: 將多個芯部件投入到一端具有開口部而另一端封閉的帶底的筒狀的滾筒中的工序； 旋轉所述滾筒來攪拌所述多個芯部件的工序； 穿過所述開口部并朝向由所述塊狀陶瓷構成的芯部件的產(chǎn)生在多個凸緣的間隙的凸部的毛刺，噴射混合有比所述凸緣的間隙小的噴射材料的氣體的噴流的工序；以及 將噴射出的噴射材料從設置于該滾筒的壁面的貫通孔向該滾筒的外部排出的工序。
2.根據(jù)權利要求1所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 所述噴射材料的比重為1.0~3.0，噴射材料的平均直徑為0.02~0.08mm，所述噴流的噴射壓力在0.03MPa以上且0.15MPa以下。
3.根據(jù)權利要求1所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離在200_以上且500_以下。
4.根據(jù)權利要求1所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 以在由所述塊狀陶瓷構成的芯部件的位置處的、混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴射范圍中的噴射中心與噴射外周部的轉速差在32mm/s以上且64mm/s以下的方式，翻滾芯部件。
5.根據(jù)權利要求1所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 所述噴射材料的硬度為HV1000~2500。
6.根據(jù)權利要求1所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 由所述塊狀陶瓷構成的芯部件是凸緣的間隙為0.3mm~0.8_、且在造型成型后進行燒制而制造的電子器件的電感器部件或線圈部件，為多邊形形狀，由氧化鋁或碳化硅構成，對于噴射材料而言噴射平均直徑為0.02~0.08mm的噴射材料。
7.根據(jù)權利要求2所述的由塊狀陶瓷構成的芯部件的去毛刺處理方法，其特征在于， 所述噴射材料的噴射量為0.2~0.8Kg/分鐘，從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離在200mm以上且300mm以下。
8.一種電子器件的部件的去毛刺裝置，該裝置是權利要求1~7中任一項所述的芯部件的去毛刺處理方法所使用的去毛刺裝置， 其特征在于， 具備所述多個滾筒、使所述多個滾筒旋轉的至少一個以上的旋轉機構、以及噴射混合有噴射材料的氣體的噴流的多個噴嘴組件， 在形成所述滾筒的外周的壁面設置有多個貫通孔，在所述筒狀的內(nèi)壁設置有攪拌促進部件。
9.根據(jù)權利要求8所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于， 所述噴嘴組件與所述滾筒的開口部對置，所述噴射材料的噴射是朝向從所述滾筒的開口部投入到所述帶底的筒狀的滾筒中的所述多個芯部件的、產(chǎn)生在多個凸緣的間隙的凸部的毛刺進行的。
10.根據(jù)權利要求9所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于，所述滾筒以20°~40°的角度傾斜設置。
11.根據(jù)權利要求10所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于， 所述滾筒為上部具有開口部的多邊形的箱狀物或帶底的圓筒狀物。
12.根據(jù)權利要求11所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于， 通過使所述噴嘴組件在噴射噴射材料時能夠移動的噴嘴組件設置部件，將從產(chǎn)生混合有所述噴射材料的氣體的噴流的噴嘴前端的開口、到由塊狀陶瓷構成的芯部件為止的距離控制在規(guī)定的范圍內(nèi)。
13.根據(jù)權利要求12所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于， 通過所述噴嘴組件設置部件，在噴射結束后移動所述噴嘴組件，更換滾筒。
14.根據(jù)權利要求13所述的電子器件的部件的去毛刺裝置，其特征在于， 所述噴嘴組件具備: 空氣噴嘴，其將壓縮空氣導入所述噴嘴保持件內(nèi)部，使所述噴嘴保持件內(nèi)部產(chǎn)生負壓； 噴嘴保持件，其具有供由在所述噴嘴組件的內(nèi)部產(chǎn)生的負壓吸引的噴射材料通過的路徑、和在所述壓縮空氣中混合噴射材料的混合室；以及 噴射噴嘴，其用于將在所述混合室混合的壓縮空氣與噴射材料向所述芯部件噴射，所述噴嘴保持件與所述空氣噴嘴之間的連接部、以及所述噴嘴保持件與所述噴射噴嘴之間的連接部這兩者中的至少一方具有密封部件。
【文檔編號】B24C3/28GK103958126SQ201280055520
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2012年9月7日 優(yōu)先權日:2012年1月12日
【發(fā)明者】境茂和 申請人:新東工業(yè)株式會社