專利名稱：一種化學鍍鎳裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種化學鍍鎳領(lǐng)域，具體涉及一種化學鍍鎳裝置。
背景技術(shù)：
目前化學鍍鎳的裝置是直接將鍍液放置于不銹鋼鍍槽中，再將不銹鋼鍍槽放置在 有溫控加熱器和水的貯槽中，通過水的導(dǎo)熱作用維持不銹鋼鍍槽中鍍液的溫度，但是現(xiàn)有 技術(shù)中不銹鋼鍍槽會吸附沉積鍍液中的金屬離子，同時鍍液本身的酸堿性使得鍍槽存在腐 蝕嚴重、使用壽命短的問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種化學鍍鎳裝置，本實用新型在鍍槽中 設(shè)有內(nèi)襯袋，解決了不銹鋼鍍槽吸附沉積鍍液中的金屬離子的問題。本發(fā)明通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)。一種化學鍍鎳裝置，包括貯槽1和位于貯槽中的鍍槽6，還包括設(shè)置在所述鍍槽6 中的內(nèi)襯袋4。所述內(nèi)襯袋4與鍍槽6內(nèi)表面無間距。所述內(nèi)襯袋4還可以懸于鍍槽6中，與鍍槽6內(nèi)表面有間距；在所述鍍槽6上設(shè)有 孔2。優(yōu)選所述孔2均勻設(shè)在鍍槽6的側(cè)壁和底面。所述內(nèi)襯袋4為耐高溫聚乙烯袋。本實用新型的內(nèi)襯袋可以直接覆蓋在鍍槽內(nèi)表面，貯槽中的水的熱量通過鍍槽熱 傳遞來加熱內(nèi)襯袋，內(nèi)襯袋也可以中空懸掛于鍍槽6中，水通過鍍槽上的孔流入到鍍槽中， 加熱內(nèi)襯袋。本發(fā)明在鍍槽的上方采用現(xiàn)有技術(shù)已有的攪拌器，攪拌鍍液。同時溫控加熱 器采用現(xiàn)有技術(shù)已有的電加熱，維持鍍液溫度的恒定，簡單且易控制溫度。本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)所具有的優(yōu)點和有益效果本實用新型通過在鍍槽中設(shè)置內(nèi)襯袋，防止不銹鋼鍍槽被腐蝕，延長了鍍槽的使 用壽命。

圖1為本實用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，貯槽1，孔2，水3，耐高溫聚乙烯袋4，鍍液5，鍍槽6。
具體實施方式
實施例1如圖1所述本實用新型一種化學鍍鎳裝置，包括貯槽1和位于貯槽中的鍍槽6，還 包括設(shè)置在鍍槽6中的內(nèi)襯袋4。內(nèi)襯袋4懸于鍍槽6中，內(nèi)襯袋可以固定在鍍槽上或者固定在鍍槽上方的固定物，內(nèi)襯袋與鍍槽6內(nèi)表面留有間距；在所述鍍槽6上設(shè)有孔2，使得 熱水流入鍍槽6中來加熱內(nèi)襯袋4中的鍍液。鍍槽6的側(cè)壁和底面均勻設(shè)有孔2。所述內(nèi) 襯袋4為耐高溫聚乙烯袋，所述高溫為90度。 本實用新型在鍍槽的上方采用現(xiàn)有技術(shù)已有的攪拌器，攪拌鍍液。同時貯槽中溫 控加熱器可以采用現(xiàn)有技術(shù)已有的電加熱，來加熱貯槽中的水維持鍍液溫度的恒定，簡單 且易于控制溫度。
權(quán)利要求1.一種化學鍍鎳裝置，包括貯槽(1)和位于貯槽中的鍍槽⑴)，其特征在于，還包括設(shè) 置在所述鍍槽(6)中的內(nèi)襯袋G)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學鍍鎳裝置，其特征在于，所述內(nèi)襯袋(4)與鍍槽(6) 內(nèi)表面無間距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學鍍鎳裝置，其特征在于，所述內(nèi)襯袋(4)懸于鍍槽 (6)中，與鍍槽內(nèi)表面有間距；在所述鍍槽(6)上設(shè)有孔O)。3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種化學鍍鎳裝置，其特征在于，所述孔( 均勻設(shè)在鍍槽的 側(cè)壁和底面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3之一所述的一種化學鍍鎳裝置，其特征在于，所述內(nèi)襯袋(4)為耐高溫聚乙烯袋。
專利摘要本實用新型公開了一種化學鍍鎳裝置，包括貯槽(1)和位于貯槽中的鍍槽(6)，還包括設(shè)置在鍍槽(6)中的內(nèi)襯袋(4)。內(nèi)襯袋(4)懸于鍍槽(6)中，與鍍槽(6)內(nèi)表面有間距；在所述鍍槽(6)上設(shè)有孔(2)，使得熱水流入鍍槽(6)中來加熱內(nèi)襯袋(4)中的鍍液。鍍槽(6)的側(cè)壁和底面均勻設(shè)有孔(2)。所述內(nèi)襯袋(4)為耐高溫聚乙烯袋。本實用新型通過在鍍槽中設(shè)置內(nèi)襯袋，防止不銹鋼鍍槽被腐蝕，延長了鍍槽的使用壽命。
文檔編號C23C18/32GK201915145SQ20102065616
公開日2011年8月3日 申請日期2010年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月10日
發(fā)明者陳少慧 申請人:廣州晉惠化工科技有限公司