專利名稱：蒸鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍裝置。
背景技術(shù)：
具有相機(jī)模組的便攜式裝置，例如，手機(jī)、筆記本電腦等，越來越受到消費者的青
睞。為提升相機(jī)模組的光學(xué)性能，需要在透鏡表面鍍上多種鍍膜，如抗反射膜，濾光膜等。鍍
膜均勻性直接影響透鏡的光學(xué)性能。因此，如何提高鍍膜均勻性是一個重要課題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能夠提高鍍膜均勻性的蒸鍍裝置。一種蒸鍍裝置，其包括傘架，至少一個膜料盤，及驅(qū)動裝置。該傘架用于承載待鍍
膜元件。該膜料盤與該傘架相對設(shè)置，用于盛放膜料。該驅(qū)動裝置與該膜料盤相連接，用于
驅(qū)動該膜料盤轉(zhuǎn)動以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角。本發(fā)明的蒸鍍裝置通過驅(qū)動該膜料盤以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角，
從而改變膜料粒子的發(fā)射角度，進(jìn)而提高鍍膜的均勻性。


圖I是本發(fā)明較佳實施方式的蒸鍍裝置的示意圖。圖2是圖I的蒸鍍裝置的離子源、膜料盤、電子槍和驅(qū)動裝置的立體示意圖。圖3是圖I的蒸鍍裝置的離子源、膜料盤、電子槍和驅(qū)動裝置的另一角度的立體示意圖。圖4是圖I的IV區(qū)域的局部放大圖。主要元件符號說明
蒸鍍裝置 I ο 腔體~
傘架Ti"
電子槍TF
―離子源TT
膜料盤_15
驅(qū)動裝置_16
平整蓋TT
驅(qū)動軸_18
旋轉(zhuǎn)軸122
容置槽_152
待鍍膜元件 20 膜料~
電子束發(fā)射^
離子發(fā)射口 142 底座 162 驅(qū)動桿_164如下具體實施方式
將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。
具體實施例方式下面將結(jié)合附圖及實施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1-4所示，本發(fā)明較佳實施方式的蒸鍍裝置10包括腔體11，傘架12，六個電子槍13，離子源14，六個膜料盤15，六個平整蓋17，及驅(qū)動裝置16。所述腔體11為真空腔體，其通過相連通的真空泵(圖未示)來獲得內(nèi)部的真空環(huán)境。傘架12，電子槍13，離子源14，膜料盤15，驅(qū)動裝置16均設(shè)置于所述腔體11的內(nèi)部。所述傘架12用于承載待鍍膜元件20，并使待鍍膜元件20的待鍍表面朝向膜料盤 15。所述傘架12通過旋轉(zhuǎn)軸122設(shè)置于所述腔體11的上部。所述傘架12可以繞旋轉(zhuǎn)軸122旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸122可以與一個轉(zhuǎn)動裝置(圖未示)連接，例如與馬達(dá)連接。六個膜料盤15圍繞著離子源14等間隔設(shè)置，每個膜料盤15分別通過一個樞軸(圖未示)與離子源14活動連接。每個膜料盤15大致為扇形，每個膜料盤15朝向傘架12的表面開設(shè)有收容膜料30的容置槽152。在本實施方式中，容置槽152為圓柱形。每個容置槽152內(nèi)的膜料30可以根據(jù)實際需要選擇，可以相同，也可以不同。每個平整蓋17通過一個驅(qū)動軸18連接于相應(yīng)的膜料盤15朝向傘架12的表面。驅(qū)動軸18與容置槽152相鄰設(shè)置，驅(qū)動軸18可以驅(qū)動平整蓋17沿著平行于驅(qū)動軸18的方向上下運動，從而平整容置槽152內(nèi)的膜料30，提高鍍膜均勻性。驅(qū)動軸18還可以驅(qū)動平整蓋17繞驅(qū)動軸18旋轉(zhuǎn)，從而開啟或遮擋容置槽152內(nèi)的膜料30。電子槍13可以直接放置在腔體11的底壁上，也可以通過螺釘?shù)确绞焦潭ㄔO(shè)置在腔體11的底壁。兩個相鄰的膜料盤15之間設(shè)置有一個電子槍13。電子槍13用于產(chǎn)生加熱膜料30的高能電子束，高能電子束在磁場(圖未示)的作用下沿著圓弧形路徑射向膜料30，以使膜料30蒸發(fā)形成膜料粒子。電子槍13為長方體形，電子槍13的一側(cè)開設(shè)有電子束發(fā)射口 132，電子束發(fā)射口 132朝向與該電子槍13對應(yīng)的膜料盤15。離子源14可以通過螺釘?shù)确绞焦潭ㄔO(shè)置在腔體11的底壁上。離子源14的中心軸線與旋轉(zhuǎn)軸122同軸設(shè)置。所述離子源14為等離子體離子源，其用于形成蒸鍍所需的等離子體，等離子體在真空環(huán)境中與膜料粒子相碰撞，使膜料粒子獲得額外能量，膜料粒子撞向待鍍表面后將附著于待鍍表面，形成所需的膜層。所述離子源14朝向所述傘架12。離子源14頂部的橫截面為正六邊形，離子源14的頂部開設(shè)有一個朝向傘架12的離子發(fā)射口142。每個驅(qū)動裝置16包括底座162和驅(qū)動桿164。底座162固設(shè)在離子源14底部的側(cè)面上，驅(qū)動桿164的一端與底座162配合，驅(qū)動桿164的另一端插入對應(yīng)的膜料盤15，并與其固定連接。驅(qū)動桿164與膜料盤15可以通過螺釘或焊接等方式固定。驅(qū)動桿164用于驅(qū)動膜料盤15以改變膜料30的表面相對于傘架12的傾角。驅(qū)動裝置16可以是液壓裝置或者線性馬達(dá)等。本發(fā)明的蒸鍍裝置通過驅(qū)動該膜料盤以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角，從而改變膜料粒子的發(fā)射角度，進(jìn)而可以提高鍍膜的均勻性。另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種蒸鍍裝置，其包括 傘架，該傘架用于承載待鍍膜元件； 至少一個膜料盤，該膜料盤與該傘架相對設(shè)置，用于盛放膜料；及 與該膜料盤相連接的驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動該膜料盤轉(zhuǎn)動以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角。
2.如權(quán)利要求I所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該蒸鍍裝置進(jìn)一步包括至少一個平整蓋，該平整蓋通過驅(qū)動軸連接于該膜料盤朝向該傘架的表面，該驅(qū)動軸可以驅(qū)動該平整蓋沿著平行于驅(qū)動軸的方向運動，從而平整該容置槽內(nèi)的膜料。
3.如權(quán)利要求I所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該膜料盤朝向該傘架的表面開設(shè)有用于收容該膜料的容置槽。
4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該蒸鍍裝置進(jìn)一步包括至少一個平整蓋，該平整蓋通過驅(qū)動軸連接于該膜料盤朝向該傘架的表面，該驅(qū)動軸可以驅(qū)動該平整蓋繞該驅(qū)動軸旋轉(zhuǎn)，從而開啟或遮擋該容置槽內(nèi)的膜料。
5.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該容置槽為圓柱形。
6.如權(quán)利要求I所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該至少一個膜料盤包括多個膜料盤，該蒸鍍裝置進(jìn)一步包括離子源，該多個膜料盤圍繞該離子源等間隔排布。
7.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，每兩個相鄰的膜料盤之間設(shè)置有一個電子槍。
8.如權(quán)利要求I所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該驅(qū)動裝置為液壓裝置。
9.如權(quán)利要求I所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該膜料盤為扇形。
全文摘要
一種蒸鍍裝置，其包括傘架，至少一個膜料盤，及驅(qū)動裝置。該傘架用于承載待鍍膜元件。該膜料盤與該傘架相對設(shè)置，用于盛放膜料。該驅(qū)動裝置與該膜料盤相連接，用于驅(qū)動該膜料盤轉(zhuǎn)動以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角。本發(fā)明的蒸鍍裝置通過驅(qū)動該膜料盤轉(zhuǎn)動以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角，從而改變膜料粒子的發(fā)射角度，進(jìn)而提高鍍膜的均勻性。
文檔編號C23C14/32GK102808156SQ20111014365
公開日2012年12月5日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司