專利名稱：光學(xué)物品制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及眼鏡鏡片等鏡片、其他光學(xué)材料或者制品中使用的光學(xué)物品的制造方法。
背景技術(shù)：
眼鏡鏡片等光學(xué)物品在用于發(fā)揮各種功能的基材(光學(xué)基材)的表面，形成有具 有各種功能的層(膜)以進(jìn)一步強(qiáng)化或保護(hù)該基材的功能。例如，公知有用于確保鏡片基 材的耐久性的硬涂層、用于防止重影和閃光的反射防止層等。反射防止層的典型例子是所 謂的多層反射防止層，其是在層積有硬涂層的鏡片基材的表面交替地層積具有不同折射率 的氧化膜而成的。在專利文獻(xiàn)1中記載有如下內(nèi)容提供一種新型的適于低耐熱性基材的具有帶電 防止功能的光學(xué)元件。記載有一種眼鏡鏡片等光學(xué)元件，其在塑料制的光學(xué)基材上具有多 層結(jié)構(gòu)的反射防止膜，其中，反射防止膜包含透明導(dǎo)電層，該透明導(dǎo)電層通過(guò)離子輔助真空 蒸鍍形成，其他反射防止層的構(gòu)成層通過(guò)電子束真空蒸鍍等形成。記載有作為導(dǎo)電層可列 舉以銦、錫、鋅等中的任意一種或兩種以上作為成分的無(wú)機(jī)氧化物，尤其希望是ITOandium Tin Oxide 氧化銦和氧化錫的混合物)。專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2004-341052號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2國(guó)際公開(kāi)第2006/016608號(hào)冊(cè)子專利文獻(xiàn)3日本特開(kāi)2004-300580號(hào)公報(bào)在眼鏡鏡片等光學(xué)物品的領(lǐng)域，為了防止帶電和屏蔽電磁等，尋求取代使用昂貴 的銦的ITO而形成能提供導(dǎo)電性的層的方法。這種方法之一是稱為T(mén)NO的鈦鈮氧化物 (Ti1^xNbxO2) ο在專利文獻(xiàn)2中記載有關(guān)于透明且具有導(dǎo)電性的透明電極用基材以及透明導(dǎo) 電性薄膜，提供能穩(wěn)定供給且由耐化學(xué)性等優(yōu)異的材料構(gòu)成的透明金屬材料和透明電極。 此外，記載有如下內(nèi)容通過(guò)在基板上形成由銳鈦(anatase)型晶體結(jié)構(gòu)構(gòu)成的金屬氧化 物層，利用TiO2構(gòu)成金屬氧化物層，由此在維持內(nèi)部透射率的同時(shí)實(shí)現(xiàn)低電阻率，S卩，制造 利用其他原子(Nb、Ta、Mo、As、Sb、W等)置換銳鈦型TiO2中的Ti格點(diǎn)而得到的TiO2,由此 可維持透明度并顯著提高電傳導(dǎo)率。但是，需要將蒸鍍?cè)撏该鹘饘贂r(shí)的基板溫度維持在550°C這樣的高溫下。該高溫處 理用于得到銳鈦型的晶體結(jié)構(gòu)，為了生成TNO膜需要保持在300°C以上的處理。另一方面， 塑料鏡片的耐熱溫度最高也就100°C。因此，不能采用伴隨高溫處理的TNO來(lái)替代ITO作為 塑料鏡片的導(dǎo)電層。例如，在專利文獻(xiàn)3中記載有如下內(nèi)容提供下述蒸鍍組合物的制造方法、具有蒸 鍍組合物和反射防止膜的光學(xué)部件的制造方法，即使在低溫條件下蒸鍍也能形成高折射率 層，可得到耐磨性、耐化學(xué)性及耐熱性良好且隨著時(shí)間的經(jīng)過(guò)耐熱性降低的程度較小的反 射防止膜。此外，還記載有蒸鍍組合物的制造方法、蒸鍍組合物以及具有反射防止膜的光學(xué) 物品的制造方法，蒸鍍組合物的制造方法的特征在于，燒結(jié)對(duì)含有二氧化鈦和五氧化鈮的蒸鍍?cè)线M(jìn)行混合而得到的蒸鍍?cè)匣旌衔?；蒸鍍組合物的特征在于，該蒸鍍組合物含有 二氧化鈦和五氧化鈮；具有反射防止膜的光學(xué)物品的制造方法的特征在于，產(chǎn)生該蒸鍍組 合物的蒸汽，使產(chǎn)生的蒸發(fā)物在基板上析出，形成反射防止膜的高折射率層。含有在低溫條 件下蒸鍍而成的二氧化鈦和五氧化鈮的蒸鍍組合物雖然有高折射率，但不著眼于電阻，在 專利文獻(xiàn)3中沒(méi)有找到關(guān)于電阻的內(nèi)容。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方式是光學(xué)物品(光學(xué)元件)的制造方法，具有以下步驟。(a)在光 學(xué)基材上直接或者隔著其他層形成透光性的第一層(形成第一層的步驟)。(b)離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種 成分，由此降低第一層的表層的至少一部分的電阻(降低電阻的步驟)。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過(guò)離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中 選出的至少一種成分，由此即使不使用高溫處理也能降低第一層(膜)的表層的至少一部 分的電阻。即，即使不使用高溫處理也能利用鈦-鈮系對(duì)第一層賦予導(dǎo)電性。因此，在以塑 料鏡片等耐熱性不那么高的材料作為基材的光學(xué)物品中，通過(guò)用于反射防止膜的高折射率 層等的第一層(功能層)的成分，能提供帶電防止功能和/或電磁波屏蔽功能，能以低成本 提供具有上述功能的光學(xué)物品。此外，在該制造方法中，不僅可以不使用高溫處理，而且通過(guò)離子輔助蒸鍍從由 鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種成分來(lái)改變第一層的表面(表 層)，由此能賦予導(dǎo)電性。因此，如ITO那樣可降低現(xiàn)有層(第一層)的表面的電阻，無(wú)需形 成厚度達(dá)到某種程度的導(dǎo)電層。例如，還能降低反射防止層包含的一個(gè)層(第一層)的電 阻值(電阻率)，無(wú)需較大程度地改變由多層構(gòu)成的反射防止層的光學(xué)設(shè)計(jì)。降低電阻的步驟(上述(b)步驟)可認(rèn)為是在第一層的表層的至少一部分上通過(guò) 離子輔助蒸鍍混合鈦、鈮以及氧。此外，降低電阻的步驟(上述(b)步驟)可認(rèn)為是使第一 層的表層的至少一部分成為鈦鈮氧化物而不使用高溫處理。在說(shuō)明書(shū)中，成為鈦鈮氧化物(鈦鈮氧化物化、TNO化)表示在鈦氧化物中摻雜或 混合鈮原子或鈮氧化物，或者，在鈮氧化物中摻雜或混合鈦原子或鈦氧化物，觀察到鈦_鈮 氧化物系的電阻降低。TNO化至少在短周期的范圍內(nèi)形成銳鈦型的TinNbxO2(TNO)的晶 體或與其接近的結(jié)構(gòu)，結(jié)果觀察到鈦-鈮氧化物系的電阻降低。在本發(fā)明中公開(kāi)有如下內(nèi) 容通過(guò)離子輔助蒸鍍來(lái)實(shí)現(xiàn)表層的有限區(qū)域的TNO化，不使用將基材保持在幾百度的過(guò) 程(高溫處理)，將電阻降低到足夠?qū)κ褂苗R片等耐熱性不那么高的基材的光學(xué)物品賦予 防止帶電等功能的程度。TNO化的另一優(yōu)點(diǎn)是外延生長(zhǎng)的TNO膜為透明性或接近透明。第一層的表層狀態(tài) 由于離子輔助蒸鍍而發(fā)生變化，光的吸收損耗可能增加。但是，有可能通過(guò)離子輔助蒸鍍形 成的一種成分(晶體成分)為透光性，因此，通過(guò)對(duì)第一層的表面進(jìn)行離子輔助蒸鍍，有可 能能夠抑制透光性降低。并且，通過(guò)離子輔助蒸鍍改善的部分大致僅限于第一層的表層。因 此，能進(jìn)一步抑制因降低電阻造成的第一層的透光性降低。在第一層是包含鈦氧化物的層的情況下，降低電阻的步驟(上述(b)的步驟)包 含離子輔助蒸鍍鈮或其氧化物的步驟。此外，在第一層是包含鈮氧化物的層的情況下，降低電阻的步驟(上述(b)的步驟)包含離子輔助蒸鍍鈦或其氧化物的步驟。并且，第一層如 包含鋯氧化物的層等那樣，是不含鈦或鈮的氧化物(不含鈦和鈮的氧化物層)的情況下，降 低電阻的步驟(上述(b)的步驟)包含離子輔助蒸鍍鈦或鈦氧化物之后，離子輔助蒸鍍鈮 或鈮氧化物的步驟。此外，在第一層是不含鈦或鈮的氧化物(不含鈦和鈮的氧化物層)的 情況下，降低電阻的步驟(上述(b)的步驟)包含離子輔助蒸鍍鈮或鈮氧化物之后，離子輔 助蒸鍍鈦或鈦氧化物的步驟。第一層的典型例子是在光學(xué)基材上隔著硬涂層或者隔著打底層和硬涂層而層積 的無(wú)機(jī)系或有機(jī)系的反射防止層。在無(wú)機(jī)系的反射防止層的情況下，第一層典型的是包含 金屬氧化物的層。第一層可以是多層結(jié)構(gòu)的反射防止層的任意一層，也可以是多個(gè)層。在 哪種情況下都可以通過(guò)應(yīng)用上述方法來(lái)降低反射防止層的電阻值(電阻率)。這樣，第一層可以是多層結(jié)構(gòu)的反射防止層包含的一個(gè)層。在該情況下，該方法還 可以進(jìn)一步具有(C)在第一層上直接或者隔著其他層形成防污層的步驟(形成防污層的步 驟)。防污層具有防水性能，因此具有防污層的光學(xué)物品的表面不能保持空氣中的水分。結(jié) 果，容易帶電。通過(guò)應(yīng)用上述方法，即使是具有防污層的光學(xué)物品，也能良好地防止帶電。具有防污層的光學(xué)物品的典型例如是眼睛鏡片。在眼睛鏡片中，往往使用塑料鏡 片基材作為光學(xué)基材。上述方法適用于使用塑料鏡片基材作為光學(xué)基材的情況，或者光學(xué) 物品是眼睛鏡片的情況。光學(xué)物品的典型例子除了眼睛鏡片之外，還可列舉出投影用透鏡、成像用透鏡、分 色棱鏡、玻璃罩、DVD等信息存儲(chǔ)裝置、表現(xiàn)出良好外觀的內(nèi)置有介質(zhì)的裝飾品等。上述方 法還適用于這些物品的制造。


圖1是示出包含類型A和類型C的層結(jié)構(gòu)的反射防止層的鏡片的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖2是示意性示出用于制造反射防止層的離子輔助蒸鍍裝置的圖。圖3是匯總示出與類型A關(guān)聯(lián)的反射防止層的各層的層材料和層厚的圖。圖4是示出包含類型B的層結(jié)構(gòu)的反射防止層的鏡片的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖5是匯總示出與類型B關(guān)聯(lián)的反射防止層的各層的層材料和層厚的圖。圖6是匯總示出與類型C關(guān)聯(lián)的反射防止層的各層的層材料和層厚的圖。圖7是匯總示出實(shí)施例1 9以及比較例1的表面電阻和光的吸收損耗的測(cè)定結(jié) 果的圖。圖8㈧是示出測(cè)定表面電阻的狀態(tài)的剖視圖，圖8(B)是示出測(cè)定表面電阻的狀 態(tài)的俯視圖。標(biāo)號(hào)說(shuō)明1鏡片基材(光學(xué)基材)；2硬涂層；3反射防止層；4防污層；10鏡片(光學(xué)物品)
具體實(shí)施例方式說(shuō)明本發(fā)明的幾個(gè)實(shí)施方式。以下，例示作為光學(xué)物品的眼鏡用鏡片來(lái)進(jìn)行說(shuō)明， 但可適用本發(fā)明的光學(xué)物品不限于此。圖1通過(guò)剖視圖示出典型眼鏡用鏡片的一例的結(jié)構(gòu)。鏡片10包含鏡片基材1 ；形成在鏡片基材1的表面的硬涂層2 ；形成在硬涂層2上的透光性的反射防止層3 ；形成在 反射防止層3上的防污層4。在本例子中，使用塑料制的鏡片基材(塑料鏡片基材)作為鏡 片基材1。作為鏡片基材1，還可以使用玻璃制的鏡片基材(玻璃鏡片基材)。1.鏡片概要1. 1鏡片基材鏡片基材1沒(méi)有特殊限定，例如可以例示(甲基)丙烯樹(shù)脂以及苯乙烯樹(shù)脂、聚碳 酸酯樹(shù)脂、烯丙基樹(shù)脂、二甘醇雙烯丙基碳酸酯(例如PPG 4 >夕‘^卜 ；一 <才κ 4才公司 的CR-39 (注冊(cè)商標(biāo)))等烯丙基碳酸酯樹(shù)脂、乙烯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、聚醚樹(shù)脂、使異氰酸酯化 合物與二甘醇等羥基化合物之間發(fā)生反應(yīng)而得到的尿烷樹(shù)脂、使異氰酸酯化合物與多硫醇 化合物之間發(fā)生反應(yīng)而得到的硫代氨基甲酸乙酯(★才々 > 夕 > )樹(shù)脂、以及對(duì)在分子內(nèi) 具有一個(gè)以上的二硫鍵的含有(硫代)環(huán)氧化合物的聚合性化合物等進(jìn)行固化而得到的透 明樹(shù)脂。鏡片基材1的折射率例如在1.60 1.75左右。在該實(shí)施方式中，折射率可以在 上述范圍內(nèi)，也可以在允許范圍內(nèi)相對(duì)于上述范圍上下偏離。1. 2硬涂層(打底層)形成在鏡片基材1上的硬涂層2主要以提高耐磨擦性為目的。作為硬涂層2使用 的材料，可以列舉丙烯酸系樹(shù)脂、三聚氰胺系樹(shù)脂、尿烷系樹(shù)脂、環(huán)氧系樹(shù)脂、聚乙烯醇縮醛 系樹(shù)脂、氨基系樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、聚酰胺系樹(shù)脂、乙烯醇系樹(shù)脂、苯乙烯樹(shù)脂、硅系樹(shù)脂以及 它們的混合物或者共聚合物等。硬涂層2的一例是硅系樹(shù)脂，是涂覆包含金屬氧化物粒子、 硅烷化合物的涂層組合物(用于形成硬涂層的表面涂層組合物)并使之固化后的產(chǎn)物。在 該涂層組合物中可以包含(混合)膠態(tài)二氧化硅以及多官能性環(huán)氧化合物等成分。涂層組合物(用于形成硬涂層的涂層組合物)所包含的金屬氧化物粒子的具體例 子是由 Si02、A1203、SnO2> Sb205、Ta205、CeO2> La2O3, Fe2O3> ZnO、W03、ZrO2> In2O3> TiO2 等金屬氧 化物構(gòu)成的粒子，或者由兩種以上的金屬的金屬氧化物構(gòu)成的復(fù)合粒子。也可以在涂層組 合物中包含(混合)使這些粒子呈膠體狀分散在分散劑(例如水、醇系或其它有機(jī)溶劑) 中得到的分散物。硬涂層2還可以兼發(fā)揮打底層的功能，為了確保鏡片基材1與硬涂層2之間的密 接性，還可以在鏡片基材1與硬涂層2之間另行設(shè)置打底層。打底層還可有效改善作為高 折射率鏡片基材的缺點(diǎn)的耐撞擊性。作為用于形成打底層的樹(shù)脂，可列舉丙烯酸系樹(shù)脂、三 聚氰胺系樹(shù)脂、尿烷系樹(shù)脂、環(huán)氧系樹(shù)脂、聚乙烯醇縮醛系樹(shù)脂、氨基系樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、聚 酰胺系樹(shù)脂、乙烯醇系樹(shù)脂、苯乙烯樹(shù)脂、硅系樹(shù)脂以及它們的混合物或者共聚物等。作為 用于保持密接性的打底層，優(yōu)選尿烷系樹(shù)脂和聚酯系樹(shù)脂。硬涂層2和打底層的制造方法的典型例子是通過(guò)浸漬法、旋轉(zhuǎn)法、噴射法以及流 動(dòng)法涂覆涂層組合物，之后于40 100°C的溫度加熱干燥數(shù)小時(shí)的方法。1. 3反射防止層形成在硬涂層2上的反射防止層3的典型例子是無(wú)機(jī)系反射防止層或有機(jī)系反射 防止層。無(wú)機(jī)系反射防止層典型的是由多層膜構(gòu)成，例如，可以由折射率為1.3 1.6的低 折射率層和折射率為1. 8 2. 6的高折射率層交替層積而形成。這種反射防止層的層數(shù)例 如可以是5層或7層左右。作為構(gòu)成這種反射防止層的各層所使用的無(wú)機(jī)物的例子，可列舉 Si02、SiO、Zr02、Ti02、TiO、Ti203、Ti2O5^Al2O3, TaO2、Ta2O5、NdO2、NbO、Nb2O3、NbO2、Nb2O5、CeO2>MgO、SnO2, MgF2, WO3^HfO2, Y2O3等。這些無(wú)機(jī)物可以單獨(dú)使用，或者混合兩種以上使用。作 為形成反射防止層的方法，可列舉干式法，例如真空蒸鍍法、離子鍍法、濺射法等。有機(jī)系反射防止層的制造方法之一是濕式法。例如可以通過(guò)利用與硬涂層和打底 層同樣的方法，涂覆涂層組合物(用于形成反射防止層的涂層組合物)，由此形成有機(jī)系的 反射防止層，其中，該涂層組合物包含具有內(nèi)部空洞的二氧化硅系粒子(以下還稱為“中空 二氧化硅系粒子”)和有機(jī)硅化合物。在涂層組合物(用于形成反射防止層的涂層組合物) 中包含中空二氧化硅系粒子是因?yàn)?，由于在?nèi)部空洞內(nèi)包含折射率比二氧化硅低的氣體或 溶劑，因此與沒(méi)有空洞的二氧化硅系粒子相比，折射率降低，從而能得到優(yōu)異的反射防止效 果。中空二氧化硅系粒子可以利用日本特開(kāi)2001-233611號(hào)公報(bào)中記載的方法等來(lái)制造， 但典型的是可使用平均粒徑在1 150nm范圍內(nèi)且折射率在1. 16 1. 39范圍內(nèi)的中空二 氧化硅系粒子。有機(jī)系反射防止層的層厚優(yōu)選50 150nm的范圍。如果與該范圍相比過(guò) 厚或者過(guò)薄，則可能得不到足夠的反射防止效果。在本實(shí)施方式的鏡片10中，反射防止層3包含的至少一種層具有降低了電阻的表 層。通過(guò)離子輔助蒸鍍(使用離子束輔助法進(jìn)行蒸鍍)從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物 構(gòu)成的組中選出的至少一種成分，由此降低至少一層(第一層)的表層的電阻。1. 4防污層往往在反射防止層3上形成防水膜或親水性的防霧膜(統(tǒng)稱為防污膜)4。作為 防污層4的一例，是以提高鏡片10的表面的防水防油性能為目的，形成在反射防止層3上 的由含氟的有機(jī)硅化合物構(gòu)成的層。作為含氟的有機(jī)硅化合物，優(yōu)選使用例如日本特開(kāi) 2005-301208號(hào)公報(bào)和日本特開(kāi)2006-126782號(hào)公報(bào)中記載的含氟硅烷化合物。含氟硅烷化合物優(yōu)選用作溶解在有機(jī)溶劑中調(diào)整成規(guī)定濃度的防水處理液(用 于形成防污層的涂層組合物)。例如，可以通過(guò)在反射防止層3上涂覆該防水處理液來(lái)形成 防污層4。作為涂覆方法，可使用浸漬法、旋涂法等。另外，還可以在金屬顆粒(pellet)中 填充防水處理液后使用真空蒸鍍法等干式法來(lái)形成防污層4。包含含氟硅烷化合物的防污層4的層厚雖無(wú)特別限定，但優(yōu)選的是0.001 0. 5 μ m。更優(yōu)選的是0. 001 0. 03 μ m。如果防污層4的層厚太薄則防水防油效果不夠，如 果太厚則表面發(fā)粘，因此不優(yōu)選。此外，如果防污層4的厚度超過(guò)0. 03 μ m,則可能降低反射 防止效果。2.樣品制造2. 1實(shí)施例1 (層結(jié)構(gòu)類型A)2. 1. 1鏡片基材的選擇和硬涂層的形成作為鏡片基材1，使用折射率1.67的眼睛用塑料鏡片基材(商品名七4 二一^ 一^一 y 7' 'j y (ssv)(精工愛(ài)普生(株式會(huì)社)制造))。按照以下方式來(lái)調(diào)制用于形成硬涂層2的涂敷液(用于形成硬涂層的涂層液)。 在20重量份的環(huán)氧樹(shù)脂-二氧化硅混合物(商品名二 > /七，> E102(荒川化學(xué)工業(yè) (株式會(huì)社)制造)中混合4. 46重量份的酸酐系固化劑(商品名固化劑液(C2)(荒川化 學(xué)工業(yè)(株式會(huì)社)制造))進(jìn)行攪拌，得到涂敷液。使用旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)在鏡片基材1上涂覆 該涂敷液至規(guī)定厚度，由此形成硬涂層2。以125°C對(duì)涂敷后的鏡片基材1 (形成了硬涂層 2后的鏡片基材1)焙燒2小時(shí)。由此，在鏡片基材1上形成層厚約為2μπι的硬涂層2。以下，將在鏡片基材1上形成有層厚約為2μπι的硬涂層2的產(chǎn)物稱為鏡片樣品10a。2. 1.2反射防止層的形成2. 1.2. 1 蒸鍍裝置接下來(lái)，利用圖2所示的蒸鍍裝置100在鏡片樣品IOa上形成無(wú)機(jī)系的反射防止 層3。圖2例示的蒸鍍裝置100是電子束蒸鍍裝置，具有真空容器110、排氣裝置120和氣 體供給裝置130。真空容器110具有樣品支撐臺(tái)114，其放置形成有硬涂層2的鏡片樣品 IOa;基材加熱用加熱器115，其用于對(duì)放在樣品支撐臺(tái)114上的鏡片樣品IOa進(jìn)行加熱； 以及燈絲116，其產(chǎn)生熱電子。該蒸鍍裝置100利用電子槍(未圖示)對(duì)放在蒸發(fā)源(坩 堝)112和113上的蒸鍍材料照射熱電子使其蒸發(fā)，使蒸鍍材料蒸鍍到鏡片樣品10a。并且，該蒸鍍裝置100為了能離子輔助蒸鍍而具備離子槍117，該離子槍117使導(dǎo) 入到離子源內(nèi)部的氣體離子化并加速，照射到鏡片樣品10a。在以下的例子中，使用氬氣對(duì) 氬離子加速后用于離子輔助，作為導(dǎo)入的氣體，不限于氬(Ar)，可使用氧氣(O2)、氮?dú)?N2)、 氦(He)、氖(Ne)、氙(Xe)等。通過(guò)排氣裝置120包含的渦輪分子泵或低溫泵121以及壓力調(diào)整閥122，真空容 器Iio的內(nèi)部保持在高真空例如IX IO-4Pa下。另一方面，真空容器110的內(nèi)部還可通過(guò)氣 體供給裝置130處于規(guī)定氣體氣氛。例如，在氣體容器131中準(zhǔn)備氬(Ar)、氮?dú)?N2)、氧氣 (O2)等?？捎闪髁靠刂蒲b置132來(lái)控制氣體的流量，可由壓力計(jì)135來(lái)控制真空容器110 的內(nèi)壓。此外，在真空容器110中還可以設(shè)置用于除去殘留的水分的冷阱、以及用于管理要 形成的層的層厚的裝置等。作為管理要形成的層的層厚的裝置，例如有反射型的光學(xué)膜厚 計(jì)和石英振子膜厚計(jì)等?；募訜嵊眉訜崞?15例如是紅外燈，通過(guò)加熱鏡片樣品IOa放 出氣體或?yàn)R起水分，確保形成在鏡片樣品IOa表面的層的密接性。該蒸鍍裝置100的主要的蒸鍍條件是蒸鍍材料、電子槍的加速電壓、電流值、有無(wú) 離子輔助。通過(guò)離子種類(真空容器Iio的氣氛)、離子槍117的電壓值和電流值來(lái)提供利 用離子輔助時(shí)的條件。在下文中，除非有特別記載，否則電子槍的加速電壓在5 IOkV的 范圍，電流值在50 500mA的范圍中，根據(jù)層形成速度(成膜速度)來(lái)選擇。此外，在利用 離子輔助的情況下，電子槍117的電壓值在200V IkV的范圍，電流值在100 500mA的 范圍，根據(jù)層形成速度(成膜速度)等來(lái)選擇。2. 1. 2. 2低折射率層和高折射率層的成膜首先，利用丙酮對(duì)形成有硬涂層2的鏡片樣品IOa進(jìn)行清洗，在真空容器110的內(nèi) 部進(jìn)行約70°C的加熱處理，使附著在鏡片樣品IOa上的水分蒸發(fā)。接著，對(duì)鏡片樣品IOa的 表面實(shí)施離子清洗。具體而言，使用離子槍117以幾百電子伏特的能量對(duì)鏡片樣品IOa的 表面照射氧離子束，除去附著在鏡片樣品IOa表面的有機(jī)物。通過(guò)該方法，可以強(qiáng)化形成在 鏡片樣品IOa表面的層的附著力。另外，也可以使用惰性氣體例如氬氣(Ar)、氙氣(Xe)、氮 氣(N2)等來(lái)取代氧離子進(jìn)行同樣的處理，或者也可以照射氧自由基或氧等離子體。在真空容器110的內(nèi)部充分真空排氣后，通過(guò)電子束真空蒸鍍法交替地層積作為 低折射率層31的二氧化硅(SiO2)層、作為高折射率層32的氧化鈦(TiO2)層，形成反射防 止層3。本例(類型A)的反射防止層3的層結(jié)構(gòu)是7層結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D1)，第1層、第3層、 第5層和第7層是低折射率層31，第2層、第4層、第6層是高折射率層32。低折射率層31是SiO2層，通過(guò)真空蒸鍍二氧化硅(SiO2)而不進(jìn)行離子輔助來(lái)形成(成膜)。成膜速度為 2. Onm/sec、電子槍的加速電壓為7kV、電流為100mA。高折射率層32是TiO2層。通過(guò)一邊導(dǎo)入氧氣一邊離子輔助蒸鍍氧化鈦(TiO2)來(lái) 形成(成膜)。成膜速度為0. 4nm/sec,電子槍的加速電壓為7kV，電流為360mA。第1層 第 7 層的層厚分別管理為 28nm、6. 6nm、204nm、23nm、36nm、28nm、lOOnm。以下，將該 Ti02/Si02 系的7層結(jié)構(gòu)稱為類型Α。在圖3中匯總示出了類型A的各層的層材料和層厚(nm)。另外， 在該鏡片樣品IOa中，硬涂層2的折射率為1. 65，SiO2層31的折射率為1. 462，TiO2層32 的折射率為2. 43。2. 1.2. 3 降低電阻在該實(shí)施例1中，從第1層層積到第6層后，按照以下的方式對(duì)第6層的表層33 進(jìn)行改變(降低電阻)。另外，在降低了第6層的表層的電阻后，形成(成膜)第7層。在形成了作為第6層的TiO2層32后，使用使氬氣電離放電的離子輔助(離子束 輔助)法，在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件如下所 述。蒸鍍?cè)囱趸?Nb2O5)輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 1.3防污層的形成在形成反射防止層3后，接著形成防污層4。在反射防止層3的第7層的表面實(shí)施 氧等離子體處理，在蒸鍍裝置100內(nèi)將顆粒材料作為蒸鍍?cè)磥?lái)形成(成膜)防污層4，該顆 粒材料包含含有分子量較大的含氟有機(jī)硅化合物的“KY-130”(商品名、信越化學(xué)工業(yè)(株 式會(huì)社)制造)。此時(shí)，以大約500°C加熱，使KY-130蒸發(fā)。蒸鍍時(shí)間為大約3分鐘左右。 由于通過(guò)實(shí)施氧等離子體處理，在最終層(第7層)的SiO2層31的表面形成硅烷醇基，因 此提高了反射防止層3與防污層4之間的化學(xué)密接性(化學(xué)鍵)。在結(jié)束了蒸鍍后，從真空蒸鍍裝置100取出在一個(gè)面上形成有反射防止層3和防 污層4的鏡片樣品10a，反轉(zhuǎn)后再次投入，以相同的順序反復(fù)上述步驟(反射防止層3和防 污層4的形成)。由此，在另一個(gè)面也形成反射防止層3和防污層4，制造出滿意的鏡片10。 從真空蒸鍍裝置100取出制造出的鏡片10。實(shí)施例1的鏡片10在塑料鏡片基材1的兩面上具有硬涂層2、包含至少降低了表 層的一部分的電阻的層(第1層)(具體而言，降低了第6層的表層的電阻)的反射防止層 3和防污層4。2. 2實(shí)施例2 (層結(jié)構(gòu)類型B)在圖4中通過(guò)剖視圖示出實(shí)施例2的眼鏡用鏡片的結(jié)構(gòu)。本例(類型B)的鏡片 10具有5層結(jié)構(gòu)的反射防止層3，第1層、第3層和第5層是低折射率層31，第2層和第4 層是高折射率層32。本例的鏡片10的制造方法相對(duì)于實(shí)施例1，不同點(diǎn)在于上述的2. 1. 2. 2 (低折射率 層和高折射率層的成膜)以及上述的2. 1.2.3 (降低電阻)。其它步驟與實(shí)施例1相同。低折射率層31是SiO2層，與實(shí)施例1的低折射率層31相同，是通過(guò)真空蒸鍍二氧 化硅(SiO2)而不進(jìn)行離子輔助形成(成膜)的。高折射率層32是Nb2O5層，與實(shí)施例1的高折射率層32相同，是通過(guò)一邊導(dǎo)入氧氣一邊離子輔助蒸鍍氧化鈮(Nb2O5)形成(成膜) 的。第1層 第5層的層厚分別管理成36nm、37nm、15. 8nm、65. 3nm、91nm。以下，將該Nb2O5/ SiO2系的5層結(jié)構(gòu)稱為類型B。在圖5中匯總示出了類型B的各層的層材料和層厚(nm)。在該實(shí)施例2中，從第1層層積到第4層之后，以如下方式對(duì)第4層的表層33進(jìn) 行改變(降低電阻)。另外，第5層是在降低了第4層的表層的電阻之后形成(成膜)的。在形成了作為第4層的Nb2O5層32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧 化鈦(TiOx(X= 1.7))堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。接下來(lái)，使用離子輔助(離子束輔 助)法在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助條件分別如下。蒸鍍?cè)囱趸?TiOx(X= 1.7))、氧化鈮(Nb2O5)輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 3實(shí)施例3 (層結(jié)構(gòu)類型A)本例的鏡片10具有如圖1和圖3所示的7層結(jié)構(gòu)的反射防止層3，第1層、第3 層、第5層和第7層是低折射率層31，第2層、第4層和第6層是高折射率層32。本例的鏡 片10的制造方法相對(duì)于實(shí)施例1，上述2. 1. 2. 3(降低電阻)不同，其它步驟與實(shí)施例1相 同。在該實(shí)施例3中，從第1層層積到第6層之后，以如下方式對(duì)第6層的表層33進(jìn) 行改變(降低電阻)。另外，第7層是在降低了第6層的表層的電阻之后形成(成膜)的。在形成了作為第6層的TiO2層32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧 化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件如下。蒸鍍?cè)囱趸?Nb2O5)輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 4實(shí)施例4 (層結(jié)構(gòu)類型A)本例的鏡片10與實(shí)施例3相同，具有類型A的層結(jié)構(gòu)(Ti02/Si02系的7層結(jié)構(gòu))的 反射防止層3。本例的鏡片10的制造方法相對(duì)于實(shí)施例3，不同點(diǎn)在于上述的2. 1. 2. 3(降 低電阻)。本例中以如下方式來(lái)降低電阻。在形成了作為第6層的TiO2層32之后，使用離子 輔助(離子束輔助)法在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。接著，使用離 子蒸鍍(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiOx(X = 1.7))堆積大約Imm的條件下進(jìn)行蒸鍍。 離子束輔助的條件分別如下。蒸鍍?cè)囱趸?Nb2O5)、氧化鈦(TiOx(X= 1.7))輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 5實(shí)施例5 (層結(jié)構(gòu)類型C)本例的鏡片10具有圖1所示的7層結(jié)構(gòu)的反射防止層3。第1層、第3層、第5層 和第7層是低折射率層31，第2層、第4層和第6層是高折射率層32。其中，低折射率層31 是SiO2，高折射率層32是&02層(折射率2. 1)。本例的鏡片10的制造方法相對(duì)于實(shí)施例1，不同點(diǎn)在于上述的2. 1. 2. 2 (低折射率層和高折射率層的成膜)以及上述的2. 1.2.3 (降低電阻)。其它步驟與實(shí)施例1相同。低折射率層31是SiO2層，與實(shí)施例1的低折射率層31相同，是通過(guò)真空蒸鍍二 氧化硅(SiO2)而不進(jìn)行離子輔助形成(成膜)的。高折射率層32是&02層，是通過(guò)使用 ZrO燒結(jié)體一邊導(dǎo)入氧氣一邊離子輔助蒸鍍氧化鋯(ZrO2)形成(成膜)的。成膜速度為 0. 8nm/sec,電子槍的加速電壓為7kV，電流為280mA。第1層 第7層的層厚分別管理成 24nm、8. 5nm、191nm、39nm、15nm、56nm、91nm。以下，將該 Zr02/Si02 系的 7 層結(jié)構(gòu)稱為類型 C。 在圖6中匯總示出了類型C的各層的層材料和層厚(nm)。此外，在該實(shí)施例5中，從第1層層積到第6層之后，以如下方式對(duì)第6層的表層 33進(jìn)行改變(降低電阻)。另外，第7層是降低了第6層的表層的電阻之后形成(成膜) 的。(降低電阻)在形成了作為第6層的&02層32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化 鈦(TiO2)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。接下來(lái)，使用離子輔助(離子束輔助)法在使 氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法在 使氧化鈦(TiO2)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法 在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件分別如下。蒸鍍?cè)囱趸?TiO2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鈦(TiO2)、氧化鈮(Nb2O5)輔助氣體氬(Ar)加速電壓800V、加速電流200mA2. 6實(shí)施例6 (層結(jié)構(gòu)類型C)利用上述的2. 1. 2. 3 (降低電阻)與實(shí)施例5不同而其它步驟與實(shí)施例5相同的 方法，制造具有與實(shí)施例5相同的類型C的層結(jié)構(gòu)的鏡片10。上述的2.1.2. 3(降低電阻)以如下方式進(jìn)行。在形成了作為第6層的&02層32 之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行蒸 鍍。接著，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiOx(X = 1. 7))堆積大約2nm的 條件下進(jìn)行蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm 的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件分別如下。蒸鍍?cè)囱趸?Nb2O5)、氧化鈦(TiOx(X = 1. 7))、氧化鈮(Nb2O5)輔助氣體氬(Ar)加速電壓800V、加速電流200mA2. 7實(shí)施例7 (層結(jié)構(gòu)類型C)利用上述的2. 1. 2. 3 (降低電阻)與實(shí)施例5不同而其它步驟與實(shí)施例5相同的 方法，制造具有與實(shí)施例5相同的類型C的層結(jié)構(gòu)的鏡片10。上述的2.1.2. 3(降低電阻)以如下方式來(lái)進(jìn)行。在形成了作為第6層的&02層 32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiO2)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸 鍍。接著，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈮(Nb2O5)堆積大約Inm的條件下進(jìn)行 蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiO2)堆積大約2nm的條件下進(jìn) 行蒸鍍。離子束輔助的條件分別如下。
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蒸鍍?cè)囱趸?TiO2)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化鈦(TiO2)輔助氣體氬(Ar)加速電壓800V、加速電流200mA2. 8實(shí)施例8 (層結(jié)構(gòu)類型C)利用上述的2. 1. 2. 3 (降低電阻)與實(shí)施例5不同而其它步驟與實(shí)施例5相同的 方法，制造具有與實(shí)施例5相同的類型C的層結(jié)構(gòu)的鏡片10。上述的2.1.2. 3(降低電阻)以如下方式來(lái)進(jìn)行。在形成了作為第6層的&02層 32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使金屬鈮(Nb)堆積大約2nm的條件下進(jìn)行蒸 鍍。接著，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiOx(X = 1. 7))堆積大約3nm的 條件下進(jìn)行蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法在使金屬鈮(Nb)堆積大約Inm的 條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件分別如下。蒸鍍?cè)唇饘兮?Nb)、氧化鈦(TiOx(X = 1. 7))、金屬鈮(Nb)輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 9實(shí)施例9 (層結(jié)構(gòu)類型C)利用上述的2. 1. 2. 3 (降低電阻)與實(shí)施例5不同而其它步驟與實(shí)施例5相同的 方法，制造具有與實(shí)施例5相同的類型C的層結(jié)構(gòu)的鏡片10。上述的2.1.2. 3(降低電阻)以如下方式來(lái)進(jìn)行。在形成了作為第6層的&02層 32之后，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiOx(X = 1.7))堆積大約2nm的條 件下進(jìn)行蒸鍍。接著，使用離子輔助(離子束輔助)法在使金屬鈮(Nb)堆積大約Inm的條 件下進(jìn)行蒸鍍。并且，使用離子輔助(離子束輔助)法在使氧化鈦(TiOx(X = 1. 7))堆積 大約2nm的條件下進(jìn)行蒸鍍。離子束輔助的條件分別如下。蒸鍍?cè)囱趸?TiOx(X= 1. 7))、金屬鈮(Nb)、氧化鈦(TiOx(X = 1.7))輔助氣體氬(Ar)加速電壓1000V、加速電流200mA2. 10 比較例 1作為比較例1，利用省略降低電阻的步驟，其它步驟與實(shí)施例5相同的方法，制造 具有與實(shí)施例5相同的類型C的層結(jié)構(gòu)的鏡片10。3.通過(guò)實(shí)施例1 9以及比較例1制造出的鏡片樣品的評(píng)價(jià)針對(duì)通過(guò)上述實(shí)施例1 9以及比較例1制造出的鏡片樣品，測(cè)定電阻和光的吸 收損耗。這些測(cè)定結(jié)果(評(píng)價(jià)結(jié)果)在圖7中匯總示出。3. 1 電阻3. 1. 1測(cè)定裝置和測(cè)定方法在圖8㈧和⑶中示出了測(cè)定各樣品的表面的電阻(表面電阻)的狀況。在該例 子中，使環(huán)形探針61接觸測(cè)定對(duì)象即鏡片樣品10的表面10F，測(cè)定鏡片樣品10的表面IOF 的電阻值。測(cè)定裝置60使用三菱化學(xué)(株式會(huì)社)制造的高抵抗抵抗率計(jì)〃 4 > 7夕UP MCP-HT450型。使用的環(huán)形探針61是URS型，具有兩個(gè)電極。外側(cè)環(huán)形電極61a的外徑為 18mm,內(nèi)徑為10mm，內(nèi)側(cè)圓形電極61b的直徑為7mm。在這些電極之間施加1000V IOV的 電壓，計(jì)測(cè)各樣品的表面電阻值。
3. 1.2評(píng)價(jià)結(jié)果如圖7所示，在利用比較例1的方法形成的鏡片樣品中，表面電阻的測(cè)定值為 1Χ1013Ω。為了降低電阻而利用實(shí)施例1 9記載的方法形成的鏡片樣品中，表面電阻的 測(cè)定值降低到2Χ108Ω 8Χ109Ω。即，可知與現(xiàn)有的樣品比較，利用實(shí)施例1 9記載 的方法降低了電阻的鏡片樣品的電阻值減小4位 5位(IO4 IO5)左右。電阻值可以是 1/104 1/105。因此，可知在形成反射防止層的一個(gè)層的表層上，離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、 鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種成分，由此可以降低表面電阻。在這些實(shí)施例1 9中，通過(guò)離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu) 成的組中選出的至少一種成分，由此在表層33上混合混入鈦(Ti)原子、鈮(Nb)原子、氧 (0)原子。例如，在實(shí)施例1和2中，在作為第一層的第6層或第4層的鈦氧化物層的表層 33上離子輔助蒸鍍鈮氧化物或金屬鈮、乃至鈦氧化物，由此，可認(rèn)為是在鈦氧化物層的表層 (表層部)33中摻雜鈮，可認(rèn)為是在表層33的至少一部分上形成Ti-Nb-O層或區(qū)域。而且， 由于在上述評(píng)價(jià)結(jié)果中表面的電阻得以降低，因此，在通過(guò)離子輔助蒸鍍形成的Ti-Nb-O 層或區(qū)域中鈦的至少一部分成為銳鈦型晶體或接近銳鈦型晶體的狀態(tài)，可認(rèn)為是被TNO 化。因此，無(wú)需以300度以上的高溫保持基材，即可在第6層或第4層的鈦氧化物層的表層 33、或表層33的一部分上，通過(guò)離子輔助蒸鍍形成Ti-Nb-O層或區(qū)域，由此，可認(rèn)為是在短 周期的范圍內(nèi)至少形成了 TNO或者與其接近的晶體狀態(tài)。因此，在不適合高溫處理的基材， 例如在本例子的塑料鏡片基材中，也可在層表面的邊界區(qū)域?qū)毽肠?，能通過(guò)TNO實(shí)現(xiàn)降低 電阻。此外，該Ti-Nb-O層或區(qū)域是通過(guò)在表層33上離子輔助蒸鍍金屬鈦、鈦氧化物、 金屬鈮或者鈮氧化物這樣的方法而形成的，不同于通過(guò)蒸鍍來(lái)層積鈦-鈮混合物而成的 鈦_鈮系的高折射率層。即，在蒸鍍鈦_鈮混合物的情況下，只要不蒸鍍?cè)诟邷鼗宥庋?生長(zhǎng)，就不能降低電阻。因此，對(duì)于鈦-鈮系的現(xiàn)有的高折射率層，并沒(méi)有降低電阻的報(bào)告。 在上述的實(shí)施例1和2中，不是蒸鍍鈦-鈮的混合物，而是對(duì)鈦或鈮的一方相對(duì)于另一方的 氧化物進(jìn)行離子輔助蒸鍍，由此表層33或其一部分的鈦成為銳鈦型，可認(rèn)為是形成了導(dǎo)電 性的TNO。同樣，在實(shí)施例3和4中，在作為第一層的第6層的鈮氧化物層的表層33上，離 子輔助蒸鍍鈦氧化物或金屬鈦、乃至鈮氧化物，由此，可認(rèn)為是在鈮氧化物層的表層(表層 部)33中摻雜了鈦，可認(rèn)為是在表層33的至少一部分上形成了 Ti-Nb-O層或區(qū)域。如實(shí)施 例5 9所示，在作為第一層的第6層的鋯氧化物層的表層33上，離子輔助蒸鍍鈦氧化物 或金屬鈦、鈮氧化物或金屬鈮，由此，可認(rèn)為是在鋯氧化物層的表層(表層部)33的至少一 部分上形成了 Ti-Nb-O層或區(qū)域。而且，在這些實(shí)施例中電阻也得以降低，可認(rèn)為是不使用 高溫處理即可使表層33的至少一部分TNO化。通過(guò)降低鏡片、玻璃罩等光學(xué)物品的表面電阻，可得到幾個(gè)效果。典型的效果是防 止帶電和屏蔽電磁。在眼鏡用鏡片中，有無(wú)帶電防止性的標(biāo)準(zhǔn)可認(rèn)為是電阻值在1Χ10"Ω 以下。在考慮到使用上的安全性等時(shí)，更優(yōu)選的是電阻值在IX IOki Ω以下。通過(guò)實(shí)施例1 實(shí)施例9記載的方法制造出的鏡片樣品中，任意一個(gè)鏡片樣品都具有電阻值為IXIOkiQ以 下的優(yōu)異的帶電防止性。在這些實(shí)施例中，僅處理多層結(jié)構(gòu)的反射防止膜的一個(gè)層的表層， 就已測(cè)定出足夠的電阻降低，可幾乎不增加工時(shí)地降低電阻。當(dāng)然，也可以處理多層結(jié)構(gòu)的反射防止膜的多個(gè)層的表層。此外，在表層離子輔助蒸鍍鈦、鈦氧化物、鈮、鈮氧化物的處理，與為了形成反射防 止膜的高折射率層而蒸鍍鈦氧化物和鈮氧化物的處理相比，共同之處較多，因此，幾乎可直 接適用形成反射防止膜的處理。在這一點(diǎn)上，在表層離子輔助蒸鍍鈦、鈦氧化物、鈮、鈮氧化 物的處理是可容易地用作降低眼鏡鏡片等光學(xué)物品的表面電阻的處理。3. 2吸收損耗3. 2. 1測(cè)定裝置和測(cè)定方法接下來(lái)，測(cè)定各鏡片樣品的光的吸收損耗。但是，如果表面彎曲，則光的吸收損耗 很難測(cè)定。因此，使用玻璃制造的基材(玻璃基材)1，利用與鏡片樣品同樣的步驟來(lái)制造各 實(shí)施例的用于測(cè)定光吸收損耗的樣品(玻璃樣品)，使用玻璃樣品來(lái)測(cè)定吸收損耗。光的吸收損耗使用分光光度計(jì)來(lái)測(cè)定反射率和透射率，利用(A)式來(lái)計(jì)算吸收 率。在測(cè)定中使用日立制造的分光光度計(jì)U-4100。 吸收率(吸收損耗)=100 % -透射率-反射率 (A)圖7中示出了各玻璃樣品的波長(zhǎng)400 700nm的平均光吸收率的測(cè)定結(jié)果。3. 2. 2評(píng)價(jià)結(jié)果可以看到，相對(duì)于比較例1的玻璃樣品，通過(guò)實(shí)施例1 實(shí)施例9制造出的玻璃樣 品的吸收損耗多少有些增加。但是，最大也在2%以下，透光性充分高，光吸收損耗的增加不 會(huì)達(dá)到對(duì)反射防止層3的透光性帶來(lái)較大影響的程度。因此，可判斷為通過(guò)實(shí)施例1 實(shí) 施例9記載的方法而形成的鏡片樣品作為眼鏡用鏡片具有足夠的透光性。在形成反射防止層的一個(gè)層的表層33上，離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以 及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種成分，由此表層33的光學(xué)狀態(tài)被打亂，光吸收損耗 增大。另一方面，在本例子中，可認(rèn)為是在表層33的一部分上形成TNO，TNO本身是透明的 導(dǎo)電性的層。因此，可知光的吸收損耗不怎么增加，可以降低表面的電阻而幾乎不會(huì)對(duì)光學(xué) 物品的光學(xué)性質(zhì)帶來(lái)影響。3. 3綜合評(píng)價(jià)通過(guò)以上的各評(píng)價(jià)可知，通過(guò)實(shí)施例1 實(shí)施例9記載的方法而形成的鏡片樣品， 是表面電阻降低到就防止帶電和屏蔽電磁波等目的而言足夠的程度的光學(xué)物品，且光學(xué)性 能幾乎沒(méi)有降低。這些鏡片樣品由于鈦和鈮的成本較低而較少存在資源枯竭等的問(wèn)題，并 且可以使用毒性較低的材料來(lái)實(shí)現(xiàn)降低電阻，相對(duì)于使用ITO(其包含昂貴且可以說(shuō)資源 不豐富的銦)的鏡片樣品，在產(chǎn)業(yè)上優(yōu)點(diǎn)較多。并且，在本發(fā)明提供的制造方法中，在降低電阻方面基本上不需要提高基材的溫 度，無(wú)需制造鈦-鈮系透明電極那樣300度以上的高溫處理。因此，本發(fā)明適用于塑料鏡片 等包括高溫耐久性較低的基材的光學(xué)物品。另外，如上所述降低第一層的表層的電阻，但不限于該層，即使在該層上重疊數(shù) 層，也能降低表面的電阻值或電阻率。因此，降低電阻的層不限于5層結(jié)構(gòu)的第4層或7層 結(jié)構(gòu)的第6層，可以是任意一層，進(jìn)而也可以降低多個(gè)層的表層的電阻。此外，上述實(shí)施例所示的反射防止層的層結(jié)構(gòu)只不過(guò)是幾個(gè)例子，本發(fā)明不限于 這些層結(jié)構(gòu)。例如，也可適用于3層以下或者9層以上的反射防止層，該情況下，降低電阻的 層不限于一層。此外，高折射率層和低折射率層的組合不限于Ti02/Si02、Nb205/Si02、Zr02/SiO2，也可以是Ta205/Si02、Nd02/Si02、Hf02/Si02、AL203/Si02等。即使是這些體系，通過(guò)如上 所述降低任意一層的表層的電阻，由此，也可以降低反射防止層3的電阻值，提高導(dǎo)電性。
本發(fā)明的光學(xué)物品的制造方法不限于眼鏡用鏡片，還可適用于投影用透鏡、成像 用透鏡、分色棱鏡、玻璃罩、DVD等信息存儲(chǔ)裝置、表現(xiàn)出良好外觀的內(nèi)置有介質(zhì)的裝飾品 等，可以提供具有帶電防止功能的光學(xué)物品。此外，上述所示的實(shí)施方式只不過(guò)是例示，本 領(lǐng)域技術(shù)人員能利用本發(fā)明得到的光學(xué)物品的制造方法也包含在本發(fā)明中。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)物品制造方法，其中，該光學(xué)物品制造方法具有以下步驟 在光學(xué)基材上直接或者隔著其他層形成透光性的第一層；以及離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種成分，由 此降低所述第一層的表層的至少一部分的電阻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)物品制造方法，其中，所述降低電阻的步驟包含在所述第一層的表層的至少一部分上混合鈦、鈮以及氧的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)物品制造方法，其中，所述降低電阻的步驟包含使所述第一層的表層的至少一部分成為鈦鈮氧化物的步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 所述第一層是包含鈦氧化物的層，所述降低電阻的步驟包含離子輔助蒸鍍鈮或鈮氧化物的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 所述第一層是包含鈮氧化物的層，所述降低電阻的步驟包含離子輔助蒸鍍鈦或鈦氧化物的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 所述第一層是不含鈦和鈮的氧化物層，所述降低電阻的步驟包含離子輔助蒸鍍鈦或鈦氧化物之后，離子輔助蒸鍍鈮或鈮氧 化物的步驟；或者離子輔助蒸鍍鈮或鈮氧化物之后，離子輔助蒸鍍鈦或鈦氧化物的步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中的任意一項(xiàng)所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 所述第一層是多層結(jié)構(gòu)的反射防止層所包含的一個(gè)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)物品制造方法，其中，該光學(xué)物品制造方法還具有在所述第一層上直接或者隔著其他層形成防污層的步驟。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中的任意一項(xiàng)所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 所述光學(xué)基材是塑料鏡片基材。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)物品制造方法，其中， 該光學(xué)物品是眼鏡鏡片。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能形成帶電防止性良好的層的光學(xué)物品制造方法。提供一種光學(xué)物品制造方法，該光學(xué)物品制造方法具有以下步驟在光學(xué)基材上直接或者隔著其他層形成透光性的第一層；以及離子輔助蒸鍍從由鈦、鈮、鈦氧化物以及鈮氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種成分，由此降低第一層的表層的至少一部分的電阻。雖然是鈦-鈮系，但是能降低表面的電阻而不使用高溫處理，此外，能降低表面的電阻而不使用昂貴的銦。
文檔編號(hào)C23C14/24GK101995588SQ20101025025
公開(kāi)日2011年3月30日 申請(qǐng)日期2010年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月10日
發(fā)明者西本圭司, 野口崇 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社