專(zhuān)利名稱(chēng)：連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空鍍膜裝備，尤其涉及一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)。
背景技術(shù)：
連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)已經(jīng)在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域取得廣泛使用，主要應(yīng)用于在·PETfilm等柔性基材上沉積金屬、金屬氧化物介質(zhì)等形成各種具有某一特定功能的復(fù)合薄膜材料，如汽車(chē)、建筑玻璃等隔熱膜，ΙΤ0/ΡΕΤ透明導(dǎo)電膜等。該設(shè)備的技術(shù)集成度高，與工藝配合緊密，制造難度大，很多實(shí)際使用中的設(shè)備在結(jié)構(gòu)上或工藝配置上都有它的獨(dú)特性。該類(lèi)設(shè)備的主結(jié)構(gòu)包括一個(gè)圓柱狀金屬材質(zhì)的真空腔體，參考圖1設(shè)備核心的工作機(jī)構(gòu)一濺射陰極系統(tǒng)縱向布置于圓柱體的內(nèi)腔壁上，根據(jù)要生產(chǎn)的產(chǎn)品功能要求，布置I至7套陰極系統(tǒng)不等，每一套陰極可以濺射不同的材料以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品要求的不同的功能膜層。目前，德國(guó)萊寶真空，韓國(guó)PNT，國(guó)內(nèi)的中方蓋德等公司都在生產(chǎn)銷(xiāo)售同類(lèi)設(shè)備，一般根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)與定制?，F(xiàn)有的該類(lèi)設(shè)備的一個(gè)共同點(diǎn)是所有的陰極系統(tǒng)都安裝在圓柱形真空腔體的內(nèi)壁上，各個(gè)陰極基本處于同一個(gè)氣氛條件下，其主要技術(shù)缺陷是各陰極的工作氣氛相互影響，難于實(shí)現(xiàn)鍍制不同功能膜層時(shí)對(duì)工作氣氛的不同要求。再次參考圖1，一些設(shè)備提出了“室內(nèi)小腔””的結(jié)構(gòu)001，即在陰極的四周設(shè)置擋板將陰極包圍在中間，形成氣氛“局部”，實(shí)際使用效果看并不理想，且大大增加了圓柱真空腔體的直徑從而增加了整機(jī)的體積與造價(jià)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種氣氛隔離效果好的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)。本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種體積小造價(jià)低的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)。本發(fā)明的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)
一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，包括真空鍍室，其特征在于還包括陰極小室，陰極小室的開(kāi)口直接連通所述真空鍍室，所述陰極小室突出于真空鍍室的側(cè)壁之外；所述陰極小室的側(cè)壁具有冷卻板，冷卻板內(nèi)具有與制冷裝置連通的水管。真對(duì)發(fā)熱的陰極小室直接冷卻，冷卻效果好。陰極小室是指獨(dú)立地容置陰極靶的腔室，并不是強(qiáng)調(diào)該腔室絕對(duì)體積的大小。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，陰極小室不是完全突出于真空鍍室的側(cè)壁之外，而是部分地突出于真空鍍室的側(cè)壁之外，該方案也可以在下述任一技術(shù)方案中替代前述的“陰極小室突出于真空鍍室的側(cè)壁之外”這一特征。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室共設(shè)置2-9個(gè)，每個(gè)陰極小室具有獨(dú)立的抽氣分子泵及雙氣流補(bǔ)氣裝置。雙氣流補(bǔ)氣裝置包括設(shè)置于陰極靶兩側(cè)的補(bǔ)氣管，根據(jù)陰極小室內(nèi)氣氛分散的情況，從雙側(cè)均勻地實(shí)時(shí)補(bǔ)償氣體；進(jìn)一步地，設(shè)置于陰極靶兩側(cè)的補(bǔ)氣管的補(bǔ)氣量可以分別控制，以實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)陰極小室內(nèi)部氣氛的一致性。每個(gè)陰極小室獨(dú)立抽氣和補(bǔ)償，可以實(shí)現(xiàn)在同一臺(tái)鍍膜機(jī)上同時(shí)精準(zhǔn)地實(shí)現(xiàn)多種氣氛同時(shí)工作，滿足復(fù)雜膜層的加工。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于各陰極小室之間設(shè)置氣氛引導(dǎo)隔離板。降低各陰極小室之間的氣氛干擾。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室呈六面體狀，六面體的五個(gè)面封閉，所述開(kāi)口設(shè)置于另一個(gè)面。陰極小室的形狀主要決定于陰極靶的形狀和冷卻板的安裝要求，本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，用柱體取代六面體。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述真空鍍室的側(cè)壁與所述陰極小室采用緊固件連接或焊接為一體。
連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室可以承受O. OOOOOOlTorr的
真空壓力。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于包括陰極對(duì)靶，構(gòu)成陰極對(duì)靶的兩個(gè)陰極單靶之靶面具有夾角。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于還包括弧形陽(yáng)極基板，在垂直于弧形陽(yáng)極基板之弧形軸心的平面內(nèi)，所述兩個(gè)陰極單靶之靶面之中垂線均通過(guò)弧形陽(yáng)極基板之弧形的軸心點(diǎn)。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室共設(shè)置2-7個(gè)，每個(gè)陰極小室具有獨(dú)立的抽氣分子泵及雙氣流補(bǔ)氣裝置；各陰極小室之間設(shè)置氣氛引導(dǎo)隔離板。連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于還包括陰極對(duì)靶，構(gòu)成陰極對(duì)靶的兩個(gè)陰極單靶之靶面具有夾角；還包括弧形陽(yáng)極基板，在垂直于弧形陽(yáng)極基板之弧形軸心的平面內(nèi)，所述兩個(gè)陰極單靶之靶面之中垂線均通過(guò)弧形陽(yáng)極基板之弧形的軸心點(diǎn)。由于陽(yáng)極基板是弧形，影響到基材與等離子體的接觸面積，同時(shí)，由于靶基距是一個(gè)變化值，難于獲得一個(gè)最理想的鍍膜靶基距，沉積速率與沉積效果(均勻性)都受到了影響。采用陰極對(duì)靶方案，可以使基材與兩個(gè)單靶形成的等離子體的接觸面積保持一致，易于獲得合適的鍍膜基距，從而改善鍍膜效率和沉積效果。本發(fā)明的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，陰極小室的開(kāi)口直接連通所述真空鍍室，所述陰極小室突出于真空鍍室的側(cè)壁之外；所述陰極小室的側(cè)壁具有冷卻板，冷卻板內(nèi)具有與制冷裝置連通的水管，與現(xiàn)有技術(shù)相比，氣氛隔離效果好，并且減小了設(shè)備體積，從而也降低設(shè)備造價(jià)。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)示意圖。圖2是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖3是圖2中A處的局部放大示意圖。圖4是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。參考圖2-3，本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例是一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，包括真空鍍室101，還包括陰極小室102，陰極小室102的開(kāi)口直接連通所述真空鍍室101，所述陰極小室102突出于真空鍍室101的側(cè)壁之外；所述陰極小室102的側(cè)壁具有冷卻板106，冷卻板106內(nèi)具有與制冷裝置連通的水管107，所述冷卻裝置可以是現(xiàn)有技術(shù)中冷水機(jī)或水冷卻塔；應(yīng)當(dāng)理解，作為本實(shí)施例的簡(jiǎn)單變換，也可以省略冷卻板，而直接將水管設(shè)置于陰極小室的側(cè)壁內(nèi)。也應(yīng)當(dāng)理解，作為本實(shí)施例的替代方案，陰極小室102也可以是是部分地突出于真空鍍室101的側(cè)壁之外。本實(shí)施例中，所述陰極小室102共設(shè)置6個(gè)，每個(gè)陰極小室102具有獨(dú)立的抽氣分子泵及雙氣流補(bǔ)氣裝置108。本實(shí)施例各陰極小室102之間設(shè)置氣氛引導(dǎo)隔離板104。本實(shí)施例中，所述陰極小室102 呈六面體狀，六面體的五個(gè)面封閉，所述開(kāi)口設(shè)置于另一個(gè)面。應(yīng)當(dāng)理解，作為本實(shí)施例的替代方案，也可以用柱體取代六面體。本實(shí)施例中，所述真空鍍室101的側(cè)壁與所述陰極小室102采焊接為一體，所述陰極小室可以承受O. OOOOOOlTorr的真空壓力。圖中，105表示弧形陽(yáng)極基板。再次參考圖3，本實(shí)施例中，陰極小室內(nèi)設(shè)置的是單靶103。應(yīng)當(dāng)理解，關(guān)于陰極小室102的個(gè)數(shù)，通常采用的是I至7個(gè)，針對(duì)具體的使用需求，也可以是8個(gè)、9個(gè)、甚至更多。參考圖4，本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例也是一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，與本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例的不同之處在于，陰極小室內(nèi)設(shè)置的是陰極對(duì)靶，且構(gòu)成陰極對(duì)靶的兩個(gè)陰極單靶202之靶面具有夾角。本實(shí)施例中，還包括弧形陽(yáng)極基板201，在垂直于弧形陽(yáng)極基板之弧形軸心的平面內(nèi)(即圖示的平面內(nèi))，所述兩個(gè)陰極單靶202之靶面之中垂線203均通過(guò)弧形陽(yáng)極基板之弧形的軸心點(diǎn)204。
權(quán)利要求
1.一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，包括真空鍍室，其特征在于還包括陰極小室，陰極小室的開(kāi)口直接連通所述真空鍍室，所述陰極小室突出于真空鍍室的側(cè)壁之外；所述陰極小室的側(cè)壁具有冷卻板，冷卻板內(nèi)具有與制冷裝置連通的水管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室共設(shè)置 2-9個(gè)，每個(gè)陰極小室具有獨(dú)立的抽氣分子泵及雙氣流補(bǔ)氣裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于各陰極小室之間設(shè)置氣氛引導(dǎo)隔離板。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室呈六面體狀，六面體的五個(gè)面封閉，所述開(kāi)口設(shè)置于另一個(gè)面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述真空鍍室的側(cè)壁與所述陰極小室采用緊固件連接或焊接為一體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室可以承受O. OOOOOOlTorr的真空壓力。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于包括陰極對(duì)靶，構(gòu)成陰極對(duì)靶的兩個(gè)陰極單靶之靶面具有夾角。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于還包括弧形陽(yáng)極基板， 在垂直于弧形陽(yáng)極基板之弧形軸心的平面內(nèi)，所述兩個(gè)陰極單靶之靶面之中垂線均通過(guò)弧形陽(yáng)極基板之弧形的軸心點(diǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于所述陰極小室共設(shè)置 2-7個(gè)，每個(gè)陰極小室具有獨(dú)立的抽氣分子泵及雙氣流補(bǔ)氣裝置；各陰極小室之間設(shè)置氣氛引導(dǎo)隔離板。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，其特征在于還包括陰極對(duì)靶，構(gòu)成陰極對(duì)靶的兩個(gè)陰極單靶之靶面具有夾角；還包括弧形陽(yáng)極基板，在垂直于弧形陽(yáng)極基板之弧形軸心的平面內(nèi)，所述兩個(gè)陰極單靶之靶面之中垂線均通過(guò)弧形陽(yáng)極基板之弧形的軸心點(diǎn)。
全文摘要
發(fā)明涉及真空鍍膜裝備，尤其涉及一種連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)，包括真空鍍室，還包括陰極小室，陰極小室的開(kāi)口直接連通所述真空鍍室，所述陰極小室突出于真空鍍室的側(cè)壁之外；所述陰極小室的側(cè)壁具有冷卻板，冷卻板內(nèi)具有與制冷裝置連通的水管；本發(fā)明提供一種氣氛隔離效果好，且體積小造價(jià)低的連續(xù)式卷繞濺射鍍膜機(jī)。
文檔編號(hào)C23C14/56GK102994963SQ201210113679
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月18日
發(fā)明者金烈 申請(qǐng)人:深圳市金凱新瑞光電有限公司