專利名稱：真空蒸鍍裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及薄膜的真空蒸鍍裝置，特別涉及具備對基板照射離子等的能量粒子源的真空蒸鍍裝置。
背景技術：
以往，已知有在真空容器內(nèi)使薄膜材料朝向基板表面蒸發(fā)時，通過向堆積在基板上的蒸鍍層照射離子來進行致密化的離子輔助蒸鍍裝置(例如，專利文獻I)。在這樣的蒸鍍裝置中，利用離子槍向基板照射較低能量的氣體離子，同時利用中和器向基板照射中和電子(電子)，由此能夠中和氣體離子所導致的基板上的電荷的偏移，同時利用氣體離子的動能來制作致密的膜。專利文獻1:日本特許第4540746號公報但是，在專利文獻I等現(xiàn)有的離子輔助蒸鍍裝置中，離子源配設于真空容器的底面或門以外的側面，因此在進行離子源的部件更換或清掃等維護時，作業(yè)者需要使身體大幅進入真空容器內(nèi)，所以期望維護的作業(yè)性的提高。

實用新型內(nèi)容本實用新型是鑒于上述課題而完成的，本實用新型的目的在于，提供在具備照射離子或等離子體等能量粒子的能量粒子源的真空蒸鍍裝置中，能量粒子源的維護性高的真空蒸鍍裝置。所述課題根據(jù)技術方案I的真空蒸鍍裝置，通過如下方式解決，即，該真空蒸鍍裝置在真空容器內(nèi)使蒸鍍物質蒸鍍至基板，其中，該真空蒸鍍裝置構成為具備:拱頂型的基板保持構件，其配設于所述真空容器內(nèi)，用于保持多個所述基板；旋轉構件，其用于使該基板保持構件旋轉；蒸鍍構件，其以與所述基板對置的方式設置；以及能量粒子源，其用于對所述基板照射能量粒子，所述能量粒子源在能量粒子誘導部朝向所述基板方向的狀態(tài)下，安裝于在所述真空容器配設的門的內(nèi)壁面。這樣，由于在門的內(nèi)壁面安裝有能量粒子源，所以在維護時，能量粒子源就出現(xiàn)在打開門的作業(yè)者的附近，能量粒子源的保養(yǎng)檢查變得容易，提高了維護性。另外，所述能量粒子源也可以是離子源。另外，優(yōu)選的是，所述真空蒸鍍裝置具備用于對所述基板照射電子的中和器，該中和器在電子誘導部朝向所述基板方向的狀態(tài)下，安裝于在所述真空容器配設的門的內(nèi)壁面。當如上所述地構成時，由于在門的內(nèi)壁面安裝有中和器，所以在維護時，中和器就出現(xiàn)在打開門的作業(yè)者的附近，中和器的保養(yǎng)檢查變得容易，提高了維護性。而且，向所述離子源供給氣體的氣體配管優(yōu)選為螺旋狀的金屬配管。由于這樣構成，將氣體配管形成為金屬彈簧這樣的形狀，能夠具有撓性。另外，向所述離子源供給氣體的氣體配管也可以由具有彈性且具有復原性的原材料形成。另外，所述具有復原性的原材料可以是樹脂。由于如上所述地構成，隨著門的開閉，氣體配管伸縮或撓曲，防止氣體配管因門的開閉導致金屬疲勞等而損傷，從而能夠延長氣體配管的部件壽命。根據(jù)本實用新型的真空蒸鍍裝置，能夠提高能量粒子源的維護性，并能夠削減能量粒子源的維護所需的時間，從而提高生產(chǎn)率。

圖1是本實用新型的一個實施方式的真空蒸鍍裝置的概念圖。圖2是示出本實用新型的一個實施方式的真空容器的門位置的說明圖。標號說明1:真空蒸鍍裝置10:真空容器IOa:門12:基板保持器14:基板34:蒸鍍源34a、38a:閘板38:離子源40:中和器44:連接件G:鉸鏈K:階梯部
具體實施方式
以下，參照附圖對本實用新型的實施方式進行說明。另外，以下說明的部件、配置等是將實用新型具體化的一個例子，并不用于限定本實用新型，當然可以按照本實用新型的宗旨進行各種改變，而且等同物也包含于權利范圍內(nèi)。圖1是本實用新型的一個實施方式的真空蒸鍍裝置I的概要剖視圖。真空蒸鍍裝置I是能夠一邊從作為能量粒子源的一個例子的離子源38向基板照射離子束一邊進行成膜處理的離子輔助蒸鍍裝置，在縱向放置的圓筒狀的真空容器10的內(nèi)部的上方保持有作為基板保持構件的基板保持器12。而且，在真空容器10的內(nèi)部的下方配設有作為蒸鍍構件的蒸鍍源34。利用未圖示的真空泵對真空容器10的內(nèi)側進行排氣，使其成為預定的壓力(例如大約 3 X KT2Pa I(T4Pa)。如圖1所示，在本實施方式中，在真空容器10的側面設有門10a，在所述門IOa的內(nèi)壁面設有離子源38及中和器40。如圖2所示，在真空容器10的側面?zhèn)仍O有門10a。[0040]在該門IOa的內(nèi)壁面配設有離子源38及中和器40。如圖1所示，作為基板保持構件的基板保持器12是以能夠繞垂直軸線旋轉的方式保持在真空容器10內(nèi)的上側的、形成為拱頂狀的不銹鋼制的部件?；灞３制?2的旋轉構件與未圖示的馬達的輸出軸連結。在基板保持器12的下表面，以成膜面朝向下方的方式支承有多個作為基板的基板14?；灞３制?2由大致半球狀的拱頂形狀構成，但也可以形成為圓錐拱頂、棱錐拱頂?shù)热魏涡螤畹墓绊敗；?4是在表面通過成膜而附著電介質膜或吸收膜的樹脂(例如聚酰亞胺)、石英、強化玻璃等具有透光性的部件。在本實施方式中，使用圓板狀的部件作為基板14，但形狀不限于此，也可以是例如透鏡形狀、圓筒狀、圓環(huán)狀、矩形板狀之類的其他形狀。真空容器10是在已知的成膜裝置中通常使用的具有大致圓筒的外形狀的不銹鋼制的容器，為接地電位。而且，在其側面?zhèn)刃纬捎兴鲩T10a。門IOa通過鉸鏈G、G連結于真空容器10，并能夠以鉸鏈G、G軸為中心相對于真空容器10轉動開放。并且，在該門IOa的真空容器10內(nèi)側的面形成有階梯部K，離子源38及中和器40安裝于該階梯部K。階梯部K具備通過使真空容器10內(nèi)側變低而成的傾斜面，該階梯部K的傾斜面的上表面?zhèn)葮嫵蔀榕c基板14面對。將離子源38及中和器40安裝到該階梯部K的傾斜面(內(nèi)表面?zhèn)?，由此，容易以預定角度向基板14照射離子束及電子束。在真空容器10中設有未圖示的排氣口，并經(jīng)由排氣口與未圖示的真空泵連接。并且，在真空容器10中形成有用于向內(nèi)部導入氣體的氣體導入管(未圖示)。蒸鍍源34是配設于真空容器10的下側，通過電子束加熱方式對疏油性、疏水性膜物質、高折射率物質或低折射率物質進行加熱并朝向基板14放出的蒸發(fā)構件。而且，蒸鍍源34也可以是直接加熱方式或間接加熱方式等電阻加熱方式的構件。在蒸鍍源34的上方安裝有能夠開閉操作的閘板34a。離子源38具備:照射離子的離子源主體；用于將離子源主體設置于真空容器10的連接件44 ;和用于將氣體、電力、冷卻水導入真空容器10內(nèi)的真空導入部。在真空導入部具備用于將作為離子的原料的氣體導入真空容器10的未圖示的氣體配管。本實施方式的氣體配管構成為螺旋狀的金屬配管。而且，氣體配管不限于螺旋狀的金屬配管，也可以由具有彈性且具有復原性的原材料形成。例如，可以使用合成樹脂管等。離子源38是朝向基板14放出離子束的裝置，由反應氣體(例如O2)或稀有氣體(例如Ar)的等離子體誘導出帶電的離子(02+、Ar+)，并通過加速電壓加速射出。另外，在離子源38的上方安裝有能夠利用未圖示的控制器進行適宜地開閉控制的閘板38a。在本實施方式中，具備離子源38來作為能量粒子源，但不限于此，也可以使用用于向基板14照射等離子體的等離子體源或用于產(chǎn)生活性物種的活性物種產(chǎn)生構件等。中和器40是朝向基板14放出電子(e_)的裝置，由Ar等稀有氣體的等離子體誘導出電子，并利用加速電壓進行加速而放出電子。利用從這里射出的電子來中和附著于基板14表面的離子。在本實施方式的真空蒸鍍裝置I中，中和器40配設為與離子源38隔開預定距離。中和器40的安裝位置只要是能夠向基板14照射電子來進行中和的位置即可。離子源38安裝于基板保持器12的外周側。由此，從離子源38照射出的離子束有角度地向基板14入射。這樣，通過使入射到基板14的離子束具有角度，從而使保持高動能狀態(tài)的離子束從傾斜方向碰撞基板14表面，能夠對堆積在基板14表面的蒸鍍物質作用更大的能量等，發(fā)現(xiàn)取得了比以往更高的離子輔助效果。
權利要求1.一種真空蒸鍍裝置，其在真空容器內(nèi)使蒸鍍物質蒸鍍至基板，所述真空蒸鍍裝置的特征在于， 該真空蒸鍍裝置構成為具備: 拱頂型的基板保持構件，其配設在所述真空容器內(nèi)，用于保持多個所述基板； 旋轉構件，其用于使該基板保持構件旋轉； 蒸鍍構件，其以與所述基板對置的方式設置；以及 能量粒子源，其用于對所述基板照射能量粒子， 所述能量粒子源在能量粒子誘導部朝向所述基板方向的狀態(tài)下，安裝于在所述真空容器配設的門的內(nèi)壁面。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于， 所述能量粒子源是離子源。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于， 所述真空蒸鍍裝置具備用于對所述基板照射電子的中和器， 該中和器在電子誘導部朝向所述基板方向的狀態(tài)下，安裝于在所述真空容器配設的門的內(nèi)壁面。
4.根據(jù)權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于， 向所述離子源供給氣體的氣體配管是螺旋狀的金屬配管。
5.根據(jù)權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于， 向所述離子源供給氣體的氣體配管由具有彈性且具有復原性的原材料形成。
6.根據(jù)權利要求5所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于， 所述具有復原性的原材料是樹脂。
專利摘要本實用新型提供一種真空蒸鍍裝置，其能夠維持離子源的效率且不會使裝置大型化，并且能夠提高維護性。在具備照射離子或等離子體等能量粒子的能量粒子源的真空蒸鍍裝置中，提供能量粒子源的維護性高的真空蒸鍍裝置。真空蒸鍍裝置構成為具備拱頂型的基板保持構件(12)，其配設于真空容器(10)內(nèi)，用于保持多個基板(14)；旋轉構件，其用于使基板保持構件(12)旋轉；蒸鍍構件(34)，其以與基板(14)對置的方式設置；以及能量粒子源(38)，其用于對基板(14)照射能量粒子。能量粒子源(38)在能量粒子誘導部朝向基板方向的狀態(tài)下，安裝于在真空容器(10)配設的門(10a)的內(nèi)壁面。
文檔編號C23C14/32GK202968678SQ20122069416
公開日2013年6月5日 申請日期2012年12月14日 優(yōu)先權日2012年12月14日
發(fā)明者鹽野一郎, 林達也, 姜友松, 宮內(nèi)充祐, 岡田勝久, 長江亦周 申請人:株式會社新柯隆