專利名稱：用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于磁控濺射鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，特別是一種用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置。
背景技術(shù)：
在磁控濺射鍍膜設(shè)備領(lǐng)域里，影響鍍膜工藝流程因素諸多，比如溫度，鍍膜氣壓， 鍍膜時(shí)間，以及靶面與基片距離(又稱靶基距)等。靶基距的大小將影響膜層的沉積速率，膜層均勻性，膜層的質(zhì)量，以及基片沉積溫度等。在有些磁控濺射設(shè)備有可調(diào)靶基距裝置，但存在著很大的弊端，對(duì)與磁控濺射設(shè)備來說，為抽到全真空需要花費(fèi)很長時(shí)間，所以在設(shè)備操作基本原則上，盡量減少真空室暴露空氣當(dāng)中，而傳統(tǒng)調(diào)節(jié)靶基距方法是在破空的情況下進(jìn)行的，同時(shí)也不是線形調(diào)節(jié)，這樣的情況下就很難找到最佳的靶基距，從而影響膜層質(zhì)量和鍍膜效率。在很多的磁控濺射設(shè)備沒有可調(diào)靶基距裝置，即使有傳統(tǒng)需破空狀態(tài)下操作的， 其整個(gè)過程復(fù)雜，難以尋求最佳工作距離，因此急需一種可調(diào)靶基距裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是針對(duì)技術(shù)的不足，提出用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置，該裝置避免真空室暴露大氣，影響抽真空時(shí)間，實(shí)現(xiàn)在真空狀態(tài)下調(diào)節(jié)，同時(shí)解決傳統(tǒng)的墊塊式調(diào)節(jié)的不連續(xù)性及膜層的縱向不均勻性的問題。本發(fā)明所述用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、 密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過螺釘固定在門板兩側(cè)，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設(shè)置有支撐軸套和軸封；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置的軸穿過門板和靶體， 軸的一端安裝有水管接頭，軸通過螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設(shè)置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點(diǎn)位置處的軸焊接在靶體上。進(jìn)一步的，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。進(jìn)一步的，所述的月牙螺母上設(shè)置有一電極引入固定孔。進(jìn)一步的，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。進(jìn)一步的，所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應(yīng)的凹槽。本發(fā)明的有益效果在于通過把可調(diào)靶基距裝置固定在門板和靶體上，利用彈簧的伸縮性，調(diào)整時(shí)不要將基體置于空氣中，使調(diào)試出最佳的靶基距的時(shí)間短，且可以在靶體兩端調(diào)整，使得鍍膜層的均勻性得到較大的提高。


圖1為用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基裝置結(jié)構(gòu)圖中1基片、2軸、3彈簧、4軸封、5支撐軸套、6絕緣套固定塊、7螺釘、8水管接頭、9絕緣套、10上軸封壓塊、11可調(diào)靶基距裝置、12門板、13靶體、14電極引入固定孔、15、下軸封壓塊、16月牙螺母。
具體實(shí)施例方式如圖1和圖2所示，本發(fā)明所述用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置11、門板12及靶體13三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接11裝置由軸2、 月牙螺母16、絕緣套固定塊6、密封裝置及彈簧3組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊10、下軸封壓塊15、支撐軸套5、軸封4及螺釘7組成，上軸封壓塊10通過螺釘7固定在門板12上面，下軸封壓塊15通過螺釘7固定在門板12下面，上軸封壓塊10與下軸封壓塊 15之間分別依次設(shè)置有支撐軸套5和軸封4 ；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置11的軸2穿過門板12和靶體13，軸2的一端安裝有水管接頭8，軸2通過螺紋與月牙螺母16連接，月牙螺母16和密封裝置之間設(shè)置有絕緣套固定塊6 ；所述的彈簧3套裝在軸2上，并置于下軸封壓塊15與靶體13之間；所述的彈簧3固定在靶體13和下軸封壓塊15上；彈簧3與靶體13 接觸點(diǎn)位置處的軸2焊接在靶體13上。進(jìn)一步的，所述的軸2為中空，并在中空軸中通入冷水。進(jìn)一步的，所述的月牙螺母16上設(shè)置有一電極引入固定孔14。進(jìn)一步的，所述的月牙螺母16和絕緣套固定塊6被絕緣套9包裹。進(jìn)一步的，所述靶體13放置彈簧3的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊15 上均有一與彈簧3直徑相適應(yīng)的凹槽。本發(fā)明所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置的工作原理為 基片和門板之間的距離固定不變，調(diào)節(jié)距離時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)月牙螺母16，使月牙螺母
16的受力通過絕緣套固定塊6及軸封裝置傳導(dǎo)到彈簧3上，通過彈簧3的彈力調(diào)整門板12 與靶體13之間的距離，實(shí)現(xiàn)密封調(diào)節(jié)。
權(quán)利要求
1.用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過螺釘固定在門板兩側(cè)，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設(shè)置有支撐軸套和軸封；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置的軸穿過門板和靶體，軸的一端安裝有水管接頭，軸通過螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設(shè)置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點(diǎn)位置處的軸焊接在靶體上。
2.如權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置，其特征在于，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。
3.如權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母上設(shè)置有一電極引入固定孔。
4.如權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。
5.所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應(yīng)的凹槽。
全文摘要
本發(fā)明所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設(shè)備的可調(diào)靶基距裝置由可調(diào)節(jié)密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調(diào)節(jié)密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成。本發(fā)明所述的裝置避免真空室暴露大氣，影響抽真空時(shí)間，實(shí)現(xiàn)在真空狀態(tài)下調(diào)節(jié)，同時(shí)解決傳統(tǒng)的墊塊式調(diào)節(jié)的不連續(xù)性及膜層的縱向不均勻性的問題。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102517556SQ20121000998
公開日2012年6月27日 申請(qǐng)日期2012年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月13日
發(fā)明者劉高水, 周志文, 李民英 申請(qǐng)人:廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司