專利名稱：流體控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造裝置等中使用的流體控制裝置，尤其涉 及集成多個流體控制設(shè)備形成的流體控制裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制造裝置所使用的流體控制裝置中，正在推行集成化， 所謂集成化是，多個流體控制設(shè)備串聯(lián)配置且不經(jīng)由管和接頭連接 而形成多條管線，將該多條管線并列地設(shè)置在基座部件上。在專利
文獻1中，作為這樣的流體控制裝置，公開了以下裝置作為下級層 的多個塊狀接頭部件通過螺釘部件安裝在基座部件上，作為上級層 的多個流體控制設(shè)備以跨越相鄰的接頭部件的方式被安裝在接頭部 件上。
專利文獻l:日本特開平IO - 227368號公報
在上述專利文獻l的流體控制裝置中，與以往的裝置相比，雖具 有能夠使裝置的占有空間減少以及通路的體積減少的優(yōu)點，但是存 在如下問題零件數(shù)量較多，在以跨越相鄰的接頭部件的方式安裝 流體控制設(shè)備時定位需要花費工時，從而希望能夠進一 步改良。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種流體控制裝置，其能夠削減零件數(shù) 量并實現(xiàn)組裝作業(yè)效率的提高。
本發(fā)明的流體控制裝置具有多種流體控制設(shè)備；支承流體控 制設(shè)備的基座塊；用于確保流體通路彼此對接的部分中的密封性的 密封機構(gòu)，其特征在于多種流體控制設(shè)備的至少一個成為帶基座 塊的流體控制設(shè)備，該帶基座塊的流體控制設(shè)備具有設(shè)有在下表面
3開口的通路的連接塊部，且通過來自上方的螺釘部件與配置于其下 方的 一個或多個基座塊結(jié)合，多種流體控制設(shè)備中的其他流體控制 設(shè)備形成為主體下表面被封閉且在下方?jīng)]有配置基座塊的無基座塊 的流體控制設(shè)備，配置在帶基座塊的流體控制設(shè)備的下方的基座塊 和無基座塊的流體控制設(shè)備的主體以它們的下表面彼此成為同 一平 面的方式被前后方向上的螺釘部件結(jié)合。
在本說明書中，上下是指圖1及圖3的上下，前后方向是指圖l及 圖3的左右方向，但該上下及前后僅為了便于說明，流體控制裝置除
了以圖1及圖3的"上下"狀態(tài)安裝在水平面上以外，還有上下顛倒
地安裝在水平面上，或安裝在垂直面上的情況。
多種流體控制設(shè)備為帶基座塊的流體控制設(shè)備或無基座塊的流 體控制設(shè)備中的某一個。帶基座塊的流體控制設(shè)備的主體和基座塊 能夠分離，在沒有安裝基座塊的狀態(tài)下，能夠作為流體控制設(shè)備單 個零件進行處置，還能夠作為安裝有基座塊的組裝品進行處置。由 于無基座塊的流體控制設(shè)備沒有基座塊，所以通常能夠作為流體控 制設(shè)備單個零件進行處置。因此，位于帶基座塊的流體控制設(shè)備下 方的基座塊與無基座塊的流體控制設(shè)備的主體通過前后方向上的螺 釘部件進行結(jié)合，在該狀態(tài)下，帶基座塊的流體控制設(shè)備的流體控 制器能夠單獨從上方進行拆卸，無基座塊的流體控制設(shè)備不能夠單 獨從上方進4于拆卸。
在使多種流體控制設(shè)備全部為無基座塊的流體控制設(shè)備，并通 過前后方向上的螺釘部件對它們進行結(jié)合的情況下，不需要來自上 方的螺釘部件，在組裝作業(yè)效率方面有利。但是，在多種流體控制 設(shè)備中包括需要頻繁進行檢修和更換(拆卸的頻率高的零件)的零 件，因此，即使在僅拆卸一個流體控制設(shè)備的情況下，也需要拆卸 前后方向上的螺釘部件并對整體進行分解，維護性方面不利。通過 本發(fā)明的流體控制裝置，將能夠單獨從上方拆卸的帶基座塊的流體 控制設(shè)備作為相對拆卸頻率高的流體控制設(shè)備，由此，能夠使維護 性提高，并且，通過前后方向上的螺釘部件對帶基座塊的流體控制的容易程度。
帶基座塊的流體控制設(shè)備存在 一 個流體控制設(shè)備僅安裝在 一 個 基座塊上的情況，另外，還存在一個流體控制設(shè)備以跨越兩個基座 塊的方式被安裝的情況。
由于無基座塊的流體控制設(shè)備的主體與基座塊成為相同的水平 面，其主體由支承自身的致動部分的部分和與其一體設(shè)置的伸出部 分構(gòu)成，所以能夠?qū)⑸斐霾糠肿鳛榛鶋K使用。
例如，開閉閥(僅進行流體通^各的切斷、開》文的閥)為一種流 體控制設(shè)備，但是，在構(gòu)成流體控制裝置的設(shè)備中相對地難以發(fā)生 故障，需要維護的情況較少。而壓力調(diào)整器、過濾器、壓力顯示器 及流量調(diào)整器是相對檢修以及更換頻率較高的部件。因此，在本發(fā) 明中，對于流體控制裝置所使用的各種流體控制設(shè)備，著眼于其拆 卸的頻率，將對其進行組裝時的結(jié)合方式分為兩類。比開閉閥拆卸 的頻率高的流體控制設(shè)備有壓力調(diào)整器(或減壓閥)、壓力顯示器 及流量調(diào)整器(或質(zhì)量流量控制器)等。
帶基座塊的流體控制設(shè)備，即拆卸的頻率相對較高的流體控制 設(shè)備，由于通過來自上方的螺釘部件結(jié)合在位于下方的基座塊上， 所以通過拆卸該螺釘部件，能夠在上方單獨拆卸流體控制設(shè)備。無
基座塊的流體控制設(shè)備，即拆卸的頻率相對較低的流體控制設(shè)備， 由于一體設(shè)置的主體通過前后方向上的螺釘部件結(jié)合在基座塊上，
所以只要不拆卸前后方向上的螺釘而使其整體分解，該流體控制設(shè) 備就不能進行拆卸。其結(jié)果為，對于拆卸的頻率較高的流體控制設(shè) 備，通過使其成為能夠單獨從上方取出的設(shè)備，其維護性被提高， 對于拆卸的頻率較低的流體控制設(shè)備，雖然相對地使其維護性降低， 但是不使用作為額外部件的基座塊，所以能夠減少零件數(shù)量，組裝 也變得容易，作為流體控制裝置整體，能夠以比以往更高的水平同 時實現(xiàn)維護性和組裝性。
此外，在上述說明中，作為比開閉閥拆卸的頻率高的流體控制
5設(shè)備，例示了壓力調(diào)整器(或減壓閥)、壓力顯示器及流量調(diào)整器 (或質(zhì)量流量控制器)，但是，可以將這些流體控制設(shè)備中的幾個 作為無基座塊的流體控制設(shè)備，另外，當(dāng)然還可以將多個開閉閥中 的規(guī)定的部件，例如，配置在故障頻率較高的位置上的部件、配置 在易腐蝕的位置上的部件等作為帶基座塊的流體控制設(shè)備。另外， 在流體控制設(shè)備中包括形成有流體通路的通路塊，這樣的通路塊作 為拆卸的頻率低的流體控制設(shè)備進行處置。
各帶基座塊的流體控制設(shè)備，通過螺釘部件僅安裝在一個基座 塊上，由此，在安裝有基座塊的狀態(tài)下，能夠以單個零件進行處置。 這樣，在組裝的作業(yè)效率方面有利。
另外，存在至少在 一 個無基座塊的流體控制設(shè)備的主體上設(shè)有 對相鄰的帶基座塊的流體控制設(shè)備的 一部分進行支承的伸出塊部的 情況。這樣，對降低零件數(shù)量及減少密封部位來說有利。
基座塊的流體通路形狀及無基座塊的流體控制設(shè)備的主體的流 體通路形狀，根據(jù)相鄰的基座塊的流體通路形狀及無基座塊的流體 控制設(shè)備的主體的流體通路形狀適當(dāng)變更。例如，基座塊的流體通 路形狀及無基座塊的流體控制設(shè)備的主體的流體通路形狀存在形成 為L字狀的情況，另外，還存在在無基座塊的流體控制設(shè)備的主體上
各 一 個地設(shè)置V字狀及L字狀的通路的情況。
無基座塊的流體控制器的主體、基座塊及帶基座塊的流體控制 設(shè)備的連接塊部都是在長方體狀的塊內(nèi)部形成有至少 一個流體通路 的部件，在以下說明中，將這些部件總稱為"通路塊"。"通路塊" 在單獨使用的情況下，成為基座塊，在一體設(shè)在無基座塊的流體控 制設(shè)備上的情況下，成為主體，在一體設(shè)在帶基座塊的流體控制設(shè) 備上的情況下，成為連接塊部。基座塊及無基座塊的流體控制設(shè)備 主體的流體通路為在上方及前后開口且其下表面被封閉的部件，連 接塊部為在上下開口且其前后表面被封閉的部件。連接塊部和基座 塊被一體化的部件與無基座塊的流體控制設(shè)備的主體對應(yīng)，通過該
一體化，能夠?qū)崿F(xiàn)必要的零件數(shù)量的削減。密封機構(gòu)具有夾裝在各通路塊之間的墊圈、形成在各通路塊的 對接面上的環(huán)狀墊圈推壓突起，環(huán)狀墊圈推壓突起使墊圈發(fā)生變形， 由此確保密封性。墊圈推壓突起，在設(shè)于通路塊的基準面(設(shè)在對 接面上的凹處的底面)上向軸方向外側(cè)突出地設(shè)置。凹部從基準面 向軸向外側(cè)突出地形成，有助于貼合在墊圏上進行密封。墊圈優(yōu)選 為通過不銹鋼、鎳合金等形成為圓環(huán)狀(開有孔的圓板狀)。
螺釘部件優(yōu)選為不銹鋼制(SUS304、 SUS316等)，通路塊也優(yōu) 選為不銹鋼制(SUS304、 SUS316等)。 發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明的流體控制裝置，對相對的拆卸頻率較高的流體控 制設(shè)備和拆卸頻率較低的流體控制設(shè)備進行區(qū)別，對于拆卸頻率較 高的流體控制設(shè)備，作為帶基座塊的設(shè)備，能夠?qū)⑵鋯为殢纳戏饺?出，對于拆卸頻率較低的流體控制設(shè)備，通過不使用作為額外部件 的基座塊，能夠減少零件數(shù)量，組裝也變得容易，作為流體控制裝 置整體，能夠以比以往更高的水平同時實現(xiàn)維護性和組裝性。


圖1是表示本發(fā)明的流體控制裝置的第 一 實施方式的縱剖視圖。 圖2是表示本發(fā)明的流體控制裝置的第 一 實施方式的俯視圖。 圖3是表示本發(fā)明的流體控制裝置的第二實施方式的縱剖視圖。 附圖標記的說明
1 流體控制裝置
2 減壓閥(第一流體控制設(shè)備) 3、 5、 9、 10 基座塊
4壓力顯示器(第二流體控制設(shè)備) 6、 7、 12 開閉閥 6a、 7a、 12a 主體 6b、 7b、 12b 主體 6c、 7c、 12c 伸出塊部11 流量調(diào)整器(第三流體控制設(shè)備)
17 來自上方的螺釘部件
18 前后方向上的螺4丁部件 20 密封部(密封機構(gòu))
33、 34 基座塊
具體實施例方式
以下參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。
圖1及圖2示出了本發(fā)明的流體控制裝置的第 一 實施方式的 一 部分。
該流體控制裝置l用于半導(dǎo)體制造裝置等，具有下端具有連接 塊部2a的減壓閥(第一流體控制設(shè)備)2;支承減壓閥2的第一基座 塊3;與減壓閥2的出口側(cè)(圖的右側(cè))相鄰地配置且下端具有連接 塊部4a的壓力顯示器(第二流體控制設(shè)備)4;支承壓力顯示器4的 第二基座塊5;第一開閉閥6，相鄰地配置在壓力顯示器5的出口側(cè)且 在下方一體形成有位于與基座塊3、 5相同水平面上的主體6a;第二 開閉閥7，相鄰地配置在第一開閉閥6的出口側(cè)且一體形成有位于與 第一開閉閥6的主體6a相同水平面上的主體7a;相鄰地配置在第二開 閉閥7的主體7a的出口側(cè)的第三基座塊9;以*見定間隔與第三基座塊9 的出口側(cè)相對地配置的第四基座塊10;流量調(diào)整器(第三流體控制 設(shè)備)11，在入口側(cè)(圖的左側(cè))及出口側(cè)具有連接塊部lla、 lib, 其入口側(cè)連接塊部1 la被支承在第三基座塊9上、出口側(cè)連接塊部lib 被支承在第四基座塊10上，由此跨越第三及第四基座塊9、 IO地被支 承；第三開閉閥12，相鄰地配置在第四基座塊10的出口側(cè)且一體形 成有位于與第四基座塊10相同水平面上的主體12a。
在上述說明中，減壓閥(第一流體控制設(shè)備)2、壓力顯示器(第 二流體控制設(shè)備)4及流量調(diào)整器(第三流體控制設(shè)備)ll是作為拆 卸頻率相對較高的流體控制設(shè)備被使用的，成為帶基座塊3、 5、 9、 IO的流體控制設(shè)備。另外，各開閉閥6、 7、 12是作為拆卸頻率相對較低的流體控制設(shè)備被使用的，成為沒有基座塊的流體控制設(shè)備。
氣體導(dǎo)入用接頭14。在第二開閉閥7的主體7a上連接有用于將清洗氣 體向第二開閉閥7供給的清洗氣體導(dǎo)入用接頭15。在第三開閉閥12的 主體12a上連接有將處理氣體及清洗氣體從第三開閉閥12排出的處 理氣體及清洗氣體排出用接頭16。
在各零件2、 3、 4、 5、 6、 7、 9、 10、 11、 12的組裝時，不僅使 用來自上方的螺4丁部件17，還使用前后方向(連接入口和出口的方 向，圖的左右方向)上的螺釘部件18,另外，作為通路塊的各基座 塊3、 5、 9、 10、各開閉閥6、 7、 12的主體6a、 7a、 12a及各流體控制 設(shè)備2、 4、 11的連接塊部2a、 4a、 lla、 llb經(jīng)由密封部(密封機構(gòu)) 20對接。形成在各基座塊3、 5、 9、 10及各開閉閥6、 7、 12的主體6a、 7a、 12a內(nèi)的流體通路基本形成為一端在上方開口 、另一端在前后的 某一方開口的L字狀，在各基座塊3、 5、 9、 10及各開閉閥6、 7、 12 的主體6a、 7a、 12a之間的對接部的全部五個位置上都設(shè)有密封部20。
減壓閥2、壓力顯示器4 (第一及第二流體控制設(shè)備)分別和與 其對應(yīng)的基座塊3、 5之間，在前后隔開失見定間隔的兩個位置上，其 流體通路23、 24彼此連接，與此對應(yīng)地，減壓閥2、壓力顯示器4分 別和基座塊3、 5之間，分別在前后隔開規(guī)定間隔設(shè)有兩個密封部20。
在上述流體控制裝置l中，減壓閥2、壓力顯示器4及流量調(diào)整器 11等流體控制設(shè)備通過來自上方的螺釘部件17結(jié)合在位于下方的基 座塊3、 5、 9、 IO上，通過拆卸該螺釘部件17，能夠在上方單獨地拆 卸流體控制設(shè)備2、 4、 11。由于一體設(shè)置的主體6a、 7a、 12a通過前 后方向上的螺釘部件18結(jié)合在基座塊3、 5、 9、 IO上，所以，在安裝 有流體控制設(shè)備2、 4、 ll的狀態(tài)下，各開閉閥6、 7、 12成為不能將 該流體控制設(shè)備2、 4、 ll拆卸的結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是，在必須單獨更換 開閉閥6、 7、 12的情況下，需要對流體控制裝置l整體進行分解，很 費功夫，但是開閉閥6、 7、 12與減壓閥2、壓力顯示器4及流量調(diào)整 器ll等流體控制設(shè)備相比，進行維護的頻率較低即可，只要在這些流體控制設(shè)備2、 4、 ll的維護檢修時，同時進行維護檢修的話，則
開閉閥6、 7、 12就會成為除此以外幾乎不需要維護的設(shè)備。
這樣，通過該流體控制裝置l,對于更換頻率高的流體控制設(shè)備
2、 4、 ll來說，由于能夠單獨從上方拆卸，所以其維護性較高，對 于開閉閥6、 7、 12來說，實質(zhì)上沒有使其維護性降低，因不使用額 外部件的基座塊3、 5、 9、 10,能夠降低零件數(shù)量，組裝也變得容易， 作為流體控制裝置1整體，能夠以比以往高的水平同時實現(xiàn)維護性和 組裝性。
圖3示出了本發(fā)明的流體控制裝置的第二實施方式的 一 部分。 該流體控制裝置l具有下端具有連接塊部2a的減壓閥(第一流 體控制設(shè)備)2;對減壓閥2的半部(圖的左半部)進行支承的第一 基座塊33;與減壓閥2的出口側(cè)(圖的右側(cè))相鄰地配置且下端具有 連接塊部4a的壓力顯示器(第二流體控制設(shè)備)4;在一個半部(圖 的左半部)對減壓閥2進行支承、在另一個半部(圖的右半部)對壓 力顯示器4進行支承的第二基座塊34;第一開閉閥6，與壓力顯示器5 的出口側(cè)相鄰地配置且在下方一體形成有位于與基座塊33、 34相同 水平面的主體6b，通過主體6b的左方伸出塊部6c支承壓力顯示器4的 右半部；第二開閉閥7，與第一開閉閥6的出口側(cè)相鄰接地配置，一 體形成有位于與第一開閉閥6的主體6b相同水平面的主體7b,通過主 體7b的右方伸出塊部7c對流量調(diào)整器11的入口側(cè)連接塊部11 a進行 支承；跨越第二及第三開閉閥7、 12的主體7b、 12b地被支承的流量 調(diào)整器(第三流體控制設(shè)備)11;第三開閉閥12,與流量調(diào)整器ll 的出口側(cè)相鄰地配置，在下方一體形成有位于與基座塊33、 34相同 水平面的主體12b,通過主體12b的左方伸出塊部12c對流量調(diào)整器11 進行支承。
在該實施方式中，各流體控制設(shè)備2、 4、 11及各開閉閥6、 7、 12的致動部分與第一實施方式相同，基座塊33、 34及各開閉閥6、 7、 12的主體6b、 7b、 12b發(fā)生了變更。
將該實施方式與圖l所示的第一實施方式相比較，在各開閉閥6、
107、 12的主體6b、 7b、 12b上設(shè)有伸出塊部6c、 7c、 12c,壓力顯示器4 的右半部被第 一 開閉閥6的左方伸出塊部6 c支承，流量調(diào)整器11的入 口側(cè)連接塊部11 a被第二開閉閥7的右方伸出塊部7c支承，流量調(diào)整 器11的出口側(cè)連接塊部1 lb被第三開閉閥12的左方伸出塊部12b支 承。另外，在第一實施方式的裝置中，L字狀為基本通路形狀，對此， 形成在第二基座塊34上的流體通路成為在上方具有兩個開口的U字 狀，另外，在各開閉閥6、 7、 12的主體6b、 7b、 12b上分別形成有在 上方具有兩個開口的V字狀通^各和一端向上方開口 、另一端在前后的 某一側(cè)開口的L字狀通路。
由此，通過第二實施方式的流體控制裝置l,省略了第一實施方 式中用于支承流量調(diào)整器11的第三及第四基座塊9、 10，基座塊33、 34的數(shù)量從四個減少到兩個，并且，在各基座塊33、 34及各開閉閥6、 7、 12的主體6b、 7b、 12b之間的對接部使用的密封部20的數(shù)量從五 個部位減少到 一 個部位。
根據(jù)第二實施方式的流體控制裝置l，與第一實施方式的裝置相
同地，對于更換的頻率高的流體控制設(shè)備2、 4、 ll來說，由于為能 夠單獨從上方拆卸的部件，因此，其維護性提高，對于開閉闊6、 7、 12來說，實質(zhì)上并沒有使維護性降低，因不使用作為額外部件的基 座塊33、 34，能夠減少零件數(shù)量，組裝也變得容易，作為流體控制 裝置l整體，能夠在比以往更高的水平上同時實現(xiàn)維護性和組裝性。 工業(yè)實用性
由于能夠?qū)崿F(xiàn)零件數(shù)量的削減以及組裝作業(yè)效率的提高，所以 適用于在半導(dǎo)體制造裝置等中使用的流體控制裝置，由此，能夠有 助于提高半導(dǎo)體制造裝置等的性能。
權(quán)利要求
1.一種流體控制裝置，具有多種流體控制設(shè)備；支承流體控制設(shè)備的基座塊；用于確保流體通路彼此對接的部分中的密封性的密封機構(gòu)，其特征在于多種流體控制設(shè)備的至少一個成為帶基座塊的流體控制設(shè)備，該帶基座塊的流體控制設(shè)備具有設(shè)置了在下表面開口的通路的連接塊部，且通過來自上方的螺釘部件與配置于該連接塊部下方的一個或多個基座塊結(jié)合，多種流體控制設(shè)備中的其他流體控制設(shè)備形成為主體下表面被封閉且在下方?jīng)]有配置基座塊的無基座塊的流體控制設(shè)備，配置在帶基座塊的流體控制設(shè)備的下方的基座塊和無基座塊的流體控制設(shè)備的主體以它們的下表面彼此成為同一平面的方式被前后方向上的螺釘部件結(jié)合。
2. 如權(quán)利要求l所述的流體控制裝置，其特征在于無基座塊的 流體控制設(shè)備為開閉閥，帶基座塊的流體控制設(shè)備為壓力調(diào)整器、 過濾器、壓力顯示器及流量調(diào)整器中的某一個。
3. 如權(quán)利要求l所述的流體控制裝置，其特征在于帶基座塊的 流體控制設(shè)備通過從上方的螺釘部件僅安裝在一個基座塊上，由此， 能夠以安裝有基座塊的狀態(tài)進行單個零件的處置。
4. 如權(quán)利要求l所述的流體控制裝置，其特征在于在至少一個 無基座塊的流體控制設(shè)備的主體上設(shè)有用于支承相鄰的帶基座塊的 流體控制設(shè)備的一部分的伸出塊部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種流體控制裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)零件數(shù)量的削減和組裝作業(yè)效率的提高。相對的拆卸頻率較高的壓力顯示器(4)通過來自上方的螺釘部件(17)與位于下方的基座塊(5)結(jié)合。相對的拆卸頻率較低的開閉閥(6)在下方具有一體設(shè)置的塊狀主體(6a)。開閉閥(6)的主體(6a)被前后方向上的螺釘部件(18)結(jié)合在基座塊(5)上。
文檔編號C23C16/455GK101680561SQ20088001771
公開日2010年3月24日 申請日期2008年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月31日
發(fā)明者中田知宏, 大加瀨亙, 守谷修司, 山路道雄, 筱原努 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社;株式會社富士金