專利名稱：可定位砂箱的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種砂箱,更具體地說,它涉及一種可定位砂箱。
背景技術(shù)：
目前，市場上有各種砂箱，都比較實(shí)用，但它們在鑄造時上下砂箱都是完全分開的，挖砂造型時上下砂箱要自己劃線定位，這樣定位導(dǎo)致定位不準(zhǔn)而且容易移位。市場上尚未見到自帶定位槽的可定位砂箱。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、可以實(shí)現(xiàn)定位的可定位砂箱。本實(shí)用新型的可定位砂箱，包括下底板、下砂箱和上砂箱，所述下砂箱設(shè)有定位凸起，所述上砂箱設(shè)有與定位凸起相配合的定位凹槽，所述下底板設(shè)有與定位凸起相配合的定位凹槽，所述下底板設(shè)有四個定位凹槽，所述下砂箱設(shè)有四個定位凸起，所述上砂箱設(shè)有四個定位凹槽。本實(shí)用新型的有益效果是(1)結(jié)構(gòu)簡單，易于制造，僅需在原有砂箱的基礎(chǔ)上略加改動即可制成；(2)操作簡便，自帶定位凸起、定位凹槽，鑄造時不用畫線定位；(3)在移動過程中上下砂箱不會發(fā)生偏離。

圖1是本實(shí)用新型的下底板I結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的下砂箱3結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實(shí)用新型的上砂箱5結(jié)構(gòu)示意圖；在圖中下底板1、定位凹槽2、下砂箱3、定位凸起4、上砂箱5。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。本實(shí)用新型的可定位砂箱，包括下底板1、下砂箱3和上砂箱5。所述下砂箱3設(shè)有定位凸起4，所述上砂箱5設(shè)有與定位凸起4相配合的定位凹槽2，所述下底板I設(shè)有與定位凸起4相配合的定位凹槽2，所述下底板I設(shè)有四個定位凹槽2，所述下砂箱3設(shè)有四個定位凸起4，所述上砂箱5設(shè)有四個定位凹槽2。在往下砂箱3填砂之前，讓下底板I置于下砂箱3之下，使定位凹槽2與定位凸起4緊密配合，填好后倒過來，拿掉下底板I，進(jìn)行挖砂；然后放上上砂箱5，使定位凸起4與定位凹槽2緊密配合，用砂把上砂箱5填滿后拿掉上砂箱5，取出模型；最后重新放回上砂箱5實(shí)現(xiàn)定位。在這個過程中不用畫線定位，就能很準(zhǔn)確的定位。
權(quán)利要求1.一種可定位砂箱，其特征是，所述可定位砂箱包括下底板(I)、下砂箱(3)和上砂箱(5)，所述下砂箱(3)設(shè)有定位凸起(4)，所述上砂箱(5)設(shè)有與定位凸起(4)相配合的定位凹槽(2)，所述下底板(I)設(shè)有與定位凸起(4)相配合的定位凹槽(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可定位砂箱，其特征是，所述下底板(I)設(shè)有四個定位凹槽(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可定位砂箱，其特征是，所述下砂箱(3)設(shè)有四個定位凸起(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可定位砂箱，其特征是，所述上砂箱(5)設(shè)有四個定位凹槽(2)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種可定位砂箱，所述可定位砂箱包括下底板(1)、下砂箱(3)和上砂箱(5)，所述下砂箱(3)設(shè)有定位凸起(4),所述上砂箱(5)設(shè)有與定位凸起(4)相配合的定位凹槽(2)，所述下底板(1)設(shè)有與定位凸起(4)相配合的定位凹槽(2)，所述下底板(1)設(shè)有四個定位凹槽(2)，所述下砂箱(3)設(shè)有四個定位凸起(4)，所述上砂箱(5)設(shè)有四個定位凹槽(2)。它的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單，易于制造，僅需在原有砂箱的基礎(chǔ)上略加改動即可，操作簡便，自帶定位凸起、定位凹槽，鑄造時不用畫線定位，在移動過程中上下砂箱不會發(fā)生偏離。
文檔編號B22C21/10GK202877493SQ20122065642
公開日2013年4月17日 申請日期2012年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月4日
發(fā)明者呂欽 申請人:呂欽