專利名稱：具有色彩之殼體及其表面處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有色彩之殼體及其表面處理方法，尤其涉及指一種可具有特定 色彩與金屬質(zhì)感的具有色彩之殼體及其加工方法。
背景技術(shù)：
隨著科技的迅速演進，行動電話、個人數(shù)字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、個人計算機與筆記型計算機等各式電子裝置發(fā)展迅速，其功能亦愈來愈豐富。 為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由 噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。惟，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金 屬質(zhì)感。另一方面，由于金屬鍍膜本身技術(shù)較為復(fù)雜而不易精密操控，因此現(xiàn)有技術(shù)始終只 能在殼體表面形成少數(shù)幾種傳統(tǒng)金屬色彩，未能于豐富色彩質(zhì)感方面有所突破。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可以具有特定色彩的具有色彩之殼體及其表面處理方 法。一種具有色彩之殼體包含基材、色彩層與結(jié)合層。所述基材的表面包含至少一平 滑區(qū)域，所述色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域，所述色彩層包含鉻金屬，所述色彩層于平滑區(qū) 域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于國際照明委員會(Commission Internationale de 1，eclairag, CIE) LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 59至83. 59，a*坐標介于-0. 55至0. 45，而b*坐標介 于-0. 60 至 0. 40。一種具有色彩之殼體之表面處理方法包括以下步驟提供一基材；形成一結(jié)合 層，覆蓋所述基材的表面；以及利用一物理氣相沉績制程形成一色彩層，覆蓋所述結(jié)合層表 面，其中色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 59至83. 59，a*坐 標介于-0. 55至0. 45，而b*坐標介于-0. 60至0. 40。所述的具有色彩之殼體藉由其色彩層提供特定色彩的金屬質(zhì)感。


圖1是本發(fā)明較佳實施例具有色彩之殼體的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1具有色彩之殼體的部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。圖3是本發(fā)明較佳實施例之色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)L*坐標之范圍的示意圖。圖4是本發(fā)明較佳實施例之色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)a*坐標與b*坐標之范圍 的示意圖。圖5是本發(fā)明較佳實施例對具有色彩之殼體進行表面處理的流程示意圖。
具體實施例方式請參閱圖1及圖2，本發(fā)明具有色彩之殼體的較佳實施例例如可為一行動電話的外殼，包括基材1、結(jié)合層2、色彩層3及選擇性之覆蓋層4。所述結(jié)合層2設(shè)于基材1的表 面，所述色彩層3設(shè)置于結(jié)合層2的表面，而覆蓋層4可設(shè)置于色彩層3的表面。所述基材1可包含不銹鋼等金屬材料或是玻璃等陶瓷材料，所述基材1可具有至 少一待鍍膜處理的表面，而待鍍膜處理的表面可以包含具有不同表面結(jié)構(gòu)的區(qū)域，例如包 含至少一平滑區(qū)域。所述結(jié)合層2設(shè)置于基材1與色彩層3之間，以接合基材1與色彩層 3。所述結(jié)合層2的材料可包含氮化鈦(CrN)或其它可提供附著效果的材料。所述色彩層 3可包含一層或復(fù)數(shù)層金屬材料，例如鉻合金。所述覆蓋層4可包含任何適當(dāng)?shù)慕^緣材料， 以提供保護效果。由于本發(fā)明具有色彩之殼體具有所述基材1、結(jié)合層2及色彩層3，所形 成之具有色彩之殼體的維氏硬度(Vickers hardness)可大于等于500HV。請參閱圖3與圖4，當(dāng)基材1的待鍍膜表面包含平滑區(qū)域時，本發(fā)明所提供的色彩 層3于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 59至83. 59，a* 坐標介于-0. 55至0. 45，而b*坐標介于-0. 60至0. 40。請參閱圖5，并一并參閱圖1與圖2，本發(fā)明具有色彩之殼體之表面處理方法包括 以下步驟首先，形成一行動電話外殼的基材1，所述基材1系由不銹鋼等金屬材料或是玻 璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可進一步對基材1進行表面處理，以滿足外殼的外觀色 質(zhì)需要，或可進一步調(diào)整基材1的平整度使后續(xù)形成于其表面上的結(jié)合層2具有高附著性。其次，在基材1表面上的預(yù)定位置形成一結(jié)合層2，例如結(jié)合層2的材料較佳包含 氮化鈦。實際生產(chǎn)中可以采用物理氣相沉積制程濺鍍的方法在基材1的表面上形成結(jié)合層 2，以基材1為基材，利用一鈦靶材濺鍍，采用射頻(RF)能量源激發(fā)氬氣電漿以27至33標 準立方公分每分鐘(standard cubic centimeter per minute, sccm)的流量沖擊革巴材，使 靶材表面的材質(zhì)噴濺出來，沉積至基材1表面。接著，在結(jié)合層2表面形成一色彩層3。所述色彩層3的材料較佳包含鉻合金。實際 生產(chǎn)中亦可以采用物理氣相沉積制程濺鍍的方法形成色彩層3。本發(fā)明的較佳實施例中，形 成色彩層3的物理氣相沉積制程轟擊鉻靶材的功率介于18至22千瓦，物理氣相沉積制程 之偏壓介于216至264伏特，物理氣相沉積制程的制程溫度介于攝氏88. 2至107. 8度，物理 氣相沉積制程的制程時間介于9至11分鐘，物理氣相沉積制程的制程壓力介于3. 6至4. 4 毫托耳，基材于物理氣相沉積制程中的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于1. 8至2. 2轉(zhuǎn)速每分鐘(revolution per minute, rpm)，基材于物理氣相沉積制程中的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于7. 2至8. 8rpm。針對制程 氣體流量部份，物理氣相沉積制程包括提供氬氣與氮氣，且氬氣的流量介于27至33sCCm， 氮氣的流量介于討至66sccm。根據(jù)上述流程步驟，本發(fā)明可在基材1與結(jié)合層2上形成所需的特定色彩與金屬 質(zhì)感。如前所述，當(dāng)基材1的待鍍膜表面為平滑表面時，前述流程步驟所形成的色彩層3的 色度坐標(L*，a*，b*)為(81. 59 83. 59,-0. 55 0. 45，-0. 60 0. 40)，此為現(xiàn)有具有色彩之殼 體所無法提供之色彩范圍。其后，可選擇性在色彩層3的表面形成一覆蓋層4。所述覆蓋層4可包含任何適當(dāng) 的絕緣材料，以提供保護效果。可以理解，本發(fā)明具有色彩之殼體的較佳實施例同樣適用于筆記型計算機、個人 數(shù)字助理等其它種類的電子裝置，或是任何需具有特定色彩與金屬質(zhì)感的裝置。使用裝配 有本發(fā)明具有色彩之殼體的較佳實施例的行動電話時，覆蓋于結(jié)合層表面的色彩層可提供特定色彩的金屬質(zhì)感，以滿足外殼的外觀色質(zhì)需要，從而形成具有豐富色彩與良好金屬質(zhì) 感的裝置。 應(yīng)該指出，上述實施方式僅為本發(fā)明的較佳實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本 發(fā)明精神內(nèi)做其它變化。這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護 的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種具有色彩之殼體，其特征在于，包含基材、色彩層及結(jié)合層，所述基材的表面包 含至少一平滑區(qū)域，所述色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域，所述色彩層包含鉻金屬，所述色彩層 于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 59至83. 59，a*坐標 介于-0. 55至0. 45，而b*坐標介于-0. 60至0. 40，所述結(jié)合層設(shè)置于基材與色彩層之間， 以接合基材與色彩層。
2.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
3.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述結(jié)合層包含氮化鈦。
4.如權(quán)利要求3所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述結(jié)合層在物理氣相沉積制 程中利用鈦靶材所形成。
5.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述色彩層包含鉻合金。
6.如權(quán)利要求5所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述色彩層在物理氣相沉積制 程中利用鉻靶材所形成。
7.如權(quán)利要求1所述的具有色彩之殼體，其特征在于所述具有色彩之殼體的維氏硬 度(Vickers hardness)大于等于 500HV。
8.一種具有色彩之殼體之表面處理方法，該方法包括下列步驟提供一基材；形成一結(jié)合層，覆蓋該基材的表面；以及利用一物理氣相沉積制程形成一色彩層，覆蓋所述結(jié)合層的表面，所述色彩層呈現(xiàn)的 色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 59至83. 59，a*坐標介于-0. 55至0. 45， 而b*坐標介于-0. 60至0. 40。
9.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
10.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述形成結(jié)合層的步驟包含物理 氣相沉積制程。
11.如權(quán)利要求10所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包含利 用鈦靶材進行濺鍍，所述結(jié)合層包含氮化鈦。
12.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包含利用 鉻靶材進行濺鍍，所述色彩層包含鉻合金。
13.如權(quán)利要求12所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程轟擊鉻 靶材的功率介于1. 8至2. 2千瓦。
14.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程之偏壓介 于216至264伏特。
15.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程溫 度介于攝氏88. 2至107. 8度。
16.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程時 間介于9至11分鐘。
17.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程壓 力介于3. 6至4. 4毫托耳。
18.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供氬氣，所述氬氣的流量介于27至33標準立方公分每分鐘(standard cubiccentimeter per minute, sccm)。
19.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供 氮氣，所述氮的流量介于M至66標準立方公分每分鐘。
20.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述基材于該物理氣相沉積制程 中的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于1. 8至2. 2轉(zhuǎn)速每分鐘(revolution per minute, rpm)。
21.如權(quán)利要求8所述的表面處理方法，其特征在于所述基材于該物理氣相沉積制程 中的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于7. 2至8. 8rpm。
全文摘要
一種具有色彩之殼體及其表面處理方法，包含基材、色彩層與結(jié)合層。所述基材的表面包含至少一平滑區(qū)域，所述色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域。所述色彩層包含鉻金屬，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81.59至83.59，a*坐標介于-0.55至0.45，而b*坐標介于-0.60至0.40。
文檔編號C23C14/34GK102137567SQ201010300798
公開日2011年7月27日 申請日期2010年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者凌維成, 吳佳穎, 廖名揚, 張慶州, 洪新欽, 王仲培, 簡士哲, 蔡泰生, 陳杰良, 魏朝滄, 黃建豪 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司