專利名稱：光量調整裝置和制造遮光葉片構件的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于攝像設備的光量調整裝置，并且特別涉及具有多個板狀的遮光 葉片構件的光量調整裝置和制造該遮光葉片構件的方法。
背景技術：
通常，比如數字式照相機等攝像設備使用安裝有遮光葉片構件的光圈單元。已 知與攝像鏡頭中的其它構件類似，當遮光葉片構件產生不期望的內部反射時，會導致 比如光斑和重影等圖像品質的劣化。為此，遮光葉片構件的表面涂覆有用于吸收光的涂 覆層，以防止圖像品質的劣化。另外，已知在具有遮光葉片構件的光圈單元中，由于遮光葉片構件的形成開 口并與光軸平行的端面上的反射而產生比如重影等圖像品質的劣化。為此，遮光葉片構 件的端面也涂覆有用于吸收光的涂覆層，或者遮光葉片構件的端面形成為復雜的形狀， 以防止圖像品質的劣化。例如，已經提出了一種用于通過注射成型(injection molding)使遮光葉片構件 的形成開口的端面被充分地薄壁化以防止端面上的內部反射的方法(例如，見日本特開 2006-84658 號公報)。另外，已經提出了如下方法以階梯狀(stepwise)或連續(xù)的彎曲狀形成遮光葉 片構件的形成開口的端面以使遮光葉片構件的端面充分地薄壁化，使得能夠減小在遮光 葉片構件的形成開口并且與光軸平行的端面中引起有害的后方反射的區(qū)域，從而減少比 如光斑和重影等圖像品質的劣化(例如，見日本特開2002-229095號公報)。但是，當通過注射成型形成遮光葉片構件時，必須使遮光葉片構件的端面薄壁 化，從而能夠使遮光葉片構件的端面較小。為此，設置在注射成型用的模具中的樹脂輸 入路徑被形成為極其狹窄，因此需要防止樹脂未填充并且還要防止由于樹脂的過填充而 形成毛刺(burr)。為此，進行注射成型以使遮光葉片構件的端面薄壁化伴隨著難以確定 注射成型條件的困難。另外，當通過注射成型形成遮光葉片構件時，通過注射成型使遮光葉片構件的 端面形成為由多個臺階構成的階梯狀的微細形狀或者連續(xù)的彎曲狀的微細形狀。為此， 設置在注射成型用的模具中的樹脂輸入路徑被形成為極其狹窄，因此需要防止樹脂未填 充并且還要防止由于樹脂的過填充而形成毛刺。為此，進行注射成型使得遮光葉片構件 的端面形成為由多個臺階構成的階梯狀的微細形狀或者連續(xù)的彎曲狀的微細形狀伴隨著 難以確定注射成型條件的困難。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供了具有遮光葉片構件的光量調整裝置，所述遮光葉片構件能夠通過 簡單的加工被制造出，以減少遮光葉片構件的與光軸平行的端面上的不期望的反射并且 防止比如光斑或重影等圖像品質的劣化，并且本發(fā)明還提供了制造該遮光葉片構件的方法。因此，本發(fā)明的第一方面提供了光量調整裝置，其包括驅動源；和多個 遮光葉片構件，所述驅動源的驅動力被傳遞到所述多個遮光葉片構件，以改變開口直 徑(aperture diameter)，其中，所述遮光葉片構件通過有遮光性的樹脂材料的注射成 型而形成，通過對所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的端面進行噴砂處理 (blasting),形成表面被粗糙化同時基本上維持所述遮光葉片構件的外形尺寸的開口端 面，并且形成相對于所述開口端面傾斜的斜面部。因此，本發(fā)明的第二方面提供了光量調整裝置，其包括驅動源；和多個遮光 葉片構件，所述驅動源的驅動力被傳遞到所述多個遮光葉片構件，以改變開口直徑，其 中，所述遮光葉片構件通過沖裁(punching)有遮光性的板材料而形成，通過對所述遮光 葉片構件的形成所述開口直徑的部分的端面進行噴砂處理，形成表面被粗糙化同時基本 上維持所述遮光葉片構件的外形尺寸的開口端面，并且形成相對于所述開口端面傾斜的 斜面部。因此，本發(fā)明的第三方面提供了制造所述遮光葉片構件的方法，其包括以下步 驟對有遮光性的樹脂材料進行注射成型；將在所述注射成型步驟中通過樹脂材料的注 射成型而形成的遮光葉片構件固定于固定構件；和對固定后的所述遮光葉片構件的形成 開口直徑的部分的端面進行噴砂處理，其中，當將通過注射成型而形成的所述遮光葉片 構件固定于所述固定構件時，通過注射成型而形成的所述遮光葉片構件被以如下方式固 定于所述固定構件所述固定構件被暴露于通過注射成型而形成的所述遮光葉片構件的 形成所述開口直徑的部分的外側。因此，本發(fā)明的第四方面提供了制造所述遮光葉片構件的方法，其包括以下步 驟對有遮光性的板材料進行沖裁；將在所述沖裁步驟中通過沖裁板材料而形成的遮光 葉片構件固定于固定構件；和對固定后的所述遮光葉片構件的形成開口直徑的部分的端 面進行噴砂處理，其中，當將通過沖裁而形成的所述遮光葉片構件固定于所述固定構件 時，通過沖裁而形成的所述遮光葉片構件被以如下方式固定于所述固定構件所述固定 構件被暴露于通過沖裁而形成的所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的外側。根據本發(fā)明，可以提供具有遮光葉片構件的光量調整裝置，所述遮光葉片構件 能夠通過簡單的加工被制造出，以減少遮光葉片構件的與光軸平行的端面上的不期望的 反射并且防止比如光斑或重影等圖像品質的劣化，并且可以提供制造所述遮光葉片構件 的方法。根據下面(參考附圖)對典型實施方式的說明，本發(fā)明的其它特征將變得清楚。


圖1是示意性地示出根據本發(fā)明的第一實施方式的光量調整裝置的主要組成構 件的分解立體圖。圖2是示出根據第一實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的平面 圖。圖3是示出沿圖2中的線A-A截取的遮光葉片構件的視圖，用以說明對根據第 一實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的端部進行噴砂處理的方法。
圖4的(A)是示出在作為后處理的噴砂處理之前的狀態(tài)下沿圖2的線A-A截取 的根據第一實施方式的遮光葉片構件的端部的放大截面圖，圖4的(B)是示出在噴砂處理 之后的狀態(tài)下的遮光葉片構件的端部的放大截面圖。圖5是示意性地示出根據本發(fā)明的第二實施方式的光量調整裝置的主要組成構 件的分解立體圖。圖6是示出根據第二實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的平面 圖。圖7是示出沿圖6中的線A-A截取的遮光葉片構件的視圖，用以說明對根據第 二實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的端部進行噴砂處理的方法。圖8A是示出在作為后處理的噴砂處理之前的狀態(tài)下沿圖6中的線A-A截取的根 據第二實施方式的遮光葉片構件的端部的放大截面圖，圖8B是示出在噴砂處理之后的狀 態(tài)下的遮光葉片構件的端部的放大截面圖。
具體實施例方式現在將參考圖1至圖4的(B)說明本發(fā)明的第一實施方式。圖1是示意性地示出根據第一實施方式的光量調整裝置的主要組成構件的分解 立體圖。圖2是示出根據第一實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的平面 圖。圖3是示出沿圖2中的線A-A截取的遮光葉片構件的視圖，用以說明對根據第 一實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的端部進行噴砂處理的方法。圖4的(A)是示出在作為后處理的噴砂處理之前的狀態(tài)下沿圖2的線A-A截取 的根據第一實施方式的遮光葉片構件的端部的放大截面圖，圖4的(B)是示出在噴砂處理 之后的狀態(tài)下的遮光葉片構件的端部的放大截面圖。在圖1中，附圖標記1、2、3、4、5和6分別表示設置在光量調整裝置中且基本 上具有相同配置的多個遮光葉片構件中的一個遮光葉片構件。遮光葉片構件1至6具有 用于控制開口量的薄板狀的遮光葉片基部la至6a。另外，遮光葉片構件1至6具有設置 于葉片基部的一側的第一軸部lb至6b和設置于葉片基部的另一側的第二軸部lc至6c( — 部分未示出)。另外，在圖1中，附圖標記7表示中央形成有開口部7a的環(huán)狀轉動構件。轉動 構件7設置有軸孔部7b、7c、7d、7e、7f和7g ；六個分開的轉動裝配突起部7h ；和齒 輪部7i。在圖1中，附圖標記8表示中央形成有開口部8a的環(huán)狀凸輪構件。凸輪構件8 設置有凸輪槽部8b、8c、8d、8e、8f和8g。在圖1中，附圖標記9表示中央形成有開口部9a的環(huán)狀按壓構件。按壓構件9 設置有孔部9b和馬達安裝部9c。在圖1中，附圖標記10表示驅動轉動構件7的步進馬達。小齒輪11被固定到 步進馬達10的軸的遠端。步進馬達10被安裝到按壓構件9的馬達安裝部9c。小齒輪 11穿過按壓構件9的孔部9b伸出并且與轉動構件7的齒輪部7i嚙合。
在光量調整裝置中，以轉動構件7和遮光葉片構件1至6介于按壓構件9和凸輪 構件8之間的方式將按壓構件9固定到凸輪構件8。由此，按壓構件9防止轉動構件7和 遮光葉片構件1至6沿光軸的方向脫落。在光量調整裝置中，轉動構件7的轉動裝配突起部7h被裝配到按壓構件9的開 口部9a中并且以可轉動的方式被按壓構件9的開口部9a支撐。遮光葉片構件1至6的 第一軸部lb至6b以可轉動的方式被轉動構件7的對應的軸孔部7b至7g支撐。另外， 遮光葉片構件1至6的第二軸部lc至6c以可滑動的方式被凸輪構件8的對應的凸輪槽部 8b至8g支撐。在光量調整裝置中，遮光葉片構件1至6圍繞光軸在圓周方向上被等間距地間隔 開。遮光葉片構件1至6被構造成能夠通過改變遮光葉片基部la至6a的重疊狀態(tài)而控 制光圈開口量，并且重疊的量越大，光圈開口量越小。在光量調整裝置中，通過控制步進馬達10的操作，來改變光圈開口直徑以調整光量。由此，在光量調整裝置中，當控制單元(未示出)驅動步進馬達10時，小齒輪 11轉動。響應小齒輪11的轉動，轉動構件7轉動以驅動遮光葉片構件1至6的第一軸部 lb至6b繞光軸轉動。通過該操作，第二軸部lc至6c沿著凸輪構件8的凸輪槽部8b至8g移動。該 操作使第二軸部lc至6c繞轉動構件7的軸孔部7b至7g相對轉動，由此改變進入開口部 8a的量。六個遮光葉片構件1至6同時與轉動構件7同步地動作以改變光圈開口直徑。在 改變光圈開口直徑的該操作中，光圈開口直徑從遮光葉片構件1至6從凸輪構件8的開口 部8a退避的退避狀態(tài)向遮光葉片構件1至6被插入到凸輪構件8的開口部8a中的插入狀 態(tài)連續(xù)地變化。通過上述的方式，在光量調整裝置中，通過控制步進馬達10的操作，來 改變光圈開口直徑以調整光量。下面，將說明制造根據第一實施方式的遮光葉片構件的方法。遮光葉片構件1至6通過樹脂材料的注射成型而形成，其中在所述樹脂材料中適 當地混合有用于使樹脂材料具有遮光性的比如炭黑等添加劑。在注射成型中，圖1中示 出的第一軸部lb和第二軸部lc與葉片基部la—體地形成。對于通過注射成型如此形成 的遮光葉片構件1至6，對遮光葉片構件端部Id進行作為后處理的噴砂處理，所述遮光葉 片構件端部Id是形成遮光葉片構件1至6的開口直徑的部分。應注意到，這里進行的噴砂處理是如下的處理其中，使非金屬顆?；蚪饘兕w 粒與作為待切削材料的遮光葉片構件端部Id碰撞，從而能夠使遮光葉片構件端部Id被表 面粗糙化或被輕微切削。特別地在本實施方式中，使用濕法噴砂處理來進行噴砂處理。 濕法噴砂處理是如下的加工方法通過將壓縮空氣等的壓力施加到比如水等液體而形成 噴霧液滴，利用所述噴霧液滴射出非金屬顆?；蚪饘兕w粒，從而進行表面粗糙化或輕微 切削。為了對遮光葉片構件1至6的遮光葉片構件端部Id進行作為后處理的噴砂處 理，首先，如圖3所示，以遮光葉片構件1的光束入射面朝上的方式將作為待切削材料的 遮光葉片構件1固定到固定夾具12的平面。在該情況下，固定夾具12的固定有遮光葉片構件1的平面暴露于遮光葉片構件1的遮光葉片構件端部Id的外側。結果，由遮光葉片 端面le和固定夾具12的平面形成圖3中的以區(qū)域A示出的角部。然后進行噴砂處理，在 所述噴砂處理中，包含非金屬顆?；蚪饘兕w粒的噴霧液滴以較高的壓力沿圖3中的箭頭B 表示的方向斜向下地噴射到遮光葉片構件端部Id上，使得遮光葉片構件端部Id能夠被表 面粗糙化或輕微切削。這里，箭頭B表示的方向是從垂直于固定夾具12的平面的方向向 露出固定夾具12的平面的方向傾斜預定角度的方向。在通過使用濕法噴砂處理進行噴砂處理而制成的遮光葉片構件1至6的遮光葉片 構件端部Id中，如圖4的(B)中所示，通過加工形成已經被表面粗糙化并且相對于光軸 傾斜的斜面部If。即，在遮光葉片構件端部Id中，在與光能夠通過的開口的內周對應的 部分中制造出與光軸平行地形成的作為開口端面的遮光葉片端面lg。另外，在遮光葉片 構件端部Id中，在與光能夠通過的開口的內周對應的部分中制造出以相對于光軸傾斜的 方式從遮光葉片端面lg延伸出的斜面部If。在遮光葉片構件端部Id以上述方式被加工成表面被粗糙化并且相對于光軸傾斜 的斜面部If的情況中，能夠防止不期望的光被反射和造成重影、光斑等。另外，圖3所示的區(qū)域A是在通過使用濕法噴砂處理的噴砂處理進行加工的過程 中未受到噴砂處理的區(qū)域。具體地，未受到噴砂處理的該區(qū)域是由遮光葉片端面le和固 定夾具12的平面形成的角部。該區(qū)域未受到噴砂處理，這是因為射出非金屬顆?；蚪饘?顆粒的噴霧液滴的流速低，并且對遮光葉片端面le的加工力小。在經過圖3所示的噴砂處理之后，如圖4的(B)所示，遮光葉片構件端部Id具 有通過噴砂處理被部分地切去的形狀。具體地，在遮光葉片構件端部Id的與光能夠通過 的開口的內周對應的部分中，在葉片基部la的平面和遮光葉片端面le之間的范圍中新形 成斜面部If。同時，在遮光葉片構件端部Id的與光能夠通過的開口的內周對應的部分 中，新形成作為遮光葉片端面le的一部分的遮光葉片端面lg。在圖3的區(qū)域A中，遮光葉片端面lg具有通過噴霧液滴的低流速所產生的小加 工力而形成的形狀。新形成的遮光葉片端面lg大體上維持葉片基部la的外形尺寸。艮口， 在如圖3所示進行噴砂處理的情況中，能夠獲得圖4的(B)中所示的期望的形狀，而不會 損失遮光葉片構件端部le的尺寸精度。另外，噴砂處理具有表面粗糙化的效果。由此，在與光能夠通過的開口的內周 對應的部分中形成的斜面部If和遮光葉片端面lg均被表面粗糙化，這與在噴砂處理之前 為光滑表面的遮光葉片端面le的特性不同。應注意到，噴砂處理之前的遮光葉片端面le 在其被組裝到光量調整裝置時也是導致重影、光斑等的平面，這是因為遮光葉片端面le 與光軸平行并且用作不期望的光的反射面。此外，以類似于上述遮光葉片構件1的方式形成遮光葉片構件2至6，并且將遮 光葉片構件2至6整合到根據第一實施方式的光量調整裝置中。在由經受上述噴砂處理的遮光葉片構件1至6形成的開口中，新形成遮光葉片端 面lg，所述遮光葉片端面lg比作為與光軸平行的光滑面的遮光葉片端面le小，并且所述 遮光葉片端面lg的表面被粗糙化。由于該原因，在由經受噴砂處理的遮光葉片構件1至6形成的開口中，能夠減少 遮光葉片端面上的會造成比如光斑和重影等圖像品質劣化的不期望的反射。另外，根據
7遮光葉片構件1至6的上述配置，在通過注射成型形成遮光葉片構件1至6時不需要制備 形狀復雜的模具，因此能夠增強脫模性。接著，將參考圖5至圖8B說明本發(fā)明的第二實施方式。圖5是示意性地示出根據第二實施方式的光量調整裝置的主要組成構件的分解 立體圖。圖6是示出根據第二實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的平面 圖。圖7是示出沿圖6中的線A-A截取的遮光葉片構件的視圖，用以說明對根據第 二實施方式的光量調整裝置中使用的遮光葉片構件的端部進行噴砂處理的方法。圖8A是示出在作為后處理的噴砂處理之前的狀態(tài)下沿圖6中的線A-A截取的根 據第二實施方式的遮光葉片構件的端部的放大截面圖，圖8B是示出在噴砂處理之后的狀 態(tài)下的遮光葉片構件的端部的放大截面圖。在圖5中，附圖標記21、22、23、24、25和26分別表示設置在光量調整裝置中 且基本上具有相同配置的多個遮光葉片構件中的一個遮光葉片構件。遮光葉片構件21至 26具有用于控制開口量的薄板狀的遮光葉片基部21a至26a，所述遮光葉片基部通過沖裁 有遮光性的板材料而形成為薄板狀。另外，遮光葉片構件21至26具有設置于葉片基部 的一側的第一軸部21b至26b和設置于葉片基部的另一側的第二軸部21c至26c( —部分 未示出)。第一軸部21b至26b和第二軸部21c至26c在與形成葉片基部21a的步驟分開 的步驟中(例如，通過嵌件成型(outsert molding))形成。而且，在圖5中，附圖標記27表示中央形成有開口部27a的環(huán)狀轉動構件。轉 動構件27設置有軸孔部27b、27c、27d、27e、27f和27g ；六個分開的轉動裝配突起部 27h ；和齒輪部27i。在圖5中，附圖標記28表示中央形成有開口部28a的環(huán)狀凸輪構件。凸輪構件 28 設置有凸輪槽部 28b、28c、28d、28e、28f 和 28g。在圖5中，附圖標記29表示中央形成有開口部29a的環(huán)狀按壓構件。按壓構件 29設置有孔部29b和馬達安裝部29c。在圖5中，附圖標記210表示驅動轉動構件27的步進馬達。小齒輪211被固定 到步進馬達210的軸的遠端。步進馬達210被安裝到按壓構件29的馬達安裝部29c。小齒輪211穿過按壓構件29的孔部29b伸出并且與轉動構件27的齒輪部27i嚙合。
在光量調整裝置中，以轉動構件27和遮光葉片構件21至26介于按壓構件29和 凸輪構件28之間的方式將按壓構件29固定到凸輪構件28。由此，按壓構件29防止轉動 構件27和遮光葉片構件21至26沿光軸的方向脫落。在光量調整裝置中，轉動構件27的轉動裝配突起部27h與按壓構件29的開口部 29a接合并且以可轉動的方式被按壓構件29的開口部29a支撐。遮光葉片構件21至26 的第一軸部21b至26b以可轉動的方式被轉動構件27的對應的軸孔部27b至27g支撐。 另外，遮光葉片構件21至26的第二軸部21c至26c以可滑動的方式被凸輪構件28的對 應的凸輪槽部28b至28g支撐。在光量調整裝置中，遮光葉片構件21至26圍繞光軸在圓周方向上被等間距地間隔開。遮光葉片構件21至26被構造成能夠通過改變遮光葉片基部21a至26a的重疊狀 態(tài)而控制光圈開口量，并且重疊的量越大，光圈開口量越小。在光量調整裝置中，通過控制步進馬達210的操作，來改變光圈開口直徑以調
整光量。由此，在光量調整裝置中，當控制單元(未示出)驅動步進馬達210時，小齒輪 211轉動。響應小齒輪211的轉動，轉動構件27轉動以驅動遮光葉片構件21至26的第 一軸部21b至26b繞光軸轉動。通過該操作，第二軸部21c至26c沿著凸輪構件28的凸輪槽部28b至28g移動。 該操作使第二軸部21c至26c繞轉動構件27的軸孔部27b至27g相對轉動，由此改變進 入開口部28a的量。六個遮光葉片構件21至26同時與轉動構件27同步地動作以改變光圈開口直 徑。在改變光圈開口直徑的該操作中，光圈開口直徑從遮光葉片構件21至26從凸輪構 件28的開口部28a退避的退避狀態(tài)向遮光葉片構件21至26被插入到凸輪構件28的開口 部28a中的插入狀態(tài)連續(xù)地變化。通過上述方式，在光量調整裝置中，通過控制步進馬 達210的操作，來改變光圈開口直徑以調整光量。下面，將說明制造根據第二實施方式的遮光葉片構件的方法。用于遮光葉片構件21至26的葉片基部21a至26a的基材是比如聚對苯二甲酸乙 二醇酯等樹脂材料，并且通過沖裁其中適當地混合有比如炭黑等添加劑以使得葉片基部 21a至26a具有遮光性的薄的平板材料來形成葉片基部21a至26a。對于通過沖裁形成的用于葉片基部21a至26a的薄的平板材料，對葉片基部的作 為形成開口直徑的部分的端部21d進行作為后處理的噴砂處理。應注意到，這里進行的噴砂處理是如下的處理在該處理中，使非金屬顆?；?金屬顆粒與作為待切削材料的遮光葉片構件端部21d碰撞，從而能夠使遮光葉片構件端 部21d被表面粗糙化或被輕微切削。特別地在本實施方式中，使用濕法噴砂處理來進行 噴砂處理。濕法噴砂處理是如下的加工方法通過將壓縮空氣等的壓力施加到比如水等 液體而形成噴霧液滴，利用所述噴霧液滴射出非金屬顆粒或金屬顆粒，從而進行表面粗 糙化或輕微切削。為了對遮光葉片構件21至26的遮光葉片構件端部21d進行作為后處理的噴砂處 理，首先，如圖7所示，以遮光葉片構件21的光束入射面朝上的方式將作為待切削材料 的葉片基部21a固定到固定夾具212的平面。在該情況下，固定夾具212的固定有遮光葉 片構件21的平面暴露于遮光葉片構件21的遮光葉片構件端部21d的外側。結果，由遮 光葉片端面21e(見圖8)和固定夾具212的平面形成圖7中的以區(qū)域A示出的角部。然 后進行噴砂處理，在所述噴砂處理中，包含非金屬顆?；蚪饘兕w粒的噴霧液滴以較高的 壓力沿圖7中的箭頭B表示的方向斜向下地噴射到遮光葉片構件端部21d上，使得遮光葉 片構件端部21d能夠被表面粗糙化或輕微切削。這里，箭頭B表示的方向是從垂直于固 定夾具212的平面的方向朝向露出固定夾具212的平面的方向傾斜預定角度的方向。這里，由于通過沖裁形成葉片基部21a，由于作用于沖裁端面的一側的剪切力而 在遮光葉片構件端部21d的與光能夠通過的開口的內周對應的部分形成毛刺21h。由于該 原因，葉片基部21a沿如下的定向被固定于固定夾具212:遮光葉片構件端部21d的與光能夠通過的開口的內周對應的部分中的毛刺21h被切去。通過在該狀態(tài)下使用濕法噴砂處理而進行噴砂處理，遮光葉片構件21至26的遮 光葉片構件端部21d通過加工形成有斜面部21f，其中斜面部21f具有被粗糙化的表面并 且相對于光軸傾斜，如圖8B所示。另外，毛刺21h被切去。由此，當葉片基部21a至 26a通過噴砂處理形成有斜面部21f和遮光端面21g時，能夠同時去除沖裁過程中形成的 毛刺21h至26h。
在遮光葉片構件端部21d以上述方式被加工成表面被粗糙化并且相對于光軸傾 斜的斜面部21f的情況中，能夠防止不期望的光被反射和造成重影、光斑等。另外，圖7所示的區(qū)域A是在通過使用濕法噴砂處理的噴砂處理進行加工的過程 中未受到噴砂處理的區(qū)域。這是因為在由葉片基部的端面21e和固定夾具212的平面形 成的角部中，射出比如非金屬顆?；蚪饘兕w粒等磨料的噴霧液滴的流速低，并且對遮光 葉片端面2le的加工力小。未受到噴砂處理的區(qū)域是由遮光葉片端面21e和固定夾具212的平面形成的角 部。該區(qū)域未受到噴砂處理，這是因為射出非金屬顆?；蚪饘兕w粒的噴霧液滴的流速 低，并且對遮光葉片端面21e的加工力小。在經過圖7所示的噴砂處理之后，如圖8B所示，遮光葉片構件端部21d具有通 過噴砂處理被部分地切去的形狀。具體地，在遮光葉片構件端部21d的一部分中，在葉 片基部21a的平面和遮光葉片端面21e之間的范圍中新形成斜面部21f。同時，在遮光 葉片構件端部21d的一部分中，新形成作為遮光葉片端面21e的一部分的遮光葉片端面 21g。在圖7的區(qū)域A中，遮光葉片端面21e具有通過噴霧液滴的低流速所產生的小加 工力而形成的形狀。新形成的遮光葉片端面21g大體上維持葉片基部21a的外形尺寸。 即，在如圖7所示進行噴砂處理的情況中，能夠獲得圖8B所示的期望的形狀，而不會損 失遮光葉片構件端面21e的尺寸精度。另外，噴砂處理具有表面粗糙化的效果。由此，斜面部21f和新形成的遮光葉 片端面21g的表面均被粗糙化，這與在噴砂處理之前為光滑表面的遮光葉片端面21e的特 性不同。應注意到，噴砂處理之前的遮光葉片端面21e在其被組裝到光量調整裝置時也 是導致重影、光斑等的平面，這是因為遮光葉片端面21e與光軸平行并且用作不期望的光 的反射面。然后，葉片基部21a在經過形成第一軸部21b和第二軸部21c的步驟之后成為遮 光葉片構件21。而且，以類似于上述遮光葉片構件21的方式形成遮光葉片構件22至26，并且將 遮光葉片構件22至26整合到根據第二實施方式的光量調整裝置中。在光量調整裝置中，與光軸平行并且位于由受到噴砂處理的遮光葉片構件21至 26形成的開口中的葉片基部端面21g較小并且其表面被粗糙化。S卩，葉片基部端面21g 小于作為加工前的光滑面的葉片基部端面21e，并且葉片基部端面21g的表面被粗糙化。 由于該原因，在光量調整裝置中，能夠減少遮光葉片端面上的會導致比如光斑和重影等 圖像品質劣化的不期望的反射。另外，也能夠通過噴砂處理同時處理毛刺21h至26h，所述毛刺21h至26h是在
10通過沖裁形成葉片基部21a至26a時形成的。雖然已經參考典型實施方式說明了本發(fā)明，但是應理解本發(fā)明并不局限于所公 開的典型實施方式。所附權利要求的范圍與最寬泛的解釋一致以涵蓋所有這樣的變型、 等同結構和功能。本發(fā)明要求2009年9月8日提交的日本專利申請No.2009_206845的優(yōu)先權，該 日本專利申請的全部內容通過引用包含于此。
權利要求
1.一種光量調整裝置，其包括 驅動源；和多個遮光葉片構件，所述驅動源的驅動力被傳遞到所述多個遮光葉片構件，以改變開口直徑，其中，所述遮光葉片構件通過有遮光性的樹脂材料的注射成型而形成， 通過對所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的端面進行噴砂處理，形成表 面被粗糙化同時基本上維持所述遮光葉片構件的外形尺寸的開口端面，并且形成相對于 所述開口端面傾斜的斜面部。
2.—種光量調整裝置，其包括 驅動源；和多個遮光葉片構件，所述驅動源的驅動力被傳遞到所述多個遮光葉片構件，以改變開口直徑，其中，所述遮光葉片構件通過沖裁有遮光性的板材料而形成，通過對所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的端面進行噴砂處理，形成表 面被粗糙化同時基本上維持所述遮光葉片構件的外形尺寸的開口端面，并且形成相對于 所述開口端面傾斜的斜面部。
3.—種制造遮光葉片構件的方法，其包括如下步驟 對有遮光性的樹脂材料進行注射成型；將在所述注射成型步驟中通過樹脂材料的注射成型而形成的遮光葉片構件固定于固 定構件；和對固定后的所述遮光葉片構件的形成開口直徑的部分的端面進行噴砂處理， 其中，當將通過注射成型而形成的所述遮光葉片構件固定于所述固定構件時，通過 注射成型而形成的所述遮光葉片構件被以如下方式固定于所述固定構件所述固定構件 被暴露于通過注射成型而形成的所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的外側。
4.一種制造遮光葉片構件的方法，其包括如下步驟 對有遮光性的板材料進行沖裁；將在所述沖裁步驟中通過沖裁板材料而形成的遮光葉片構件固定于固定構件；和 對固定后的所述遮光葉片構件的形成開口直徑的部分的端面進行噴砂處理， 其中，當將通過沖裁而形成的所述遮光葉片構件固定于所述固定構件時，通過沖裁 而形成的所述遮光葉片構件被以如下方式固定于所述固定構件所述固定構件被暴露于 通過沖裁而形成的所述遮光葉片構件的形成所述開口直徑的部分的外側。
5.根據權利要求3或4所述的制造遮光葉片構件的方法，其特征在于， 所述噴砂處理是使用濕法噴砂處理的噴砂處理，沿從與所述固定構件的平面垂直的方向朝向露出所述固定構件的平面的方向傾斜預 定角度的方向碰撞待切削材料。
全文摘要
一種具有光量調整裝置和制造遮光葉片構件的方法。所述光量調整裝置具有多個遮光葉片構件。所述遮光葉片構件能夠通過簡單的加工被制造出，以減少遮光葉片構件的與光軸平行的端面上的不期望的反射并且防止比如光斑或重影等圖像品質的劣化。步進馬達的驅動力被傳遞到遮光葉片構件以能夠改變開口直徑。遮光葉片構件通過有遮光性的樹脂材料的注射成型而形成。通過對各遮光葉片構件的形成開口直徑的部分的端面進行噴砂處理，形成表面被粗糙化同時基本上維持遮光葉片構件的外形尺寸的開口端面，并且形成相對于開口端面傾斜的斜面部。
文檔編號B24C1/00GK102012603SQ201010277678
公開日2011年4月13日 申請日期2010年9月7日 優(yōu)先權日2009年9月8日
發(fā)明者齊藤潤一 申請人:佳能株式會社