專利名稱：用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法，尤指一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法。
背景技術(shù)：
薄膜太陽(yáng)能電池，顧名思義，乃是在塑膠、玻璃或是金屬基板上形成可產(chǎn)生光電效應(yīng)的薄膜，厚度僅需數(shù)μ m，因此在同一受光面積的下可較硅晶圓太陽(yáng)能電池大幅減少原料的用量。薄膜太陽(yáng)能電池并非是新概念的產(chǎn)品，實(shí)際上，以往人造衛(wèi)星早已普遍采用砷化鎵 (GaAs)所制造的高轉(zhuǎn)換效率薄膜太陽(yáng)能電池板(以單晶硅作為基板，轉(zhuǎn)換效能在30%以上)來(lái)進(jìn)行發(fā)電。薄膜太陽(yáng)能電池可在價(jià)格低廉的玻璃、塑膠或不銹鋼基板上大量制作，以生產(chǎn)出大面積的太陽(yáng)能電池，而其制程可以直接導(dǎo)入已經(jīng)相當(dāng)成熟的TFT-IXD制程，此為其優(yōu)點(diǎn)。習(xí)知的濺鍍技術(shù)乃是在一腔體的濺鍍空間內(nèi)產(chǎn)生一等離子體，利用等離子體中的離子以加速的方式對(duì)靶材進(jìn)行轟擊，使得靶材上的材料濺鍍于基板的表面上，讓基板的表面形成一鍍膜。然而，以此種習(xí)知技術(shù)為主的濺鍍機(jī)或?yàn)R鍍方法，其靶材使用率太低，且基板的成膜均勻度也未達(dá)理想，以致生產(chǎn)成本居高不下。是故，如何提供一濺鍍機(jī)可提高靶材使用率與降低生產(chǎn)成本并且在基板上形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜實(shí)為一重要課題。本發(fā)明有鑒于此，提出了一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法，其解決習(xí)知濺鍍機(jī)在基板所形成的鍍膜并不均勻的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法， 于腔體的濺鍍空間內(nèi)并在靶材背面?zhèn)仍O(shè)置至少一磁性元件，由于該磁性元件會(huì)在該靶材表面形成與靶材平行的磁場(chǎng)，而該磁場(chǎng)會(huì)讓等離子體中的離子以更快速的方式轟擊靶材，如此即可提高靶材的使用率而降低生產(chǎn)成本，并且可使得基板表面上所沉積的鍍膜分布地更為均勻以提高濺鍍品質(zhì)。達(dá)到上述目的的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)，包含一具有濺鍍空間的腔體以及一設(shè)于該腔體的濺鍍空間內(nèi)的基板與靶材，該靶材用以濺鍍?cè)摶澹⒂谠摪胁谋趁鎮(zhèn)仍O(shè)有至少一磁性元件，藉由該磁性元件的磁場(chǎng)作用，使該靶材被撞擊出來(lái)的濺鍍?cè)映练e于該基板表面上，而形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜。較佳地，該磁性元件為永久磁鐵。較佳地，該磁性元件為導(dǎo)電線圈。達(dá)到上述目的的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法，包含提供一具有濺鍍空間的腔體；令一基板設(shè)于該腔體的濺鍍空間內(nèi)；令一靶材設(shè)于該腔體的濺鍍空間內(nèi)，并位在該基板的一側(cè)；令至少一磁性元件設(shè)于該靶材的背面?zhèn)?，并位于該腔體的濺鍍空間內(nèi)；
3令該濺鍍空間內(nèi)部呈真空狀態(tài)，并通入等離子體；以及令該靶材的原子被濺出而沉積在該
基板上以形成一鍍膜。 較佳地，該磁性元件為永久磁鐵。 較佳地，該磁性元件為導(dǎo)電線圈。


圖1為顯示本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)的剖視圖；圖2為顯示本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法的流程圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明1—用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)2-—腔體3-—濺鍍空間4-—基板5——革巴材6-—磁性元件7-—鍍膜
具體實(shí)施例方式雖然本發(fā)明將參閱含有本發(fā)明較佳實(shí)施例的所附圖式予以充分描述，但在此描述的前應(yīng)了解熟悉本行的人士可修改本文中所描述的發(fā)明，同時(shí)獲致本發(fā)明的功效。因此， 須了解以上的描述對(duì)熟悉本行技藝的人士而言為一廣泛的揭示，且其內(nèi)容不在于限制本發(fā)明。請(qǐng)參閱圖1，系顯示本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)1的剖視圖。在此一實(shí)施例中，本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)1包含一腔體2，具有一濺鍍空間3 ；—基板4，設(shè)于該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)；一靶材5，設(shè)于設(shè)于該腔體2的濺鍍空間 3內(nèi)，并位在該基板4的一側(cè)；以及至少一磁性元件6，設(shè)于該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)，并位在該靶材5的背面?zhèn)?。其中，該磁性元?可為一永久磁鐵或?qū)щ娋€圈。使該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)呈真空狀態(tài)，并且通入帶有電荷的等離子體離子，例如帶正電的氬離子。由于該靶材5電氣連接一陰極(圖未示)，該基板4電氣連接一陽(yáng)極 (圖未示)，故在濺鍍空間3內(nèi)的帶正電氬離子會(huì)向該靶材5接近，而對(duì)該靶材5進(jìn)行轟擊。 又，因?yàn)闅咫x子對(duì)該靶材5進(jìn)行轟擊，使得該靶材5的原子被濺出而沉積在該基板4的表面上，于是該基板4的表面上便形成一鍍膜7。由于本發(fā)明在該靶材5的背面?zhèn)仍O(shè)有該磁性元件6，所以該磁性元件6會(huì)在該靶材 5表面形成與該靶材5平行的磁場(chǎng)。而該磁場(chǎng)會(huì)讓等離子體中的氬離子以更快速的方式轟擊該靶材5，藉以提高該靶材5的使用率而降低生產(chǎn)成本(減少該靶材5局部耗損而必須報(bào)廢)，并且使得該基板4表面上沉積而形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜7。請(qǐng)參閱圖2，系顯示本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法的流程圖。本發(fā)明根據(jù)該用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)1而實(shí)施的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法包含下列步驟
提供一具有濺鍍空間3的腔體2 ；令一基板4設(shè)于該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)，該基板4電氣連接一陽(yáng)極；令一靶材5設(shè)于該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)，并位在該基板4的一側(cè)，該靶材5電氣連接一陰極；令至少一磁性元件6設(shè)于該靶材5的背面?zhèn)?，并位于該腔體2的濺鍍空間3內(nèi)，該磁性元件6會(huì)在該靶材5表面形成與該靶材5平行的磁場(chǎng)；令該濺鍍空間3內(nèi)部呈真空狀態(tài)，并通入等離子體，其中該等離子體含有帶正電荷的氬離子，而該磁性元件6所形成的磁場(chǎng)會(huì)讓等離子體中的氬離子以更快速的方式轟擊該靶材5;以及令該靶材5的原子被濺出而沉積在該基板4的表面上，使該基板4的表面上形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜7。本發(fā)明用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)的優(yōu)點(diǎn)在于于靶材的背面?zhèn)仍O(shè)有至少一磁性元件，而磁性元件會(huì)在靶材表面形成與靶材平行的磁場(chǎng)，此磁場(chǎng)會(huì)讓等離子體中的氬離子以更快速的方式轟擊靶材，如此即可提高靶材的使用率而降低生產(chǎn)成本，且減少靶材局部耗損而必須報(bào)廢，并使得基板表面上所沉積的鍍膜分布地更為均勻以提高鍍膜的品質(zhì)。在詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的較佳實(shí)施例之后，熟悉該項(xiàng)技術(shù)人士可清楚的了解，在不脫離權(quán)利要求范圍下，可進(jìn)行各種變化與改變，且本發(fā)明亦不受限于說(shuō)明書(shū)中所舉實(shí)施例的實(shí)施方式。
權(quán)利要求
1.一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)，所述的磁控濺鍍機(jī)包含一具有濺鍍空間的腔體以及一設(shè)于所述的腔體的濺鍍空間內(nèi)的基板與靶材，所述的靶材用以濺鍍所述的基板，其特征在于在所述的靶材背面?zhèn)仍O(shè)有至少一磁性元件，由所述的磁性元件的磁場(chǎng)作用，使所述的靶材被撞擊出來(lái)的濺鍍?cè)映练e于所述的基板表面上，而形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜。
2.如權(quán)利要求1所述的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)，其特征在于，所述的磁性元件為永久磁鐵。
3.如權(quán)利要求1所述的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)，其特征在于，所述的磁性元件為導(dǎo)電線圈。
4.一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的方法包含提供一具有濺鍍空間的腔體；令一基板設(shè)于所述的腔體的濺鍍空間內(nèi)；令一靶材設(shè)于所述的腔體的濺鍍空間內(nèi)，并位在所述的基板的一側(cè)；令至少一磁性元件設(shè)于所述的靶材的背面?zhèn)?，并位于所述的腔體的濺鍍空間內(nèi)；令所述的濺鍍空間內(nèi)部呈真空狀態(tài)，并通入等離子體；以及令所述的靶材的原子被濺出而沉積在所述的基板上以形成一鍍膜。
5.如權(quán)利要求4所述的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的磁性元件為永久磁鐵。
6.如權(quán)利要求4所述的用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的磁性元件為導(dǎo)電線圈。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍機(jī)及濺鍍方法，該磁控濺鍍機(jī)包含一具有濺鍍空間的腔體以及一設(shè)于腔體的濺鍍空間內(nèi)的基板與靶材，靶材用以濺鍍基板，并于靶材背面?zhèn)仍O(shè)有至少一磁性元件，藉由磁性元件的磁場(chǎng)作用，使靶材被撞擊出來(lái)的濺鍍?cè)映练e于基板表面上，而形成一高均勻度及高品質(zhì)的鍍膜；本發(fā)明還提供一種用于薄膜太陽(yáng)能電池制造的磁控濺鍍方法。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102234777SQ20101017025
公開(kāi)日2011年11月9日 申請(qǐng)日期2010年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
發(fā)明者張一熙 申請(qǐng)人:亞洲太陽(yáng)科技有限公司