專利名稱：銀靶材濺射系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于集成電路制成領(lǐng)域，涉及一種具有冷卻系統(tǒng)的銀靶材濺射系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體器件制備過程中，尤其是集成電路生產(chǎn)中，對晶圓片的背面金屬化工藝是一個(gè)非常重要的制程。背面蒸發(fā)臺主要用于特定制成的晶圓工藝過程，通過特定制成將金屬鍍于晶圓的背面，而目前使用的設(shè)備，銀靶材與其他靶材( 鈦、鎳)使用的均為普通的常溫冷卻水，但在現(xiàn)有的工藝過程中，我們發(fā)現(xiàn)因?yàn)殂y靶材需要工藝的時(shí)間較長，會(huì)出現(xiàn)部分銀溶化的現(xiàn)象，在晶圓表面形成黑色的點(diǎn)狀物，從而影響產(chǎn)品的質(zhì)量。從現(xiàn)有的設(shè)備情況來看，銀靶材使用的冷卻水與其他進(jìn)行濺射工藝的靶材一樣，使用的是常溫的冷卻水，一般溫度在19攝氏度，其來自于設(shè)備自帶的冷卻水系統(tǒng)，這種方法可以起到一定的對靶材降溫冷卻的效果，但對于長時(shí)間的工藝過程而言，并不能滿足需要，尤其是對使用銀靶材進(jìn)行濺射作業(yè)的情況，因?yàn)楫a(chǎn)品質(zhì)量與銀靶材的冷卻情況密不可分，而所述自帶冷卻水系統(tǒng)所用的冷卻水是只是常溫，無法提供更佳的冷卻效果，從而無法提高晶圓出片的產(chǎn)品質(zhì)量。鑒于上述問題，有必要提供一種具有改良型冷卻水系統(tǒng)的銀靶材濺射系統(tǒng)來解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所解決的技術(shù)問題在于提供一種銀靶材濺射系統(tǒng)，其通過改善的冷卻水系統(tǒng)大大提聞冷卻效果，并由此提聞廣品的質(zhì)量。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種銀靶材濺射系統(tǒng)，其包括銀靶材及冷卻水系統(tǒng)，所述銀靶材設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第一回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第二回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)置于所述銀靶材系統(tǒng)外，且所述第二進(jìn)水管路和第二回水管路分別與第一進(jìn)水管路和第一回水管路對接，所述冷卻水系統(tǒng)內(nèi)的冷卻水溫度低于15攝氏度，且冷卻水進(jìn)入銀靶材的流量在10L/min以上。進(jìn)一步地，所述的第一、第二進(jìn)水管路和第一、第二回水管路的管道外壁上設(shè)有隔熱保護(hù)層。進(jìn)一步地，所述冷卻水的壓力在50PSI以下，但不低于30PSI。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的銀靶材濺射系統(tǒng)使用低溫冷卻水系統(tǒng)冷卻，取代傳統(tǒng)的室溫冷卻，大大改善了冷卻效果，并可使產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供一種銀靶材濺射系統(tǒng)，其包括銀靶材及冷卻水系統(tǒng)，所述銀靶材設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第一回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第二回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)置于所述銀靶材系統(tǒng)外，并通過第二進(jìn)水管路和第二回水管路分別與第一進(jìn)水管路和第一回水管路的對接，實(shí)現(xiàn)了冷卻水系統(tǒng)與銀靶材的連接，利用冷卻水系統(tǒng)的低溫冷卻水對銀靶材進(jìn)行冷卻，該冷卻水系統(tǒng)可以是任何一種具有低溫冷卻水的系統(tǒng)，例如在半導(dǎo)體制程領(lǐng)域中經(jīng)常使用的冷卻水循環(huán)設(shè)備(又叫冷卻機(jī))。本發(fā)明所述的銀靶材濺射系統(tǒng)將銀靶材方向的冷卻水進(jìn)水管路和回水管路關(guān)掉，不再使用自帶的冷卻水系統(tǒng)(一般溫度在19攝氏度)，而與一全新的所述冷卻水系統(tǒng)連接，所述冷卻水系統(tǒng)的第二進(jìn)水管路和第二回水管路分別與所述銀靶材的第一進(jìn)水管路和第二回水管路相接，運(yùn)作時(shí)，保證冷卻水系統(tǒng)可以提供循環(huán)冷卻水的水溫度低于室溫15攝氏度左右，保證進(jìn)入銀靶材的冷卻水的流量在10L/min以上，壓力在50PSI以下，但不低于30PSI。另外，由于進(jìn)入銀靶材內(nèi)的冷卻水溫度較室溫較低，所述進(jìn)水管路和回水管路均會(huì)產(chǎn)生冷凝水，因此，本發(fā)明所述的進(jìn)水管路和回水管路的管道外壁上均采取了隔熱保護(hù)層，一方面以保證若管路過長造成低溫冷卻水冷卻效果下降，另一方面也保證了管道不會(huì)產(chǎn)生冷凝水滴落而污染環(huán)境或造成設(shè)備、電子元件短路等其他異常。相比于現(xiàn)有技術(shù)中普 通的常溫冷卻而言，使用本發(fā)明所述的低溫冷卻水系統(tǒng)冷卻，可以使銀靶材的工藝時(shí)間更長，所加的功率更大，在相同的工藝制程下使產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定。以上所述，僅是本發(fā)明的最佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，利用上述揭示的方法內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，均屬于權(quán)利要求書保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求
1.一種銀靶材濺射系統(tǒng)，其包括銀靶材及冷卻水系統(tǒng)，所述銀靶材設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第一回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第二回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)置于所述銀靶材系統(tǒng)外，且所述第二進(jìn)水管路和第二回水管路分別與第一進(jìn)水管路和第一回水管路對接，其特征在于所述冷卻水系統(tǒng)內(nèi)的冷卻水溫度低于15攝氏度，且冷卻水進(jìn)入銀靶材的流量在10L/min以上。
2.如權(quán)利要求I所述的銀靶材濺射系統(tǒng)，其特征在于所述的第一、第二進(jìn)水管路和第一、第二回水管路的管道外壁上設(shè)有隔熱保護(hù)層。
3.如權(quán)利要求2所述的銀靶材濺射系統(tǒng)，其特征在于所述冷卻水的壓力在50PSI以下，但不低于30PSI。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種銀靶材濺射系統(tǒng)，其包括銀靶材及冷卻水系統(tǒng)，所述銀靶材設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第一回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)設(shè)有一第一進(jìn)水管路和第二回水管路，所述冷卻水系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)置于所述銀靶材系統(tǒng)外，且所述第二進(jìn)水管路和第二回水管路分別與第一進(jìn)水管路和第一回水管路對接，所述冷卻水系統(tǒng)內(nèi)的冷卻水溫度低于15攝氏度，且冷卻水進(jìn)入銀靶材的流量在10L/min以上。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的銀靶材濺射系統(tǒng)使用低溫冷卻水系統(tǒng)冷卻，取代傳統(tǒng)的室溫冷卻，大大改善了冷卻效果，并可使產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定。
文檔編號C23C14/16GK102808158SQ201110143568
公開日2012年12月5日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者郝鑫杰, 羅明新 申請人:無錫華潤上華半導(dǎo)體有限公司, 無錫華潤上華科技有限公司