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高效無(wú)劃傷玻璃拋光液及其生產(chǎn)方法

文檔序號(hào):3395978閱讀:127來(lái)源:國(guó)知局

專利名稱::高效無(wú)劃傷玻璃拋光液及其生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及一種化工產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝,特別是用于加工玻璃的拋光液的生產(chǎn)
技術(shù)領(lǐng)域
。
背景技術(shù)
:當(dāng)前玻璃加工企業(yè)生產(chǎn)中所使用的玻璃拋光液主要以大顆粒稀土氧化物粉做拋光摩擦劑,總體拋光速率低,分散穩(wěn)定性差,容易導(dǎo)致嚴(yán)重的表面劃傷,還存在平化拋光效率低等缺陷。長(zhǎng)時(shí)間拋光往往大大降低拋光效率,造成拋光機(jī)的迅速磨損,生產(chǎn)效率低,以及大量的耗材消費(fèi)。拋光粉的粒徑控制通常是通過(guò)多級(jí)風(fēng)選完成的。由于微米以及亞微米劑固體顆粒具有很高的比表面活化能,團(tuán)聚現(xiàn)象導(dǎo)致風(fēng)選無(wú)法嚴(yán)格控制拋光粉研磨劑的粒度與分布,導(dǎo)致拋光粉在劃傷方面的性能難以穩(wěn)定控制。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明第一目的在于發(fā)明一種分散穩(wěn)定性好、平化拋光效率高、不損傷拋光機(jī)的高效無(wú)劃傷玻璃拋光液。本發(fā)明主要由水、占拋光液總重量的0.150%的經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和占拋光液總重量的0.530%的無(wú)定形硅酸鹽組成。本發(fā)明產(chǎn)品通過(guò)高強(qiáng)度機(jī)械摩擦,增強(qiáng)各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用,充分發(fā)揮各種復(fù)合組分的協(xié)同增效功能,拋光效果穩(wěn)定,表面缺陷低,無(wú)劃痕。本發(fā)明所述無(wú)定形硅酸鹽優(yōu)選為硅酸鹽小分子聚合體。該無(wú)定形硅酸鹽小分子聚合體加快了拋光液的切削率。另外,本發(fā)明還可有占拋光液總重量的0.510%的高分子分散劑。以保證所生產(chǎn)拋光液產(chǎn)品懸浮性強(qiáng),不宜沉積,分散穩(wěn)定性好。本發(fā)明還可有占拋光液總重量的0.110%的多官能團(tuán)加速劑??捎行岣咂交瘨伖庑剩也灰自斐蓪?duì)拋光機(jī)的損傷。本發(fā)明還可有占拋光液總重量的0.00510%的表面活性劑。以改進(jìn)拋光液的液體流變性,并與利于拋光后的清洗。本發(fā)明的第二個(gè)目的還在于為上述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液提供一種可行的生產(chǎn)方法。本發(fā)明之方法是先將經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和水混合,制成稀土氧化物懸浮液,再加入無(wú)定形硅酸鹽,攪勻,調(diào)整pH值至4U,制成混合懸浮液,再將該混合懸浮液在水性載體中通過(guò)高強(qiáng)度機(jī)械研磨制成;所述經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和無(wú)定形硅酸鹽分別占拋光液總重量的0.150%和0.5300/0。生產(chǎn)過(guò)程中原料的介質(zhì)溫度為560°C。目的是能有效控制無(wú)定形硅酸鹽小分子的聚合度,同時(shí)更有效地與稀土氧化物結(jié)合產(chǎn)生最有效的復(fù)合拋光材料。另外,在稀土氧化物懸浮液中還加入占拋光液總重量的0.510%的高分子分散劑。加入占拋光液總重量的0.110%的多官能團(tuán)加速劑。加入占拋光液總重量的0.00510%的表面活性劑。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單、易于操作,方便生產(chǎn),生產(chǎn)效率高,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。具體實(shí)施例方式例一一、制備拋光液稱取250克經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物,加入4417克水中,室溫下攪拌均勻,制成稀土氧化物懸浮液。向稀土氧化物懸浮液加入333克30%無(wú)定形硅酸鹽,30克體積濃度為50%的十二垸基聚環(huán)氧垸磷酸酯(高分子分散劑),5克草聚乙二醇醚(表面活性劑)進(jìn)一步攪勻,將pH調(diào)至8,形成混合懸浮液。本發(fā)明整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中原料的介質(zhì)溫度控制在560°C。將上述混合懸浮液注入不銹鋼內(nèi)襯裝有5kg高鈦合金研磨珠的球磨機(jī)分別研磨5、10、30、60分鐘,分別制成樣品A、B、C、D。二、拋光實(shí)例將所制各樣品分別在LogitechCDP單面拋光機(jī)上拋光。拋光機(jī)下壓lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM,拋光液流速100ml/分鐘。<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>總結(jié)在各原料成份相同的條件下,隨研磨時(shí)間增長(zhǎng),拋光效率降低,表面劃傷快速降低至不可測(cè)。例二一、制備拋光液稱取不等量經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物,分別加入等量水中,室溫下攪拌均勻,分別制成不同的稀土氧化物懸浮液。生產(chǎn)過(guò)程中原料的介質(zhì)溫度為560。C。分別向各稀土氧化物懸浮液加入不等量的無(wú)定形硅酸鹽,進(jìn)一步攪勻。在陶瓷內(nèi)襯的砂磨機(jī)研磨10分鐘。二、拋光實(shí)例將所制各拋光液分別在LogitechCDP單面拋光機(jī)上拋光。拋光機(jī)下壓:lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM,拋光液流速100ml/分鐘。<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>總結(jié)在pH值相同的條件下,不同的各原料配比,可獲得不同的的拋光效率,最高可達(dá)776納米/分。例三-一、制備拋光液稱取250克經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物,加入4417克水中,室溫下攪拌均勻,制成稀土氧化物懸浮液。向稀土氧化物懸浮液加入333克30%的無(wú)定形硅酸鹽,進(jìn)一步攪勻。加入KOH,將pH值分別調(diào)至10,制成拋光液初品。向拋光液初品加入不等量吡啶,分別制成拋光液A、B、C、D。在超硬合金內(nèi)襯的砂磨機(jī)研磨IO分鐘。二、拋光實(shí)例將所制各拋光液分別在LogitechCDP單面拋光機(jī)上拋光。拋光機(jī)下壓:lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM,拋光液流速100ml/分鐘。<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>總結(jié)加入適當(dāng)濃度的吡啶可使拋光液的拋光效率得以改善。例四一、制備拋光液稱取250克經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物,加入4417克水中,室溫下攪拌均勻,制成稀土氧化物懸浮液。向稀土氧化物懸浮液加入333克30%無(wú)定形硅酸鹽,30克50%十二垸基聚環(huán)氧垸磷酸酯(高分子分散劑),5克草聚乙二醇醚進(jìn)一步攪勻,將pH調(diào)至8。在超硬合金內(nèi)襯的砂磨機(jī),研磨珠與懸浮液固含量比為1:5,1:3,1:1以及1:0.5,研磨時(shí)間十分鐘。二、拋光實(shí)例將所制各拋光液分別在LogitechCDP單面拋光機(jī)上拋光。拋光機(jī)下壓lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM,拋光液流速100ml/分鐘。研磨珠與懸浮液固體比拋光速率(納米/分)1:55291:37291:16131:0.5617總結(jié)適當(dāng)?shù)难心ソ橘|(zhì)懸浮液固體比可使拋光液的拋光效率得以改善。例五一、制備拋光液根據(jù)表下表,配制拋光液。在超硬合金內(nèi)襯的砂磨機(jī)研磨時(shí)間十分鐘。且,整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中原料的介質(zhì)溫度控制在560。C。二、拋光實(shí)例-將所制各拋光液分別在LogitechCDP單面拋光機(jī)上拋光。拋光機(jī)下壓:lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM,拋光液流速100ml/分鐘。稀土氧化物(%)硅酸鹽聚合物(%)高分子分散劑(如,聚酰胺,或十二烷基聚環(huán)氧乙烷醇,或聚甲基丙烯酸聚環(huán)氧烷酯,等)(%)多官能團(tuán)加速劑(如,草酸,吡啶,乙酸,丁二酸,氨基丁酸,等)(10%)表面活性劑(如,三甲基十二烷基氯化銨,或混合聚環(huán)氧乙垸聚環(huán)氧丙烷醚,或烷基磷酸鹽,等)拋光速率(納米/分)0.13010.50.11595020.8o細(xì)1037300.51.50.058920.530630.022731100.530.13330.10.5100.50.0513100.50.1126910之100.00674400.531.50.005983510.50.110585另,本發(fā)明生產(chǎn)過(guò)程采用的高分子分散劑包括但不排除其他高分子材料,可以采用聚氨酯、聚環(huán)氧烷醚、烷基聚環(huán)氧酸酯,等等。本發(fā)明生產(chǎn)過(guò)程采用的多官能團(tuán)加速劑包括但不排除其他化合物,可以采用各種有機(jī)酸、多元酸、含氮化合物等。本發(fā)明生產(chǎn)過(guò)程采用的表面活性劑包括但不排除其他化合物,可以采用聚乙二醇、聚環(huán)氧丙烷醚、含硅聚乙二醇、烷基季銨鹽、烷基磺酸鹽(酯)、垸基磷酸鹽(酯),等。本發(fā)明生產(chǎn)過(guò)程采用的稀土氧化物包括但不排除其他氧化物,可以采用氧化鋁、氧化鋯、碳化硅,等。權(quán)利要求1、高效無(wú)劃傷玻璃拋光液,包括水,其特征在于還包括占拋光液總重量的0.1~50%的經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物、占拋光液總重量的0.5~30%的無(wú)定形硅酸鹽。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液,其特征在于所述無(wú)定形硅酸鹽為硅酸鹽小分子聚合體。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液,其特征在于所述拋光液中還包括占拋光液總重量的0.510%的高分子分散劑。4、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液,其特征在于所述拋光液中還包括占拋光液總重量的0.110%的多官能團(tuán)加速劑。5、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液,其特征在于所述拋光液中還包括占拋光液總重量的0.00510%的表面活性劑。6、一種如權(quán)利要求1所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液的生產(chǎn)方法,其特征在于先將經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和水混合,制成稀土氧化物懸浮液,再加入無(wú)定形硅酸鹽,攪勻,調(diào)整pH值至411,制成混合懸浮液,再將該混合懸浮液在水性載體中通過(guò)高強(qiáng)度機(jī)械研磨制成;所述經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和無(wú)定形硅酸鹽分別占拋光液總重量的0.150%和0.530%。7、根據(jù)權(quán)利要求6所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液的生產(chǎn)方法,其特征在于生產(chǎn)過(guò)程中原料的介質(zhì)溫度為560°C。8、根據(jù)權(quán)利要求6或7所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液的生產(chǎn)方法,其特征在于稀土氧化物懸浮液中還加入占拋光液總重量的0.510%的高分子分散劑。9、根據(jù)權(quán)利要求6或7所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液的生產(chǎn)方法,其特征在于稀土氧化物懸浮液中還加入占拋光液總重量的0.110%的多官能團(tuán)加速劑。10、根據(jù)權(quán)利要求6或7所述高效無(wú)劃傷玻璃拋光液的生產(chǎn)方法,其特征在于稀土氧化物懸浮液中還加入占拋光液總重量的0.00510%的表面活全文摘要高效無(wú)劃傷玻璃拋光液及其生產(chǎn)方法,涉及用于加工玻璃的拋光液的生產(chǎn)
技術(shù)領(lǐng)域
。先將經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和水混合,制成稀土氧化物懸浮液,再加入無(wú)定形硅酸鹽,攪勻,調(diào)整pH至4~11,制成混合懸浮液,再將該混合懸浮液在水性載體中通過(guò)高強(qiáng)度機(jī)械研磨制成;所述經(jīng)高溫焙燒的稀土氧化物和無(wú)定形硅酸鹽分別占拋光液總重量的0.1~50%和0.5~30%。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單、易于操作,方便生產(chǎn),生產(chǎn)效率高,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。通過(guò)高強(qiáng)度機(jī)械摩擦,增強(qiáng)各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用,充分發(fā)揮各種復(fù)合組分的協(xié)同增效功能,拋光效果穩(wěn)定,表面缺陷低,無(wú)劃痕。文檔編號(hào)B24B7/24GK101544871SQ200910031539公開日2009年9月30日申請(qǐng)日期2009年4月22日優(yōu)先權(quán)日2009年4月22日發(fā)明者韜孫申請(qǐng)人:韜孫
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