用于制造光學(xué)膜的裝置的制造方法
【專利說明】用于制造光學(xué)膜的裝置
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2014年3月21日遞交的韓國專利申請(qǐng)N0.10-2014-0033569的權(quán)益，該申請(qǐng)的全部內(nèi)容通過引用的方式整體并入本申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003]本發(fā)明通常涉及一種用于制造光學(xué)膜的裝置并且更具體地涉及一種能夠?qū)崿F(xiàn)減小具有圖案的光學(xué)膜的厚度的同時(shí)保持光源的尺寸的用于制造光學(xué)膜的裝置。
【背景技術(shù)】
[0004]在現(xiàn)代工業(yè)社會(huì)中，用作信息顯示裝置的電子顯示器非常重要。近年來，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，IXD)已經(jīng)作為代替陰極射線管(Cathode Ray tube，CRT)的信息顯示裝置保持非常主要的位置。
[0005]LCD針對(duì)各種目的被用在各種電子裝置中，例如移動(dòng)電話、汽車導(dǎo)航系統(tǒng)的車載裝置、監(jiān)控器和大比例電視(TV)屏。
[0006]IXD為用于由背光單元(backlight unit，BLU)發(fā)射的光的控制通過液晶模塊的光交換功能實(shí)現(xiàn)的顯示裝置。為了實(shí)現(xiàn)LCD的高質(zhì)量的顯示性能，多種光學(xué)膜被用作導(dǎo)光板(light guide plates，LGP)。
[0007]根據(jù)使用LCD的電子裝置的纖薄化和輕質(zhì)化的近期趨勢，使用光學(xué)膜的LCD需要更薄且更輕質(zhì)。在現(xiàn)有技術(shù)中，應(yīng)注意，可以實(shí)現(xiàn)盡管光學(xué)膜的厚度(高度)的減少，但是放置在光學(xué)膜的邊緣的外部的光源(LED)的尺寸的減少被限制。
[0008]例如，當(dāng)光源的尺寸等于或大于與光源一起使用的光學(xué)膜的厚度時(shí)，會(huì)發(fā)生漏光，其中，光不合需要地從光學(xué)膜泄露。
[0009]與此相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)在專利號(hào)為10-1109749的韓國專利中公開(于2012年I月18日登記，題為用于制造導(dǎo)光板的設(shè)備和方法”)。
[0010][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0011]專利文獻(xiàn)1:專利號(hào)為10-1109749的韓國專利(于2012年I月18日登記)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]因此，本發(fā)明考慮現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)的上述問題，并且本發(fā)明的目標(biāo)在于提供一種用于制造光學(xué)膜的裝置，所述裝置能夠?qū)崿F(xiàn)具有圖案的光學(xué)膜的厚度的減小的同時(shí)保持光源的尺寸。
[0013]本發(fā)明的另一目標(biāo)在于提供一種用于制造光學(xué)膜的裝置，所述裝置設(shè)置有用于在通過使用上輥和下輥在光學(xué)膜的表面上形成圖案的過程期間牢固地保持光學(xué)膜的膜保持單元，所以本發(fā)明的裝置能夠大大減小光學(xué)膜上形成的劣質(zhì)圖案的比率。
[0014]為了完成上述目標(biāo)，本發(fā)明提供了一種用于制造光學(xué)膜的裝置，所述裝置包括上輥和下輥，涂層的光學(xué)膜在所述上輥和所述下輥之間經(jīng)過，并且所述上輥和所述下輥進(jìn)行旋轉(zhuǎn)以便在所述光學(xué)膜的表面上形成圖案，其中，所述光學(xué)膜設(shè)置有光引導(dǎo)部分，所述光引導(dǎo)部分形成在所述光學(xué)膜的縱向邊緣的上表面上，并且所述光引導(dǎo)部分所具有的高度大于所述光學(xué)膜的其它部分的高度，并且所述光引導(dǎo)部分使光穿過所述光學(xué)膜的縱向邊緣而被向內(nèi)引導(dǎo)至所述光學(xué)膜中；所述下輥設(shè)置有基片和壓模，所述基片具有引導(dǎo)線并且被設(shè)置在所述下輥的外圓周表面上，并且所述壓模在所述引導(dǎo)線以內(nèi)的預(yù)定位置處被設(shè)置在所述基片的外圓周表面上并且在所述光學(xué)膜的下表面上形成圖案；并且所述上輥設(shè)置有高厚部分，所述高厚部分形成在所述上輥的外圓周表面上，使得所述高厚部分與所述光學(xué)膜的上表面的除了所述光引導(dǎo)部分以外的部分區(qū)域或整個(gè)區(qū)域接觸，從而防止所述上輥與所述光引導(dǎo)部分的上表面接觸。
[0015]進(jìn)一步，所述高厚部分所具有的高度可等于或大于所述光引導(dǎo)部分在所述光學(xué)膜的上表面上方的高度。
[0016]進(jìn)一步，所述高厚部分可設(shè)置有在所述光學(xué)膜的上表面上形成圖案的壓模。
[0017]所述裝置可進(jìn)一步包括:膜保持單元，所述膜保持單元設(shè)置在所述上輥和所述下輥中的任何一個(gè)輥上，以便保持所述光學(xué)膜的一個(gè)縱向邊緣或相對(duì)的兩個(gè)縱向邊緣。
[0018]進(jìn)一步，所述膜保持單元可包括:引導(dǎo)部，所述引導(dǎo)部形成在所述上輥和所述下輥中的所述任何一個(gè)輥的一個(gè)端部上或相對(duì)的兩個(gè)端部上，使得所述引導(dǎo)部沿所述任何一個(gè)輥的軸向方向延伸；可移動(dòng)單元，所述可移動(dòng)單元被設(shè)置在所述引導(dǎo)部中，使得所述可移動(dòng)單元沿所述引導(dǎo)部移動(dòng)；可移動(dòng)環(huán)，所述可移動(dòng)環(huán)被連接至所述可移動(dòng)單元并且與所述上輥和所述下輥中的所述任何一個(gè)輥的外圓周表面貼合；以及傳感器單元，所述傳感器單元檢測所述可移動(dòng)環(huán)與所述光學(xué)膜的縱向邊緣的接觸并且控制所述可移動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)。
[0019]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的用于制造光學(xué)膜的裝置的有利之處在于，所述裝置能夠?qū)崿F(xiàn)減小具有圖案的光學(xué)膜的厚度的同時(shí)保持光源的尺寸。
[0020]本發(fā)明的用于制造光學(xué)膜的裝置的另一優(yōu)點(diǎn)在于，所述裝置設(shè)置有用于在通過使用上輥和下輥在光學(xué)膜的表面上形成圖案的過程期間牢固地保持光學(xué)膜的膜保持單元，所以所述裝置能夠大大減小光學(xué)膜上形成的劣質(zhì)圖案的比率。
【附圖說明】
[0021]通過結(jié)合附圖的以下詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述的以及其它的目標(biāo)、特征和優(yōu)點(diǎn)將更充分地被理解，在附圖中:
[0022]圖1為示出由本發(fā)明的光學(xué)膜制造裝置執(zhí)行的光學(xué)膜制造過程的視圖；
[0023]圖2A和圖2B為示出由根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置加工的光學(xué)膜的形狀的透視圖和正視圖；
[0024]圖3為示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置的構(gòu)造的平面視圖，其中，壓模設(shè)置在所述裝置的下輥上；
[0025]圖4為示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置的構(gòu)造的平面視圖，其中，相應(yīng)的壓模被設(shè)置在所述裝置的上輥和下輥上；
[0026]圖5為示出用于通過根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置的膜保持單元來保持光學(xué)膜的操作的透視圖；以及
[0027]圖6A至圖6F為示出沿本發(fā)明中使用的光學(xué)膜的邊緣形成的光引導(dǎo)部分的多種形狀的視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下文將參考附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)地描述。下文將省略重復(fù)描述和已經(jīng)被認(rèn)為使本發(fā)明的主旨不必要的模糊不清的已知的功能和構(gòu)造的描述。本發(fā)明的實(shí)施例旨在向本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員充分地描述本發(fā)明。因此，附圖中的部件的形狀、尺寸等可以被夸大以使描述更清楚。
[0029]圖1為示出由本發(fā)明的光學(xué)膜制造裝置執(zhí)行的光學(xué)膜制造過程的視圖。
[0030]如圖1所示，在從光學(xué)膜20移除保護(hù)膜之后，光學(xué)膜20沿進(jìn)給輥10移動(dòng)并且在上輥100和下輥200之間經(jīng)過。
[0031]當(dāng)光學(xué)膜20在上輥100和下輥200之間經(jīng)過時(shí)，圖案例如通過設(shè)置在下輥200的外圓周表面上的壓模300在光學(xué)膜20的下表面上形成。
[0032]在上輥100和下輥200之間經(jīng)過之后，光學(xué)膜20進(jìn)一步沿進(jìn)給輥10移動(dòng)并且在預(yù)定位置處被檢查，因此能夠?qū)⒘淤|(zhì)光學(xué)膜與優(yōu)良的光學(xué)膜分離。在檢查光學(xué)膜的質(zhì)量之后，優(yōu)良的光學(xué)膜移動(dòng)到預(yù)定地點(diǎn)，同時(shí)劣質(zhì)光學(xué)膜被丟棄。
[0033]圖2A和圖2B為示出由根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置加工的光學(xué)膜的形狀的透視圖和正視圖。
[0034]在本發(fā)明中使用的光學(xué)膜20中，由光源(未示出)發(fā)射的光穿過膜20的縱向邊緣被向內(nèi)引導(dǎo)至光學(xué)膜20中。光引導(dǎo)部分21被設(shè)置在光學(xué)膜20的縱向邊緣的上表面上。在此，光引導(dǎo)部分21的高度(厚度)大于光學(xué)膜20的其它部分的高度(厚度)。
[0035]在本發(fā)明中，盡管沿光學(xué)膜20的上表面的邊緣可以形成具有臺(tái)階式橫截面的光引導(dǎo)部分，但是更優(yōu)選地，光引導(dǎo)部分21和光學(xué)膜20的其它部分的上表面之間的接合部可由傾斜表面22形成(如圖2B的正視圖所示)。
[0036]如上所述，當(dāng)傾斜表面22形成在光引導(dǎo)部分21和光學(xué)膜20的其它部分的上表面之間的接合部上時(shí)，光學(xué)膜20能夠有效地向內(nèi)反射通過光引導(dǎo)部分21接收的光。因此，與具有臺(tái)階式的光引導(dǎo)部分的光學(xué)膜相比，在光引導(dǎo)部分21和光學(xué)膜20的其它部分的上表面之間的接合部上具有傾斜表面22的光學(xué)膜20能夠更有效地收集從光源(未示出)發(fā)射的光。
[0037]此外，如上所述，因?yàn)楣庖龑?dǎo)部分21的高度大于光學(xué)膜20的其它部分的高度，所以當(dāng)設(shè)計(jì)LCD時(shí)，可選擇尺寸與光引導(dǎo)部分21的充分高度相對(duì)應(yīng)的光源，同時(shí)減小光學(xué)膜20的厚度。因此，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)LCD的微小化和輕質(zhì)化。
[0038]如圖6A至圖6F所示，光學(xué)膜20的光引導(dǎo)部分21可根據(jù)具有該光學(xué)膜20的IXD具有多種形狀。
[0039]圖3為示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的光學(xué)膜制造裝置的構(gòu)造的平面視圖，其中，壓模設(shè)置在所述裝置的下輥上。
[0040]在圖3中，示出了上輥100、下輥200和光學(xué)膜20。進(jìn)一步，用于在光學(xué)膜20的表面上形成圖案的壓模300被設(shè)置在下輥200的外圓周表面上，其中，基片500被置于壓模300和下輥200的外圓周表面之間(如圖3的放大視圖所示)。
[0041]進(jìn)一步，如圖3的放大視圖所示，引導(dǎo)線510可被設(shè)置在基片500的外圓周表面上。在此，引導(dǎo)線510