專利名稱：一種應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域的新型工件架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空涂層領(lǐng)域，更具體地本實(shí)用新型采用多點(diǎn)和(或)多個(gè)撥叉裝置的新型工件架。
背景技術(shù)：
在真空涂層的生產(chǎn)中，為了提高工件涂層的均勻性，國(guó)際上通常采用如圖1所示的工件架以齒輪系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)工件架大盤1的公轉(zhuǎn)和工件架小盤2的自轉(zhuǎn)，同時(shí)用撥叉3實(shí)現(xiàn)工件套管4的自轉(zhuǎn)。這樣對(duì)于長(zhǎng)時(shí)間的真空涂層來(lái)說(shuō)，基本上解決了陰陽(yáng)面的問(wèn)題，使得工件各處涂層厚度基本一致。隨著復(fù)合多層、納米多層等多種先進(jìn)涂層技術(shù)的不斷出現(xiàn)，對(duì)涂層均勻性的要求越來(lái)越高，特別是對(duì)短時(shí)間內(nèi)的涂層均勻性提出了很高的要求。現(xiàn)有的撥叉系統(tǒng)已經(jīng)不能有效的滿足精細(xì)涂層設(shè)計(jì)的需求。以納米多層為例，在同一真空室內(nèi)，不同的工位可以配備不同的靶材，配合工件架的公自轉(zhuǎn)，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)異種涂層的交替沉積。然而對(duì)于目前常用的涂層轉(zhuǎn)架來(lái)說(shuō)，雖然可以調(diào)節(jié)工件架大盤公轉(zhuǎn)和工件架小盤自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)速率，但是由于撥叉系統(tǒng)通常是工件架小盤每旋轉(zhuǎn)一圈，工件只能被撥叉撥動(dòng)一次，工件旋轉(zhuǎn)的角度較為有限。這就決定了在納米多層涂層工藝條件下，工件無(wú)法在圓周方向上形成均勻的涂層。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域的新型工件架，可使工件在同等條件下旋轉(zhuǎn)更多角度，從而獲得更均勻的真空涂層。本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)方案包括工件架大盤、工件架小盤、工件套管和撥叉，其特征在于，工件架大盤上安裝有多個(gè)工件架小盤，工件架小盤上安裝有多個(gè)工件套管，每個(gè)工件架小盤相應(yīng)安裝有一個(gè)或者多個(gè)撥叉，每個(gè)撥叉提供一個(gè)或者多個(gè)觸點(diǎn)。本實(shí)用新型提供的工件架采用多點(diǎn)撥叉和(或)多個(gè)撥叉，能夠在同等條件下增加單位時(shí)間內(nèi)每個(gè)工件套管的旋轉(zhuǎn)角度，可有效提高工件上沉積涂層的均勻度。

圖1是傳統(tǒng)的應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域的工件架結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是依據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例1的工件架結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是依據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例2的工件架結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是依據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例3的工件架結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述實(shí)施例1 如圖2所示，工件架大盤上5安裝有多個(gè)工件架小盤6，工件架小盤6上安裝有多個(gè)工件套管8，每個(gè)工件架小盤6相應(yīng)安裝有一個(gè)撥叉7，每個(gè)撥叉提供兩個(gè)觸點(diǎn)。本實(shí)施例的撥叉與傳統(tǒng)撥叉相比，增加了觸點(diǎn)數(shù)量，因此在等同條件下?lián)懿婵墒构ぜ坠苄D(zhuǎn)兩倍的角度，可提高工件上沉積涂層的均勻度。實(shí)施例2:如圖3所示，工件架大盤上9安裝有多個(gè)工件架小盤10，工件架小盤10上安裝有多個(gè)工件套管12，每個(gè)工件架小盤10相應(yīng)安裝有兩個(gè)撥叉11，每個(gè)撥叉提供一個(gè)觸點(diǎn)。本實(shí)施例的撥叉與傳統(tǒng)撥叉相比，增加了每個(gè)工件架小盤上撥叉的數(shù)量，因此在等同條件下?lián)懿婵墒构ぜ坠苄D(zhuǎn)兩倍的角度，可提高工件上沉積涂層的均勻度。實(shí)施例3:如圖4所示，工件架大盤上13安裝有多個(gè)工件架小盤14，工件架小盤14上安裝有多個(gè)工件套管16，每個(gè)工件架小盤14相應(yīng)安裝有兩個(gè)撥叉15，每個(gè)撥叉提供兩個(gè)觸點(diǎn)。本實(shí)施例的撥叉與傳統(tǒng)撥叉相比，增加了每個(gè)工件架小盤上撥叉的數(shù)量以及每個(gè)撥叉上的觸點(diǎn)數(shù)量，因此在等同條件下?lián)懿婵墒构ぜ坠苄D(zhuǎn)四倍的角度，可提高工件上沉積涂層的均勻度。
權(quán)利要求1.一種應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域的工件架，包括工件架大盤(5)、工件架小盤(6)、工件套管(8)和撥叉(7)，其特征在于，工件架大盤( 上安裝有多個(gè)工件架小盤(6)，工件架小盤 (6)上安裝有多個(gè)工件套管(8)，每個(gè)工件架小盤(6)相應(yīng)安裝有撥叉(7)。
2.權(quán)利要求1所述的工件架，其特征在于每個(gè)工件架小盤(6)相應(yīng)安裝有一個(gè)或者多個(gè)撥叉(7)。
3.權(quán)利要求1所述的撥叉，其特征在于每個(gè)撥叉(7)提供一個(gè)或者多個(gè)觸點(diǎn)。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種應(yīng)用于真空涂層領(lǐng)域的新型工件架，包括工件架大盤(5)、工件架小盤(6)、工件套管(8)和撥叉(7)，其特征在于，工件架大盤(5)上安裝有多個(gè)工件架小盤(6)，工件架小盤(6)上安裝有多個(gè)工件套管(8)，每個(gè)工件架小盤(6)相應(yīng)安裝有一個(gè)或者多個(gè)撥叉(7)，每個(gè)撥叉提供一個(gè)或者多個(gè)觸點(diǎn)。本實(shí)用新型提供的工件架采用多個(gè)撥叉或者多觸點(diǎn)撥叉，可以有效地提高工件上沉積涂層的均勻度。
文檔編號(hào)C23C16/458GK202139292SQ201120223819
公開(kāi)日2012年2月8日 申請(qǐng)日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者張?jiān)讫? 徐健, 鄧朝陽(yáng) 申請(qǐng)人:無(wú)錫啟恒科技有限公司