專利名稱：蒸鍍源、蒸鍍裝置、有機薄膜的成膜方法
技術領域：
本發(fā)明涉及有機薄膜的技術領域，尤其涉及制造品質佳的有機薄 膜的技術。
背景技術：
有機EL元件是近年來最受注目的顯示元件之一，具有高亮度且 響應速度快的優(yōu)異特性。有機EL元件是在玻璃基板上配置以紅、綠、 藍三色的不同顏色來發(fā)色的發(fā)光區(qū)域。發(fā)光區(qū)域是陽極電極膜、空穴 注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層、電子注入層以及陰極電 極膜以此順序層疊，利用添加在發(fā)光層中的發(fā)色劑，以紅、綠、或藍 進行發(fā)色。
空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層等一般由有機材料構成，在這 種有機材料的膜的成膜中，廣泛地使用蒸鍍裝置。
圖5的符號203是現有技術的蒸鍍裝置，在真空槽211的內部配 置有蒸鍍容器212。蒸鍍容器212具有容器本體221，該容器本體221 的上部^皮形成有一個乃至多個放出口 224的蓋部222堵塞。
在蒸鍍容器212的內部配置有粉體的有機蒸鍍材料200。
在蒸鍍容器212的側面和底面配置有加熱器223,通過真空排氣 系215對真空槽211內進行真空排氣，如果加熱器223發(fā)熱，則蒸鍍 容器212升溫，蒸鍍容器212內的有機蒸鍍材料200被加熱。
如果有機蒸鍍材料200纟皮加熱至蒸發(fā)溫度以上的溫度，則在蒸鍍 容器212內充滿著有機材料蒸氣，從^:出口 224^:出至真空槽211內。
在放出口 224的上方配置有基板搬送裝置214,如果使基板205 保持在保持具210上并使基板搬送裝置214工作，則基板205通過》文
4出口 224的正上方位置，/Ai丈出口 224放出的有機材料蒸氣到達基板 205表面，形成空穴注入層或空穴輸送層等的有機薄膜。
如果一邊使有機材料蒸氣放出， 一邊使基板205逐片地通iti文出 口 224之上，那么，能夠在多片基板205上逐次形成有機薄膜。
專利文獻1:日本特開2003-96557號7>凈艮

發(fā)明內容
但是，為了如上述般對多片基板205進行成膜，必須在蒸鍍容器 212內配置大量的有機蒸鍍材料200。在實際的生產現場， 一邊將蒸 鍍材^F加熱至350。C 450。C， 一邊連續(xù)120小時以上進行成膜處理， 因而蒸鍍容器212內的有機蒸鍍材料200長時間暴露于高溫，與蒸鍍 容器中的水分反應而變質，或因加熱而進行分解，與加熱初期的狀態(tài) 相比，有機蒸鍍材料200劣化。
并且，如果在加熱有機蒸鍍材料200時發(fā)生突沸，則》丈出由有機 蒸鍍材料200的溶融物構成的液滴。由于突沸是在放出口 224的正下 方產生，因而如果該液滴的一部分通過放出口 224，到達基板205， 則液滴混入所形成的薄膜，存在著膜質變差的問題。
為了解決上述問題，本發(fā)明為蒸鍍源，其具有蒸發(fā)室，其在內 部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍容器，其具有放出上述蒸鍍材料的蒸 氣的放出口；孑L，其連接上述蒸鍍容器的內部空間和上述蒸發(fā)室的內 部空間；供給裝置，其連接至上述蒸發(fā)室，向上述蒸發(fā)室的內部供給 蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至上述蒸發(fā)室的上述蒸鍍材 料，并使其蒸發(fā)。
本發(fā)明為蒸鍍源，其構成為，在上述蒸發(fā)室設有透過激光的窗部， 上述加熱裝置通過上述窗部，向上述蒸發(fā)室內部照射上述激光。
本發(fā)明為蒸鍍源，上述供給裝置具有供給室，其配置有上述蒸 鍍材料；導管，其一端連接至上述供給室，另一端連接至上述蒸發(fā)室； 旋轉軸，其插入并貫通于上述導管；以及旋轉裝置，其以中心軸線為中心而使上述旋轉軸旋轉，其中，在上述旋轉軸的側面形成有螺旋狀 的溝。
本發(fā)明為蒸鍍源，其具有加熱上述蒸鍍容器的加熱裝置。
本發(fā)明為蒸鍍裝置，其具有真空槽和蒸鍍源，上述蒸鍍源具有 蒸發(fā)室，其在內部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍容器，其具有放出上 述蒸鍍材料的蒸氣的放出口；孔，其連接上述蒸鍍容器的內部空間和 上述蒸發(fā)室的內部空間；供給裝置，其連接至上述蒸發(fā)室，向上述蒸 發(fā)室的內部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至上述蒸發(fā) 室的上述蒸鍍材料，并使其蒸發(fā)，其中，在上述蒸鍍容器設有將內部 空間連接至上述真空槽的內部空間的放出口 。
本發(fā)明為蒸鍍裝置，在上述真空槽內配置有搬送機構，該搬送機 構保持成膜對象物，并使其通過與上述蒸鍍容器的上述;^丈出口面對的 位置。
本發(fā)明為有機薄膜的成膜方法，其在真空槽內部使有機材料的蒸 氣放出，在配置于上述真空槽內部的基板表面上成膜有機材料的薄 膜，其中，在具有蒸鍍容器和蒸發(fā)室以及連接上述蒸鍍容器的內部空 間和上述蒸發(fā)室的內部空間的孔的蒸鍍源的上述蒸發(fā)室內部使有機 材料的蒸氣產生，使上述蒸氣從設在上述蒸鍍容器的放出口放出至上 述真空槽內部。
本發(fā)明為有機薄膜的成膜方法，向被供給至上述蒸發(fā)室內部的上 述有機材料照射激光，使上述蒸氣產生。
本發(fā)明如上述般構成，蒸發(fā)材料不在設有放出口的蒸鍍容器內蒸 發(fā)，而是在鄰接于該蒸鍍容器的蒸發(fā)室內部蒸發(fā)。所以，在使蒸鍍材 料蒸發(fā)時，即使發(fā)生突沸，液滴也不到達基板，在基板表面成長的薄 膜的膜質不劣化。在蒸發(fā)室和蒸鍍容器由導管等細長的空間連接的情 況下，蒸發(fā)室和蒸鍍容器之間的距離變長，因而液滴更難以漏出。
照射激光并使蒸鍍材料蒸發(fā)的方法，與電阻加熱等的其它加熱方 法相比，不易發(fā)生蒸鍍材料的化學變性。所以，使用激光的蒸鍍法尤其適用于使像有機EL材料(電荷移動
材料、發(fā)光材料、電子移動材料等)那樣容易因加熱而發(fā)生化學變性的
材料蒸發(fā)，能夠制造有機EL材料的變性少且發(fā)光量高的有機EL裝置。 由于激光也能夠使聚合物無化學變性地蒸發(fā)，因而能夠用蒸鍍法
來成膜以往用噴墨法、網版印刷法、旋轉涂布法來成膜的聚合物薄膜。 如果將蒸鍍材料的供給裝置連接至蒸發(fā)室，并將規(guī)定片數的成膜
所必需的量供給至必需的度，那么，即使在對多個基板進行連續(xù)成膜
的情況下，大量的蒸鍍材料也不會被長時間加熱，因而蒸鍍材料不變性。
由于蒸鍍材料不會長時間暴露于高溫，因而蒸鍍材料不分解或變 質。能夠形成蒸鍍材料和化學組成不變的薄膜。能夠制造發(fā)光量高的 有機EL裝置。


圖l是用于說明本發(fā)明的第一例的蒸鍍裝置的立體圖。 圖2是用于說明該蒸鍍裝置的內部的模式剖面圖。 圖3是用于說明本發(fā)明的笫二例的蒸鍍裝置的才莫式剖面圖。 圖4是用于說明本發(fā)明的第三例的蒸鍍裝置的模式剖面圖。 圖5是現有技術的蒸鍍裝置。
符號說明
1、 50、 70:蒸鍍裝置
2:加熱裝置(激光照射裝置)
6:成膜對象物(基板)
11:真空槽
15:蒸發(fā)室
21:蒸鍍容器
25:隔開部件
730:供給裝置
具體實施例方式
圖l的立體圖、圖2的概略剖面圖的符號l是本發(fā)明的實施例， 表示第一例的蒸鍍裝置。
該蒸鍍裝置1具有真空槽11及蒸鍍源3(在圖1中省略了真空槽
11)。
在真空槽11上連接有真空排氣系9，如果使真空排氣系9工作， 則對真空槽11的內部進行真空排氣。
蒸鍍源3具有蒸鍍容器21 、蒸發(fā)室15及供給裝置30。蒸鍍容器 21配置在真空槽11內部。在蒸鍍容器21上排列設置有多個放出口 24，如后所述，其構成為，如果從供給裝置30供給的蒸鍍材料16在 蒸發(fā)室15內蒸發(fā)，則該蒸氣被導入蒸鍍容器21內部，蒸鍍材料的蒸 氣從各放出口 24放出至真空槽11的內部。
在真空槽11的內部配置有基板搬送機構14。在基板搬送機構14 上安裝有保持具10。如果使成膜對象物的基板保持在保持具10上， 并使其在真空槽ll內移動，則基板構成為沿與放出口 24的排列設置 方向正交的方向通過與;^文出口 24面對的位置。
基板的寬度比配置有放出口 24的區(qū)域的長度短，從放出口 24放 出至真空槽11的內部的蒸鍍材料蒸氣均勻地到達基板表面，形成蒸 鍍材料的薄膜。也可以在基板和放出口 24之間配置掩4莫(mask)，僅在 基板表面的規(guī)定區(qū)域形成薄膜。
接著，詳細地說明蒸鍍源3 。
供給裝置30具有供給室31、導管(pipe)32及旋轉軸35。供給室 31配置在蒸發(fā)室15的上方。
導管32氣密地插入并貫通于蒸發(fā)室15的頂部，其下端在蒸發(fā)室 15的內部露出，上端連接至供給室31的內部。
供給室31的直徑大于導管32，在供給室31的底面露出有導管32的上端開口。
旋轉軸35以上端比供給室31和導管32的連接部分更突出至上 方的方式插入至導管32。
在旋轉軸35的側面中的比導管32的下端高的部分，至少到比供 給室31和導管32的連接部分更上方的位置為止形成有螺旋狀的溝， 如果在供給室31的底面上積存有蒸鍍材料16,則蒸鍍材料接觸于溝。
該蒸鍍裝置1所使用的蒸鍍材料16為粉體。旋轉軸35的溝和溝 之間的凸部與導管32的內壁面4妄觸，或者凸部和內壁面之間的間隙 為蒸鍍材料16的粒子徑以下，在旋轉軸35靜止的狀態(tài)下，蒸鍍材料 16不落下。
在真空槽11的外部配置有旋轉裝置37。旋轉軸35構成為，與旋 轉裝置37連接，如果使旋轉裝置37的動力傳達至旋轉軸35,則旋轉 軸35既不上升也不下降， 一邊維持插入并貫通于導管32內的狀態(tài)， 一邊以中心軸線C為中心進行旋轉。
這時的旋轉方向是假定將旋轉軸35檸入固體時，旋轉軸35移動 至上方的方向，周圍的蒸鍍材料16被施加在旋轉軸35上的力的反作 用推入至下方。
溝的下端連接至蒸發(fā)室15的內部空間，如果蒸鍍材料16祐L推入 至下方，則落下至蒸發(fā)室15內部。
預先已知使旋轉軸35旋轉1次時所落下的蒸鍍材料16的量(例如 1次旋轉，0.01g)，通過以對應于必需量的旋轉數使旋轉軸35旋轉， 能夠將必需量的蒸鍍材料16供給至蒸發(fā)室15。
在蒸發(fā)室15上設有透明的窗部19。在此，蒸發(fā)室15位于真空槽 11內部，在真空槽11的側壁的與窗部19面對的位置也設有窗部4。
在真空槽11的外部配置有作為加熱裝置的激光照射裝置2。激光 照射裝置2所照射的激光通過窗部4、 19,入射至蒸發(fā)室15內部的蒸 鍍材料16,在蒸發(fā)室15內部產生蒸鍍材料16的蒸氣。
蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21由隔開部件25隔開內部空間，通過設在隔開部件25上的小孔(孔)38來連接蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21的內 部，在蒸發(fā)室15所產生的蒸氣通過小孔38而移動至蒸鍍容器21，通 iti丈出口 24而放出至真空槽11的內部。
在此，蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21的一面相互相向配置，在蒸發(fā)室 15和蒸鍍容器21之間設有導管26，通過導管26來連接蒸發(fā)室15和 蒸鍍容器21的內部空間。
所以，隔開部件25由蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21的相互面對的壁 面與導管26的壁面構成，小孔38由導管26的內部空間中的大小最 小的部分構成。在此，導管26的內徑均勻(例如內徑lmm的不銹鋼管)， 導管26內部的任意一部分成為小孔38。
在隔開部件25中，至少在小孔的周圍(導管26)設有加熱裝置28。 在此，加熱裝置28也安裝在蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21上，如果向該 加熱裝置28通電，將蒸發(fā)室15、蒸鍍容器21及導管26加熱至蒸氣 不析出的溫度，那么，蒸氣不析出地從蒸發(fā)室15通過小孔38而向蒸 鍍容器21移動。
另外，隔開部件25及小孔38并無特別的限定，如圖3所示的第 二例的蒸鍍裝置50那樣，也可以使用一塊壁51來隔開蒸鍍容器21 和蒸發(fā)室15，以該壁51作為隔開部件，以形成在該壁51上的貫通孔 55作為小孔。
接著，使用本發(fā)明的蒸鍍裝置1來說明成膜有機薄膜的工序。 在此，真空排氣系9分別連接至真空槽11、蒸發(fā)室15、蒸鍍容 器21及供給室31，分別對真空槽ll、蒸發(fā)室15、蒸鍍容器21及供 給室31進行真空排氣，在形成規(guī)定壓力的真空氣氛之后，就這樣繼 續(xù)真空槽11的真空排氣，停止蒸發(fā)室15、蒸鍍容器21及供給室31 的真空排氣。
在供給室31內，作為蒸鍍材料16，預先收容有例如有機EL元 件用的有機材料(電荷移動材料、電荷產生材料、發(fā)光材料等)。
預先已知一片基板的成膜所必需的蒸鍍材料16的量，繼續(xù)真空
10槽11的真空排氣，將一片以上的基板的成膜所必需的量的蒸鍍材料
16從供給裝置30供給至蒸發(fā)室15, —邊用加熱裝置將蒸發(fā)室15、導 管26及蒸鍍容器21保溫在蒸鍍材料16的蒸氣不析出的溫度(例如 150。C 450。C)， 一邊將激光照射于蒸鍍材料16,使其蒸發(fā)。
蒸發(fā)室15的內部空間小于蒸鍍容器21的內部空間。如果蒸鍍材 料16蒸發(fā)，則在蒸發(fā)室15內部充滿著蒸鍍材料16的蒸氣，蒸發(fā)室 15的壓力高于蒸鍍容器21的壓力，通過壓力差使蒸氣移動至蒸鍍容 器21。
由于繼續(xù)真空槽11的真空排氣，并形成規(guī)定壓力的真空氣氛(例 如l(T Torr)，因而蒸氣從蒸鍍容器21被引出至真空槽11。所以，蒸 鍍容器21的內部的壓力通常低于蒸發(fā)室15。
如上所述，蒸發(fā)室15的內部空間和蒸鍍容器21的內部空間由比 隔開部件25小的小孔38連接，因而蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21的壓力 差變得更大。
在蒸鍍容器21內配置有真空計5。真空計5和激光照射裝置2分 別連接至控制裝置7。在控制裝置7預先設定有目標壓力，基于從真 空計5傳送的信號來求出蒸鍍容器21內的壓力，改變激光照射裝置2 的照射時間、脈沖數等，使蒸鍍材料16的蒸發(fā)量增減，從而使該壓 力成為目標壓力。
小孔38的大小設定成，當蒸鍍容器21的內部壓力成為目標壓力 時，蒸發(fā)室15的內部壓力成為^L定范圍。例如當目標壓力為10^Torr 時，蒸發(fā)室15的內部壓力為lCT3Torr l(r2Torr。
預先在將成膜面朝向下側的狀態(tài)下使基板6保持在保持具10上， 蒸鍍容器21的內部壓力在目標壓力穩(wěn)定，來自放出口 24的蒸氣放出 量穩(wěn)定，然后，如果以通過與放出口 24面對的位置(成膜位置)的方式 使基板6移動，則在基板6的表面上形成有機薄膜。
在規(guī)定片數的基板6完成通過成膜位置之后，在其次的基板6到 達成膜位置之前，使旋轉軸35旋轉已決定的轉數，從而從供給裝置30供給規(guī)定片數的成膜所必需的量的蒸鍍材料16。此時的供給量可 為一片基板的量，或多片的量。
在完成供給已決定的供給量的蒸鍍材料16之后，使新的基板6 向成膜位置移動，形成有機薄膜。如果如此地重復蒸鍍材料16的供 給和規(guī)定片數的成膜，那么能夠連續(xù)地處理多片基板6。另外，關于 蒸鍍材料16的供給，可以每次供給相同的量，也可以改變供給量。
在蒸發(fā)室15中，由于根據必需而供給必需的量的蒸鍍材料16， 因而不像以往那樣大量的蒸鍍材料16被長時間加熱，蒸鍍材料16不 劣化。
以上，說明了在蒸鍍材料16的加熱中使用激光照射裝置2的情 況，但本發(fā)明并不限于此，加熱裝置可以使用通過通電來發(fā)熱的電阻 發(fā)熱體、通過電磁感應來加熱蒸鍍容器21的裝置、通過紅外線》文射 來加熱蒸鍍容器21的裝置、通過升溫的熱i某體的熱傳導來加熱蒸鍍 容器21的裝置以及通過珀耳帖(Peltier)效應來加熱的裝置等的加熱蒸 鍍容器21的裝置等。
激光不僅能夠蒸發(fā)無機材料，還能夠蒸發(fā)單體、低聚物、聚合物 等的有機材料，而且蒸發(fā)時，蒸鍍材料的化學組成的變化少，因而優(yōu) 選。
另外，由于蒸鍍材料16的變性物或雜質的吸收波長與變性前的 目的化合物不同，因而如果選擇容易被目的化合物吸收的波長的激 光，那么，即使蒸鍍材料16的一部分變性，或雜質混入，也能夠選 擇性地僅使目的化合物蒸發(fā)，形成變性物或雜質的混入量少的薄膜。
如果使用激光的波長可變的可變型的激光照射裝置，以作為激光 照射裝置2，那么，能夠根據蒸鍍材料16的吸收波長來選擇所放出的 激光的波長，因而能夠將本發(fā)明的蒸鍍裝置1用于多種蒸鍍材料16 的成膜。
激光的波長并無特別的限定，但在蒸鍍材料16為聚合物的情況 下，例如為680nm 10.6pm。就激光照射裝置2的一例而言，為口徑
1210|im 20|Lim的。02激光器。
上述實施例中，通過本發(fā)明的蒸鍍裝置來形成有機薄膜，但本發(fā) 明的蒸鍍裝置適用于使因長時間的加熱而劣化的蒸鍍材料在真空氛 圍內蒸發(fā)，在多個成膜對象物上逐次形成薄膜的制造方法，在蒸發(fā)室 15內使蒸氣產生的蒸鍍材料并不限于有機化合物?？傊?，本發(fā)明的蒸 鍍裝置除了形成有機化合物的薄膜的情況以外，也能夠用于形成無機 薄膜或復合材料的薄膜。
也能夠將蒸發(fā)室15和供給裝置30配置在真空槽11的外部。此 情況下，不必在真空槽11設置窗部4。
另外，連接至一個蒸鍍容器21的蒸發(fā)室15的數量并無特別的限 定，也可以經由小孔38將多個蒸發(fā)室15連接至一個蒸鍍容器21，從 多個蒸發(fā)室15向蒸鍍容器21供給蒸氣。此情況下，可以從各蒸發(fā)室 15供給相同的蒸鍍材料16的蒸氣，也可以供給不同的蒸鍍材料16的 蒸氣。如果同時供給不同的蒸鍍材料16的蒸氣，那么，形成由2種 以上的蒸鍍材料16構成的薄膜。
以上說明了在蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21也連接至真空排氣系9的 情況，但本發(fā)明并不限于此?？梢詫⒄婵张艢庀?僅連接至真空槽11， 通過對真空槽內部進行真空排氣，能夠經由放出口 24對蒸鍍容器21 的內部進行真空排氣，再經由小孔38對蒸發(fā)室15的內部進行真空排 氣。而且，能夠將蒸發(fā)室15和蒸鍍容器21的任一方連接至真空排氣 系。
以上說明了使放出口 24朝向豎直上方，使成膜面朝向下側，并 搬送基板的裝置，但本發(fā)明并不限于此。
例如，如圖4的符號70所示的第三例的蒸鍍裝置那樣，可以使 長度方向朝向豎直下方而配置細長的蒸鍍容器21。在該蒸鍍裝置70 中，對于與圖1、 2的蒸鍍裝置1相同的部件賦予同樣的符號，并省 略說明。
基板搬送機構74能夠在使保持于保持具77的基板6朝向豎直的狀態(tài)下進行搬送，基板6通過與放出口 24面對的位置，由乂^^丈出口 24放出的蒸氣在基板6表面上形成薄膜。
權利要求
1.一種蒸鍍源，具有蒸發(fā)室，其在內部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)；蒸鍍容器，其具有放出所述蒸鍍材料的蒸氣的放出口；孔，其連接所述蒸鍍容器的內部空間和所述蒸發(fā)室的內部空間；供給裝置，其連接至所述蒸發(fā)室，向所述蒸發(fā)室的內部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至所述蒸發(fā)室的所述蒸鍍材料，并使其蒸發(fā)。
2. 根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于， 在所述蒸發(fā)室設有透過激光的窗部，所述加熱裝置構成為通過所述窗部，向所述蒸發(fā)室內部照射所述 激光。
3. 根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述供給裝置 具有供給室，其配置有所述蒸鍍材料；導管，其一端連接至所述供給室，另一端連接至所述蒸發(fā)室； 旋轉軸，其插入并貫通于所述導管；以及 旋轉裝置，其以中心軸線為中心而使所述旋轉軸旋轉， 其中，在所述旋轉軸的側面形成有螺旋狀的溝。
4. 根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，具有加熱所述 蒸鍍容器的加熱裝置。
5. —種蒸鍍裝置，具有真空槽和蒸鍍源， 所述蒸鍍源，具有蒸發(fā)室，其在內部使蒸鍍材料的蒸氣蒸發(fā)； 蒸鍍容器，其具有放出所述蒸鍍材料的蒸氣的放出口；孑L，其連接所述蒸鍍容器的內部空間和所述蒸發(fā)室的內部空間；供給裝置，其連接至所述蒸發(fā)室，向所述蒸發(fā)室的內部供給蒸鍍材料；以及加熱裝置，其加熱被供給至所述蒸發(fā)室的所述蒸鍍材料，并使其 蒸發(fā)，其中，在所述蒸鍍容器設有將內部空間連接至所述真空槽的內部 空間的》丈出口。
6. 根據權利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，在所述真空 槽內配置有搬送機構，該搬送機構保持成膜對象物，并使其通過與所 述蒸鍍容器的所iii文出口面對的位置。
7. —種有機薄膜的成膜方法，其在真空槽內部使有機材料的蒸 氣放出，在配置于所述真空槽內部的基板表面上成膜有機材料的薄 膜，其中，在具有蒸鍍容器和蒸發(fā)室以及連接所述蒸鍍容器的內部空間和 所述蒸發(fā)室的內部空間的孔的蒸鍍源的所述蒸發(fā)室內部，使有機材料 的蒸氣產生，使所述蒸氣從設在所述蒸鍍容器的放出口放出至所述真空槽內部。
8. 根據權利要求7所述的有機薄膜的成膜方法，其特征在于， 向被供給至所述蒸發(fā)室內部的所述有機材料照射激光，使所述蒸氣產 生。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠成膜膜質佳的有機薄膜的蒸鍍裝置。本發(fā)明的蒸鍍裝置(1)具有蒸發(fā)室(15)和蒸鍍容器(21)，蒸鍍容器(21)和蒸發(fā)室(15)由小孔(38)連接。由于每次向蒸發(fā)室(15)供給必需的量的蒸鍍材料(16)，因而大量的蒸鍍材料(16)不會被長時間加熱。蒸鍍材料(16)在蒸發(fā)室(15)蒸發(fā)，因而即使發(fā)生突沸，液滴也不會到達基板(6)。如果在激光的照射下使蒸鍍材料(16)蒸發(fā)，那么，蒸鍍材料(16)的化學變性少。
文檔編號C23C14/24GK101622372SQ20088000623
公開日2010年1月6日 申請日期2008年2月20日 優(yōu)先權日2007年2月28日
發(fā)明者根岸敏夫 申請人:株式會社愛發(fā)科