專(zhuān)利名稱(chēng)：用于形成薄膜的方法及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于材料制造的方法和系統(tǒng)，特別是有關(guān)于一種用于形成半導(dǎo)體材料的磊晶層(epitaxial layer)的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)和其相關(guān)方法。舉例來(lái)說(shuō)，本發(fā)明是用于有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積(metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD),可以理解地，本發(fā)明還可有更為廣泛的用途。
背景技術(shù)：
薄膜沉積(thin film deposition)已被廣泛的用于各種物體如珠寶、餐具、工具、模具和/或半導(dǎo)體裝置的表面處理。通常，在金屬、合金、陶瓷和/或半導(dǎo)體的表面形成由均質(zhì)(homogeneous)或異質(zhì)合成物(heterogeneous composition)形成的薄膜以改善耐磨性、耐熱性和/或耐腐蝕性。薄膜沉積技術(shù)通常分為至少兩種-物理氣相沉積(physical vapor deposition , PVD)和化學(xué)氣象沉積(chemical vapor deposition , CVD)。根據(jù)沉積技術(shù)和工藝參數(shù)，沉積的薄膜可具有單晶(crystal I ine)、多晶(polycrystalline)或無(wú)定形/非晶(amorphous)結(jié)構(gòu)。單晶結(jié)構(gòu)薄膜通常作為對(duì)制造集成電路非常重要的磊晶層。例如，磊晶層由半導(dǎo)體制成且在形成過(guò)程摻雜，使其具有準(zhǔn)確的摻雜分布(dopant profile)而不會(huì)被氧氣和/或碳雜質(zhì)所污染。一種化學(xué)氣相沉積法叫做有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積。對(duì)于有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積來(lái)講，可用至少一氣體載體將至少一氣相試劑(gas-phase reagent)和/或先驅(qū)物(precursor)帶至含至少一半導(dǎo)體基板例如為至少一半導(dǎo)體晶圓的反應(yīng)腔內(nèi)。半導(dǎo)體基板的背面通常用射頻感應(yīng)式(radio-frequency induction)或電阻式(resistor)加熱，以提高半導(dǎo)體基板及其周?chē)h(huán)境的溫度。在升高的溫度下，可產(chǎn)生至少一化學(xué)反應(yīng)，將該至少一試劑和/或先驅(qū)物(例如在氣相下)轉(zhuǎn)化成沉積在半導(dǎo)體基板表面的至少一固體產(chǎn)物。特別是，由有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積制成的磊晶層通常用于制造發(fā)光二極管。這些二極管的質(zhì)量由多種因素所決定，例如反應(yīng)腔內(nèi)部的流場(chǎng)穩(wěn)定性(flow stability)和/或溫度控制的精確度。這些因素可極大地影響磊晶層的均勻性。因此，亟需改變形成磊晶層的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種材料制造的方法和系統(tǒng)，特別是有關(guān)于一種用于形成半導(dǎo)體材料的磊晶層的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)和其相關(guān)方法。舉例來(lái)說(shuō)，本發(fā)明是用于有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積，可以理解地，本發(fā)明還可有更為廣泛的用途。根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，用于在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統(tǒng)包括一旋轉(zhuǎn)殼體(rotating shell)、一承載于旋轉(zhuǎn)殼體的承座部件(susceptorcomponent)以及一驅(qū)動(dòng)裝置。驅(qū)動(dòng)裝置位于承座部件下方且用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)殼體和承座部件旋轉(zhuǎn)于一承座軸(susceptor axis)。此外,本系統(tǒng)還包括至少一固定座齒輪(holder gear)以及一中心齒輪(central gear)。至少一固定座齒輪位于承座部件上與承座部件一同旋轉(zhuǎn)于承座軸，且用于支撐至少一基板。中心齒輪與至少一固定座齒輪相嚙合，其用于在至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于承座軸時(shí)使至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于至少一固定座軸(holderaxe)。根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例，用于在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統(tǒng)包括一旋轉(zhuǎn)殼體、一承載于旋轉(zhuǎn)殼體的承座部件以及一驅(qū)動(dòng)裝置。驅(qū)動(dòng)裝置位于承座部件下方用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)殼體和承座部件旋轉(zhuǎn)于一承座軸。此外，本系統(tǒng)還包括一固定座齒輪及一中心齒輪。固定座齒輪位于承座部件上與承座部件一同旋轉(zhuǎn)于承座軸，且用于支撐至少一基板。中心齒輪則與至少一固定座齒輪相哨合，其用于在至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于承座軸時(shí)使至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于至少一固定座軸。此外，本系統(tǒng)還包括位于承座部件上方且不與承座部件直接接觸的一噴氣部件(showerhead component)。根據(jù)本發(fā)明再一實(shí)施例，用于在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的方法包括利用一馬達(dá)驅(qū)動(dòng)一第一齒輪旋轉(zhuǎn)。第一齒輪與一第二齒輪相哨合。此外，本方法還包括利用第一齒輪使第二齒輪旋轉(zhuǎn)于一承座軸。第二齒輪連接至一旋轉(zhuǎn)殼體。再者，本方 法還包括利用第二齒輪驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)殼體旋轉(zhuǎn)于承座軸，以借由旋轉(zhuǎn)殼體使承座部件旋轉(zhuǎn)于承座軸。承座部件用于支撐至少一固定座齒輪。本方法更包括利用承座部件使至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于承座軸。上述的至少一固定座齒輪用于支撐至少一基板。此外，本方法還包括利用一中心齒輪使至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于至少一固定座軸。中心齒輪與至少一固定座齒輪相哨合，且至少一固定座軸不同于承座軸。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有多重效益。根據(jù)其中一些實(shí)施例，用于旋轉(zhuǎn)基板固定座(substrate holder)的系統(tǒng)用于旋轉(zhuǎn)基板。例如，基板的旋轉(zhuǎn)可以改善基板上反應(yīng)氣體的均勻性并可改善形成于基板上的薄膜的均勻性。在另一例子中，基板的旋轉(zhuǎn)可以改善基板的背面加熱并改善薄膜的質(zhì)量。根據(jù)特定的實(shí)施例，基板固定座的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)包括一用于承載基板固定座的承座部件。此承座部件例如可使基板固定座旋轉(zhuǎn)于一承座軸。在另一例子中，基板固定座可分別旋轉(zhuǎn)于各自的固定座軸(holder axe)。在再一例子中,基板固定座的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)用于如有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積等薄膜沉積。依據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例可達(dá)到上述優(yōu)點(diǎn)中至少一個(gè)。為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文配合圖式詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖IA和IB所不為本發(fā)明一實(shí)施例的一種用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的示意圖。圖2A所示為本發(fā)明一實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的中心齒輪和固定座齒輪相嚙合的示意圖。圖2B所示為本發(fā)明一實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的基板固定座、固定座齒輪以及固定座環(huán)組裝在一起的示意圖。圖3所示為本發(fā)明一實(shí)施例中基板固定座的旋轉(zhuǎn)作為用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的一部分的示意圖。圖4為所示為本發(fā)明另一實(shí)施例中基板固定座的旋轉(zhuǎn)作為用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的一部分的示意圖。
圖5A和5B所不為本發(fā)明一實(shí)施例中包括用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的一反應(yīng)系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的用于形成薄膜的方法及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。本發(fā)明涉及一種材料制造的方法和系統(tǒng)，特別是有關(guān)于一種用于形成半導(dǎo)體材料的磊晶層的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)和其相關(guān)方法。舉例來(lái)說(shuō)，本發(fā)明是用于有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積，可以理解地，本發(fā)明還可有更為廣泛的用途。圖IA和IB所不為本發(fā)明一實(shí)施例的一種用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的示意圖。這些示意圖僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。本發(fā)明一實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100包括 一承座部件110、一旋轉(zhuǎn)殼體112、一內(nèi)齒輪114、一外齒輪116以及一馬達(dá)118。此外，旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100包括一中心齒輪120。進(jìn)一步的，該旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100包括至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環(huán)134?；骞潭ㄗ?30例如可用于固定至少一基板140 (例如為至少一晶圓)。在另一例子中，內(nèi)齒輪114和外齒輪116形成一驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),該驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)還包括馬達(dá)118。雖然上文示出了系統(tǒng)100所選的一個(gè)元件組合，但還可有多種的替代方案、改變和變形。例如，其中的一些元件可被擴(kuò)展和/或組合在一起。也可在上述元件中插入其它元件。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，元件的配置方式可與其它的替代方案互換。在一實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)殼體112在其底部固定有內(nèi)齒輪114，并在其頂部直接或間接地支撐承座部件110。例如，旋轉(zhuǎn)殼體112在其頂部固定有承座部件110。在另一例子中，內(nèi)齒輪114和外齒輪116相嚙合。在再一例子中，馬達(dá)118驅(qū)動(dòng)外齒輪116旋轉(zhuǎn)，使得內(nèi)齒輪114也相應(yīng)旋轉(zhuǎn)。根據(jù)一實(shí)施例，內(nèi)齒輪114的旋轉(zhuǎn)可使旋轉(zhuǎn)殼體112和承座部件110旋轉(zhuǎn)于一共同軸(例如為一承座軸)。例如，旋轉(zhuǎn)殼體112可利用一回轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)軸承(slewingbearing)旋轉(zhuǎn)。根據(jù)另一實(shí)施例，在承座部件110上設(shè)有至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環(huán)134。例如,上述的至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環(huán)134也與承座部件110旋轉(zhuǎn)于同一軸。在另一例子中，每一固定座齒輪132支撐一基板固定座130,每一基板固定座130用于承載一基板140 (例如為一晶圓)。根據(jù)其中一些實(shí)施例，中心齒輪120與至少一固定座齒輪132相嚙合。在一實(shí)施例中，中心齒輪120在至少一固定座齒輪132與承座部件110旋轉(zhuǎn)于共軸時(shí)靜止，使得至少一固定座齒輪132分別旋轉(zhuǎn)于對(duì)應(yīng)的固定座軸。在另一實(shí)施例中，在中心齒輪120沿一方向繞共軸以一角速度旋轉(zhuǎn)時(shí)，至少一固定座齒輪132與承座部件110繞共軸沿同一方向以不同的速度旋轉(zhuǎn)，使得至少一固定座齒輪132分別繞對(duì)應(yīng)的固定座軸旋轉(zhuǎn)。例如，至少一固定座齒輪132旋轉(zhuǎn)于對(duì)應(yīng)的固定座軸旋轉(zhuǎn)的角速度由中心齒輪120和至少一固定座齒輪132中每一個(gè)齒輪的齒數(shù)比以及中心齒輪120和繞共軸的至少一固定座齒輪132中每一個(gè)齒輪的角速度比來(lái)決定。在再一實(shí)施例中，當(dāng)中心齒輪120沿一方向繞共軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，至少一固定座齒輪132與承座部件110繞共軸沿不同方向旋轉(zhuǎn)，使得至少一固定座齒輪132分別繞對(duì)應(yīng)的固定座軸旋轉(zhuǎn)。根據(jù)特定的實(shí)施例，至少一固定座齒輪132固定于至少一基板固定座130,使至少一基板固定座130也分別旋轉(zhuǎn)于對(duì)應(yīng)的固定座軸。根據(jù)其中一些實(shí)施例，至少一固定座齒輪132通過(guò)至少一球軸承分別與至少一固定座環(huán)134相接觸。例如，至少一固定座環(huán)134固定于承座部件110，以使其不會(huì)與至少一固定座齒輪132 —起繞固定座軸旋轉(zhuǎn)。圖IA還示出在分解狀態(tài)下的一基板固定座130、一固定座齒輪132以及一固定座環(huán)134，以及由至少一固定座齒輪132上拆下的中心齒輪120，以清楚示出這些元件。圖2A所示為本發(fā)明一實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100的中心齒輪120和固定座齒輪132相嚙合的示意圖。此外，圖2B所示為本發(fā)明一實(shí)施例中旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100的基板固定座130、固定座齒輪132以及固定座環(huán)134組裝在一起的示意圖。這些示意圖僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改動(dòng)。
如上文所述并在本處所強(qiáng)調(diào)，圖1A、1B、2A和2B僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。例如，可移除至少一基板固定座130以使至少一固定座齒輪132中的每一個(gè)都用于直接支撐至少一基板140 (例如為至少一晶圓)，且至少一基板140與對(duì)應(yīng)的固定座齒輪132可繞該共軸和/或?qū)?yīng)的固定座軸旋轉(zhuǎn)。在另一例子中，在圖4所示的實(shí)施例中移除了至少一固定座環(huán)134。圖3所不為本發(fā)明一實(shí)施例中基板固定座130的旋轉(zhuǎn)作為用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100的一部分的示意圖。該示意圖僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。如圖3所不,至少一固定座齒輪132中的每一個(gè)形成一用于支撐對(duì)應(yīng)基板固定座130的中空環(huán)。例如，至少一固定座齒輪132中的每一個(gè)和對(duì)應(yīng)的基板固定座130利用一球軸承320繞一固定座軸310旋轉(zhuǎn)。在另一例子中，球軸承320位于固定座齒輪132的底部溝槽和固定座環(huán)134的頂部溝槽之間。在再一例子中，固定座環(huán)134固設(shè)于承座部件110。圖4為所示為本發(fā)明另一實(shí)施例中基板固定座的旋轉(zhuǎn)作為用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的一部分的示意圖。該示意圖僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。如圖4所不,至少一固定座齒輪132中的每一個(gè)形成一用于支撐對(duì)應(yīng)基板固定座130的中空環(huán)。例如，至少一固定座齒輪132中的每一個(gè)和對(duì)應(yīng)的基板固定座130利用一球軸承420繞一固定座軸410旋轉(zhuǎn)。在另一例子中，球軸承420位于一內(nèi)環(huán)430的溝槽和固定座環(huán)134之間。在再一例子中，內(nèi)環(huán)430固設(shè)于基板固定座130。圖5A和5B所不為本發(fā)明一實(shí)施例中包括用于在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)100的一反應(yīng)系統(tǒng)的示意圖。這些示意圖僅用于舉例而不會(huì)不當(dāng)?shù)叵薅ūＷo(hù)的范圍。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。例如，圖5A為反應(yīng)系統(tǒng)1100的側(cè)視圖，圖5B為反應(yīng)系統(tǒng)1100的俯視圖。在另一例子中，反應(yīng)系統(tǒng)1100包括一噴氣部件1110、一承座部件110、輸入口 1101-1104、至少一基板固定座130、至少一加熱裝置1124、一輸出口 1140以及一中心元件1150。在再一例子中，中心元件1150、噴氣部件1110、承座部件110以及至少一基板固定座130 (例如位于承座部件110上)形成一具有輸入口 1101-1104和輸出口 1140的反應(yīng)腔室1160。在再一例子中，至少一基板固定座130中每一個(gè)都用于承載至少一基板140 (例如為至少一晶圓)。雖然上文示出了系統(tǒng)1100所選的一個(gè)元件組合，但還可有多種的替代方案、改變和變形。例如，其中的一些元件可被擴(kuò)展和/或組合在一起。也可在上述元件中插入其它元件。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，元件的配置方式可與其它的替代方案互換。根據(jù)一實(shí)施例，輸入口 1101形成于中心元件1150內(nèi)且用于在平行于噴氣部件1110的一表面1112的方向提供氣體。例如，中心元件1150位于中心齒輪120上方(above)(例如上面(on))。在另一例子中,氣體流入(例如先向上流動(dòng)(flow up))反應(yīng)腔室1160且靠近反應(yīng)腔室1160的中心,然后流過(guò)輸入口 1101向外輻射狀的離開(kāi)反應(yīng)腔室1160的中心。根據(jù)另一實(shí)施例，輸入口 1102-1104形成于噴氣部件1110內(nèi)且在垂直于表面1112的方向提供氣體。例如，表I示出通過(guò)輸入口 1101-1104提供的各種氣體。表I
權(quán)利要求
1.一種用于在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)包括一旋轉(zhuǎn)殼體、一承座部件、一驅(qū)動(dòng)裝置、至少一固定座齒輪以及一中心齒輪，該承座部件承載于該旋轉(zhuǎn)殼體，該驅(qū)動(dòng)裝置位于該承座部件下方，其用于驅(qū)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)殼體和該承座部件旋轉(zhuǎn)于一承座軸，該至少一固定座齒輪位于該承座部件上，與該承座部件一同旋轉(zhuǎn)于該承座軸且用于支撐該至少一基板，該中心齒輪與該至少一固定座齒輪相嚙合，其用于在該至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于該承座軸時(shí)使該至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于該至少一固定座軸。
2.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)更包括至少一基板固定座分別連接于該至少一固定座齒輪，且與該至少一固定座齒輪一同旋轉(zhuǎn)于該承座軸，其中該至少一固定座齒輪借由該至少一基板固定座支撐該至少一基板，該至少一基板固定座用于承載該至少一基板。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于該中心齒輪可設(shè)定成在該至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于該承座軸時(shí)使該至少一基板固定座與該至少一固定座齒輪一同旋轉(zhuǎn)于該至少一固定座軸。
4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于該至少一固定座齒輪的每一個(gè)都具有一用于支撐一對(duì)應(yīng)基板固定座的中空環(huán)，該對(duì)應(yīng)基板固定座選自該至少一基板固定座。
5.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于該中心齒輪可設(shè)定成在該至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于該承座軸時(shí)不旋轉(zhuǎn)于該承座軸。
6.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于該中心齒輪可設(shè)定成在該至少一固定座齒輪以一第二角速度沿一第二方向旋轉(zhuǎn)于該承座軸時(shí)以一第一角速度沿一第一方向旋轉(zhuǎn)于該承座軸。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其特征在于該第一方向不同于該第二方向，且該第一角速度不同于該第二角速度。
8.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于該驅(qū)動(dòng)裝置包括一位于該承座部件下方且連接該旋轉(zhuǎn)殼體的第一齒輪，以及一與該第一齒輪相哨合且用于使該第一齒輪旋轉(zhuǎn)于該承座軸的第二齒輪。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)更包括一用于驅(qū)動(dòng)該第二齒輪以使該第一齒輪旋轉(zhuǎn)于該承座軸的馬達(dá)。
10.如權(quán)利要求I所述的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)更包括至少一球軸承，其用于支撐該至少一固定座齒輪且使該至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于該至少一固定座軸。
11.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)更包括至少一固定座環(huán)，其連接于該承座部件且分別位于該承座部件和該至少一固定座齒輪之間。
12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于該至少一球軸承中的每一個(gè)均位于一對(duì)應(yīng)固定座環(huán)的一第一溝槽和一對(duì)應(yīng)固定座齒輪的一第二溝槽之間，該對(duì)應(yīng)固定座環(huán)選自該至少一固定座環(huán)，該對(duì)應(yīng)固定座齒輪選自該至少一固定座齒輪，該第一溝槽位于該第二溝槽下方。
13.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)更包括 至少一基板固定座分別連接于該至少一固定座齒輪，與該至少一固定座齒輪一同旋轉(zhuǎn)于該承座軸且用于承載該至少一基板；至少一外環(huán)連接該承座部件；以及 至少一內(nèi)環(huán)分別連接該至少一基板固定座。
14.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于該至少一球軸承中的每一個(gè)均位于一對(duì)應(yīng)外環(huán)的一外溝槽和一對(duì)應(yīng)內(nèi)環(huán)的一內(nèi)溝槽之間，該對(duì)應(yīng)外環(huán)選自該至少一外環(huán)，該對(duì)應(yīng)內(nèi)環(huán)選自該至少一內(nèi)環(huán)。
15.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于該至少一內(nèi)環(huán)與該至少一固定座齒輪不直接接觸。
全文摘要
一種用于形成薄膜的方法及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)，本發(fā)明的系統(tǒng)包括一旋轉(zhuǎn)殼體、一承載于旋轉(zhuǎn)殼體的承座部件以及一位于承座部件下方且用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)殼體和承座部件旋轉(zhuǎn)于一承座軸的驅(qū)動(dòng)裝置。此外，本系統(tǒng)還包括至少一固定座齒輪以及一中心齒輪。至少一固定座齒輪位于承座部件上與承座部件旋轉(zhuǎn)于承座軸且支撐至少一基板。中心齒輪與至少一固定座齒輪相嚙合，其用于在至少一固定座齒輪旋轉(zhuǎn)于承座軸時(shí)使至少一固定座齒輪分別旋轉(zhuǎn)于至少一固定座軸。
文檔編號(hào)C23C16/458GK102828170SQ20111025188
公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月16日
發(fā)明者方政加, 楊成傑, 劉恒 申請(qǐng)人:綠種子能源科技股份有限公司