專利名稱：用于平板顯示器薄膜沉積的掩?？蚣芙M件和使用該組件的沉積設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于平板顯示器的薄膜沉積的掩?？蚣芙M件及使用該 掩?？蚣芙M件的沉積設(shè)備，更具體地，涉及一種用于平板顯示器的薄膜沉積 的掩?？蚣芙M件，其采用了雙輕質(zhì)框架結(jié)構(gòu)，以易于搬運(yùn)和運(yùn)輸此掩?？蚣?組件，并涉及一種使用該組件的沉積設(shè)備。
背景技術(shù)：
最近，對(duì)例如液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)等等的 輕質(zhì)且緊湊的平板顯示器(FPD)的適應(yīng)優(yōu)點(diǎn)以及大尺寸顯示器不斷增加的 分辨率的研究已經(jīng)廣泛進(jìn)行。在平板顯示器中，有機(jī)發(fā)光顯示器是能夠解決 傳統(tǒng)液晶顯示器的問(wèn)題的下一代平板顯示器之一，這是由于有機(jī)發(fā)光顯示器 具有快速響應(yīng)時(shí)間和色彩表現(xiàn)能力，而不需要單獨(dú)的光源和濾色器。從陽(yáng)極和陰極移出以產(chǎn)生激發(fā)態(tài)的激發(fā)子，激發(fā)子重新組合以發(fā)光。在此，構(gòu)成有機(jī)發(fā)光顯示器的薄膜的精細(xì)圖樣的形成方法包括使用圖樣掩模的光刻方法或沉積方法。由于有機(jī)發(fā)射層對(duì)濕度敏感，因而使用傳統(tǒng)的光刻方法難以形成有機(jī)發(fā)射層。因此，在光刻膠離層處理和蝕刻處理過(guò)程中，暴露于濕氣的光刻方法不適于沉積有機(jī)發(fā)射層的處理。為了解決該問(wèn)題，使用具有特定圖樣的圖樣掩模在真空中沉積有機(jī)發(fā)射材料的方法廣泛用于形成有機(jī)發(fā)射層。圖1是用于薄膜沉積的傳統(tǒng)掩?？蚣芙M件的俯視圖。圖2是圖1中的用于薄膜沉積的掩模框架組件的沿線A-A'所取的橫 截面圖。參見圖1和2，用于平板顯示器的薄膜沉積的傳統(tǒng)的掩?？蚣芙M件40 包括圖樣掩模20，圖樣掩模20設(shè)置有具有多個(gè)開口的圖樣部分21,和用于 支撐圖樣掩模20的框架10。框架10與圖樣掩模20的下邊緣部連接以支撐 圖樣掩模20。通常，當(dāng)用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件40在制造有機(jī)發(fā)光顯示器的處 理過(guò)程中用于沉積有機(jī)發(fā)射層的處理時(shí)，圖樣掩模20具有過(guò)小的厚度，并 且，圖樣掩模20的圖樣部分21的縫隙具有過(guò)小的寬度。因此，圖樣掩模 20可能由于下垂而變形或彎曲，從而難以精確地沉積薄膜。特別地，該問(wèn)題在用于批量生產(chǎn)的圖樣掩模20的大范圍中更為嚴(yán)重。 為了解決該問(wèn)題，框架10可以用于支撐圖樣掩模20并保持圖樣掩模20的 形狀。此時(shí)，框架10可以由例如SUS (不銹鋼)鋼或因瓦(Invar)合金的強(qiáng) 材料形成，以提供具有均勻質(zhì)量的圖樣掩模20。然而，當(dāng)使用SUS鋼或因瓦合金時(shí)，用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件的 重量增加，因此難以搬運(yùn)掩?？蚣芙M件，并增大了用于運(yùn)輸在沉積設(shè)備的腔 中設(shè)置的用于薄膜沉積的掩模框架組件40的設(shè)備的重量載荷，從而降低了 生產(chǎn)率。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種用于薄膜沉積的掩模框架組件，其采用雙框架結(jié)構(gòu)，以 減少其重量，并提供一種使用該掩?？蚣芙M件的沉積設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面， 一種用于平板顯示器的薄膜沉積掩?？蚣芙M件 包括圖樣掩模，其設(shè)置有包括多個(gè)開口的圖樣部分；第一框架，其與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模；和第二框架，其沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。根據(jù)本發(fā)明的另一方面， 一種沉積設(shè)備包括沉積腔；用于薄膜沉積的 掩模框架組件，其設(shè)置在所述沉積腔中，并包括設(shè)置有具有多個(gè)開口的圖樣 部分的圖樣掩模，與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模的 第一框架，和沿水平或豎直方向與所述第一框架連接的第二框架；和設(shè)置在 所述圖樣掩模下的沉積源。所述用于平板顯示器的薄膜沉積的掩?？蚣芙M件可包括具有多個(gè)圖樣 部分的圖樣掩模，和用于支撐所述圖樣掩模的第一框架。所述第一框架可與 所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模。另外，所述第二框架 可沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。此時(shí)，所述第一框架可由例如因瓦或SUS材料的強(qiáng)材料形成。沿水平 或豎直方向?qū)?yīng)于所述第一框架的所述第二框架可由比質(zhì)量(specific mass) 小于因瓦或SUS材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成，從而實(shí)現(xiàn)用于薄膜沉 積的輕質(zhì)掩?？蚣芙M件。


本發(fā)明的以上及其他特征將通過(guò)以下結(jié)合附圖的其特定示例性實(shí)施例 進(jìn)行描述，其中圖1是用于薄膜沉積的傳統(tǒng)掩?？蚣艿母┮晥D；圖2是圖1中的用于薄膜沉積的掩模框架組件的沿線A-A'所取的橫 截面圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施例的用于薄膜沉積的掩模框架組件 的橫截面圖；圖4A至4C是顯示圖3中區(qū)域B的連接方式的橫截面圖； 圖5是根據(jù)本發(fā)明第二示例性實(shí)施例的用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件 的橫截面圖；圖6A至6C是顯示圖5中區(qū)域B'的連接方式的橫截面圖； 圖7是根據(jù)本發(fā)明第 一 示例性實(shí)施例的沉積設(shè)備的示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明現(xiàn)在將參照各附圖在下文中進(jìn)行更充分的描述，本發(fā)明的示例性 實(shí)施例顯示在附圖中。 第一實(shí)施例圖3是根據(jù)本發(fā)明第一示例性實(shí)施例的用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件 的橫截面圖。參見圖3,用于平板顯示器的薄膜沉積的掩?？蚣芙M件400包括圖樣 掩模200，其設(shè)置有具有多個(gè)開口的圖樣部分210;用于支撐圖樣掩模200 的第一框架100;和沿水平方向設(shè)置在第一框架IOO下并與第一框架100的 下部連接的第二框架110。更具體地，第一框架100設(shè)置在圖樣掩模200的下邊緣部分以支撐圖樣 掩模200。圖樣掩模200和第一框架IOO可由例如SUS或因瓦材料的強(qiáng)材料 形成，以防止由于圖樣掩模200下垂所致的例如彎曲的變形。優(yōu)選地，圖樣掩模200和第一框架100由相同的材料形成。此時(shí)，圖樣 掩模200可通過(guò)焊接部250固定至第一框架100。然后，第二框架110沿水平方向設(shè)置在第一框架100下并與第一框架 100的下邊緣部分連接。第二框架110可由比質(zhì)量小于形成第一框架100的 sus或因瓦材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成，從而降低用于薄膜沉積的掩 ?？蚣芙M件400的重量。第二框架110可由從鋁、鎂、鈦以及它們的合金中選出的一種形成。此時(shí)，第一框架100與第二框架200之間的連接可通過(guò)焊接實(shí)現(xiàn)，類似 于圖樣掩模200與第一框架IOO之間的連接。然而，由不同材料形成的第一 框架IOO與第因此，第一框架100可利用分立的連接元件通過(guò)機(jī)械連接方法與第二框架110連接。圖4A至4C是顯示圖3中的區(qū)域B的連接方式的橫截面圖。參見圖4A,連接元件260插入第一框架100的第一孔270和第二框架 110的第二孔280，以將第一框架IOO機(jī)械連接至第二框架110。另外，參見圖4B,連接元件260可形成在第一框架100中以插入第二 框架110的第二孔280，從而將第一框架IOO才幾械連接至第二框架110。參見圖4C,連接元件260可能形成在第二框架110中以插入第一框架 100的第一孔270，從而將第一框架IOO機(jī)械連接至第二框架110。更具體地，連接元件260可以是螺絲件。此時(shí)，第一孔270或第二孔 280可具有凹螺紋部分，從而可將螺絲件緊固其中。第二實(shí)施例圖5是根據(jù)本發(fā)明第二示例性實(shí)施例的用于薄膜沉積的掩模框架組件 的橫截面圖。參見圖5，用于平板顯示器的薄膜沉積的掩模框架組件400包括圖樣 掩模200,其設(shè)置有具有多個(gè)開口的圖樣部分210;用于支撐圖樣掩模200 的第一框架100;和沿豎直方向設(shè)置在第一框架100的外周界下并與第一框 架100的下部連接的第二框架110。更具體地，第一框架100設(shè)置在圖樣掩模200的下邊緣部分以支撐圖樣 掩模200。圖樣掩模200和第 一框架100可由例如SUS或因瓦材料的強(qiáng)材料 形成，以防止由于圖樣掩模200下垂所致的例如彎曲的變形。優(yōu)選地，圖樣掩模200和第一框架100由相同的材料形成。此時(shí)，圖樣 掩模200可通過(guò)焊接部250固定至第一框架100。然后，第二框架110沿豎直方向設(shè)置在第一框架100的外周界下并與第 一框架100連接。第二框架110可由比質(zhì)量小于形成第一框架100的SUS 或因瓦材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成，從而降低用于薄膜沉積的掩?？?架組件400的重量。第二框架110可由從鋁、鎂、鈦以及它們的合金中選出的一種形成。此時(shí)，第一框架100與第二框架200之間的連接可通過(guò)焊接實(shí)現(xiàn)，類似 于圖樣掩模200與第一框架IOO之間的連接。然而，由不同材料形成的第一 框架IOO與第二框架IIO之間的焊接性能，通常低于由相同材料形成的圖樣 掩模200與第一框架IOO之間的焊接性能。因此，第一框架IOO可利用分立的連接元件通過(guò)機(jī)械連接方法與第二框 架110連4妾。圖6A至6C是顯示圖5中的區(qū)域B'的連接方式的橫截面圖。參見圖6A,連接元件260插入第一框架100的第一孔270和第二框架 110的第二孔280,以將第一框架IOO機(jī)械連接至第二框架110。另外，參見圖6B,連接元件260可形成在第一框架IOO中以插入第二 框架110的第二孔280,從而將第一框架IOO機(jī)械連接至第二框架110。參見圖6C,連接元件260可形成在第二框架IIO中以插入第一框架100 的第一孔270,從而將第一框架IOO機(jī)械連接至第二框架110。更具體地，連接元件260可以是螺絲件。此時(shí)，第一孔270或第二孔 280可具有凹螺紋部分，從而可將螺絲件緊固其中。如上所述，用于薄膜沉積的掩模框架組件在制造有機(jī)發(fā)光顯示器的處理薄膜的特定圖樣沉積在基底上的處理。圖7是根據(jù)本發(fā)明的第 一 示例性實(shí)施例的沉積設(shè)備的示意圖。參見圖7，沉積設(shè)備包括腔300;基底290，其設(shè)置在腔中以沉積薄膜 的特定圖樣；用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件400,其具有掩模的特定圖樣， 用于在基底290上形成薄膜的特定圖樣；和沉積源310,其設(shè)置在用于薄膜 沉積的掩?？蚣芙M件400下并提供薄膜沉積材料。此時(shí)，腔300用于防止引入外來(lái)異物并調(diào)節(jié)其中的內(nèi)壓，從而在基底 290上形成薄膜的特定圖樣。用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件400包括具有多個(gè)圖樣部分210的圖樣掩模200,用于將薄膜的特定圖樣沉積在設(shè)置在位于腔300中的用于薄膜沉 積的掩模框架組件400上的基底290上；第一框架100，用于支撐圖樣掩模 200;和第二框架110,其沿水平方向設(shè)置在第一框架100下并與第一框架 100連接。因此，從沉積源310蒸鍍的材料，通過(guò)圖樣掩模200的具有多個(gè)開口的 圖樣部分210，沉積在設(shè)置在用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件400上的基底290 上，從而在基底290上形成薄膜的特定圖樣、用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件400的描述類似于實(shí)施例1的描述，因此， 為了方便將不再重復(fù)。根據(jù)本發(fā)明的第 一示例性實(shí)施例的沉積設(shè)備可應(yīng)用于包括根據(jù)本發(fā)明 的第二示例性實(shí)施例的沉積設(shè)備的沉積設(shè)備，以執(zhí)行將薄膜的特定圖樣沉積 在基底上的處理。如上所述，用于薄膜沉積的掩模框架組件和使用該掩?？蚣芙M件的沉積 設(shè)備已參照有機(jī)發(fā)光顯示器進(jìn)行了描述。然而，本發(fā)明不限于有機(jī)發(fā)光顯示 器，而是可應(yīng)用于形成例如液晶顯示器的平板顯示器的薄膜的處理。根據(jù)上述內(nèi)容可見，根據(jù)本發(fā)明，用于平板顯示器的薄膜沉積的掩?？?架組件和使用該組件的沉積設(shè)備采用了雙輕質(zhì)框架結(jié)構(gòu)，從而容易搬運(yùn)掩模 框架組件，并降低設(shè)置在沉積設(shè)備的腔中的運(yùn)輸設(shè)備的重量載荷，從而提高 掩模框架組件的生產(chǎn)率。人員應(yīng)該理解的是，在不脫離由所附權(quán)利要求及其等同設(shè)置所限定的本發(fā)明 的精神或范圍的情況下，本發(fā)明可進(jìn)行不同的變化和改進(jìn)。
權(quán)利要求
1. 一種用于平板顯示器的膜沉積的掩?？蚣芙M件，包括圖樣掩模，其設(shè)置有包括多個(gè)開口的圖樣部分；第一框架，其與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模；和第二框架，其沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1的掩?？蚣芙M件，其中，所述圖樣掩模由SUS或因 瓦材料形成。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1的掩?？蚣芙M件，其中，所述第一框架由SUS或因 瓦材料形成。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1的掩?？蚣芙M件，其中，所述第二框架由比質(zhì)量小 于SUS或因瓦材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4的掩?？蚣芙M件，其中，所述具有小的比質(zhì)量的金 屬或合金包括從鋁、鎂、鈦以及它們的合金中選出的一種。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1的掩?？蚣芙M件，其中，所述圖樣掩模由與所述第 一框架相同的材料形成，并通過(guò)焊接與所述第一框架連接。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1的掩?？蚣芙M件，其中，所述第一框架由不同于所 述第二框架的材料形成，并通過(guò)一連接元件與所述第二框架連接。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7的掩?？蚣芙M件，其中，所述連接元件形成在所述 第一框架中并與所述第二框架連接。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7的掩?？蚣芙M件，其中，所述連接元件形成在所述 第二框架中并與所述第一框架連接。
10、 一種沉積設(shè)備，包括 沉積腔；如權(quán)利要求1-9中任一權(quán)利要求所述的掩?？蚣芙M件，其設(shè)置在所述 沉積腔中；和朝向所述圖樣掩模的沉積源。
全文摘要
提供了一種用于平板顯示器的薄膜沉積的掩?？蚣芙M件及使用該組件的沉積設(shè)備，包括設(shè)置有具有多個(gè)開口的圖樣部分的圖樣掩模；與圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐圖樣掩模的第一框架；和沿水平或豎直方向與第一框架連接的第二框架。用于薄膜沉積的掩?？蚣芙M件安裝到沉積設(shè)備，所述沉積設(shè)備用于沉積有機(jī)發(fā)光顯示器的有機(jī)發(fā)射層，從而在基底上沉積薄膜的特定圖樣。此時(shí)，第二框架由質(zhì)量小于形成第一框架的SUS或因瓦材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成，從而實(shí)現(xiàn)用于薄膜組件的輕質(zhì)掩模框架組件。因此，可以易于搬運(yùn)用于薄膜組件的輕質(zhì)掩?？蚣芙M件，并減少設(shè)置在沉積設(shè)備中的運(yùn)輸設(shè)備的重量載荷，從而提高生產(chǎn)率。
文檔編號(hào)C23C14/04GK101280411SQ20081008985
公開日2008年10月8日 申請(qǐng)日期2008年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月5日
發(fā)明者金善浩, 魯碩原 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社