專利名稱：太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種太陽能集熱膜及其制造方法，更具體地說，涉及一種太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜及其制造方法。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，直接利用太陽能光熱轉(zhuǎn)換制作的集熱類產(chǎn)品，主要有以下兩類一是玻璃真空管集熱型系采用套在一起的雙層玻璃管的內(nèi)管，其內(nèi)壁沉積有太陽能光熱轉(zhuǎn)換集熱膜，當陽光透過透明的外管照射到集熱膜上后，光熱轉(zhuǎn)換使集熱膜獲得熱量溫度升高，內(nèi)管通水帶走集熱膜上的熱量，完成熱交換。其缺點是因玻璃管易碎而易損壞、通不上水時干燒炸管、集熱效率相對較低、使用壽命相對較短、不能作成與房屋建筑和諧配合的異形；二是普通金屬薄膜平板集熱型在金屬箔膜基片上，噴涂或者刷涂集熱膜層，陽光照射到集熱膜層后，光熱轉(zhuǎn)換使集熱膜層獲得熱能，再傳遞給基片箔膜，使基片箔膜和其上焊接的水管溫度升高，通入水管內(nèi)的水帶走熱量，完成熱交換。其缺點是紅外發(fā)射率較高，太陽吸收比較低，因而集熱效率相對較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提供一種對于陽光中的可見及近紅外波段反射率較低、在紅外波段反射率較高，且對陽光照射具有良好的選擇吸收特性的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜及其制造方法。
為了達到上述目的，本發(fā)明提供了如下的技術(shù)方案研制一種太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜，以金屬銅箔膜或者鋁箔膜為基片箔膜，該集熱膜在基片箔膜1的上方自下而上依次具有紅外反射膜層2、第一吸收膜層3、第二吸收膜層4和減反射膜層5。所述的紅外反射膜層2是沉積金屬態(tài)銅質(zhì)薄膜層，第一吸收膜層3、第二吸收膜層4均是氧氮鎳鉻合金NiCrOxNy薄膜層，減反射膜層5是介電態(tài)氧鎳鉻合金NiCrOx薄膜層，各膜層在基片箔膜1上沉積并層疊于一體。
本發(fā)明的鎳鉻集熱膜，基片箔膜1和各膜層的厚度范圍分別可以是基片箔膜1是0.1～0.3mm，紅外反射膜層2是130～160nm，第一吸收膜層3是30～40nm，第二吸收膜層4是10～20nm，減反射膜層5是40～60nm。
本發(fā)明的鎳鉻集熱膜各膜層具體說明如下，紅外反射膜層2為沉積金屬態(tài)銅質(zhì)膜層，其作用是確保集熱膜具有足夠低的紅外發(fā)射率，防止基片箔膜上的熱能外泄；第一吸收膜層3、第二吸收膜層4為濺射沉積狀態(tài)的氧氮鎳鉻合金(NiCrOxNy)薄膜層，吸收層可以降低對可見光及近紅外波段的光線的反射率，能最大限度地吸收太陽能，即是太陽吸收比高，同時，吸收層可以提高對紅外波段的光線反射率，即是紅外發(fā)射率低，能防止基片箔膜上的熱能外泄；減反射膜層5的材質(zhì)為透明的介電態(tài)氧鎳鉻合金(NiCrO)薄膜層，其作用是盡可能地減少可見光及近紅外波段光線的反射作用，確保盡可能多的太陽光能被轉(zhuǎn)換成熱能。
本發(fā)明鎳鉻集熱膜的制造方法，用卷對卷式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機鍍膜，該工藝過程如下(1)基片箔膜卷料清洗及烘干將基片箔膜卷料，用卷對卷式五槽超聲波清洗烘干裝置連續(xù)清洗和烘干；(2)鍍膜層的鍍制A、先用卷對卷形式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機將基片箔膜卷料張緊，然后B、鍍膜機的工作室抽真空至2.0×10-3Pa～5.0×10-3Pa，同時將通向中心滾筒的加熱油升溫至110～160℃，再C、各濺射室通入工作氣體向第一濺射室通入流量為100～800ml/min的氬氣，向第二濺射室通入氧氣和氮氣流量分別為10～180ml/min和100～400ml/min的混合氣體，向第三濺射室通入氧氣和氮氣流量分別為30～240ml/min和60～300ml/min的混合氣體，向第四濺射室通入流量為40～300ml/min的氧氣，然后D、將第一濺射室的濺射電流調(diào)至5～30A，濺射電壓調(diào)至0.85～2.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第二濺射室的濺射電流調(diào)至8～50A，濺射電壓調(diào)至0.30～1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第三濺射室的濺射電流調(diào)至8～50A，濺射電壓調(diào)至0.30～1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第四濺射室的濺射電流調(diào)至8～60A，濺射電壓調(diào)至0.50～2.2kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，接著E、啟動卷對卷基片箔膜卷料移動功能，基片箔膜卷料按線速度為200～600mm/min恒速移動先后通過各濺射室，分別進行紅外反射層(2)、第一吸收層(3)、第二吸收層(4)和減反射層(5)的濺射沉積，停機，最后F、卷料剪裁成所需尺寸。
本發(fā)明所述的基片箔膜卷料清洗及烘干技術(shù)為現(xiàn)有技術(shù)，用卷對卷式五槽超聲波清洗烘干裝置連續(xù)清洗和烘干的具體流程說明如下(1)第一槽內(nèi)，進行第一次超聲波、中性洗滌劑漂洗漂洗溶液的工作溫度為40℃～60℃，工業(yè)水與中性洗滌劑的體積配比為100∶4，根據(jù)基片箔膜來料的清潔、含油狀況，兌入的中性洗滌劑的配比可以在100∶1～100∶8之間調(diào)整；超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為800～1500mm/min；基片箔膜在以下各槽和紅外烘干箱內(nèi)是以相同線速度移動的；(2)第二槽內(nèi)，第二次超聲波、中性洗滌劑漂洗漂洗溶液的工作溫度為40℃～60℃，工業(yè)水與中性洗滌劑的體積配比為100∶2，根據(jù)基片箔膜來料的清潔、含油狀況，兌入的中性洗滌劑的配比可以在100∶1～100∶5之間調(diào)整；超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；(3)第三槽內(nèi)，工業(yè)水漂洗，工業(yè)水工作溫度為20℃～40℃，超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；(4)第四槽內(nèi)，去離子水漂洗，去離子水工作溫度為20℃～40℃，超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；(5)第五槽內(nèi)，去離子水漂洗，去離子水工作溫度為室溫；(6)紅外烘干2～3分鐘。所述的中性洗滌劑為市場上易于購買的商品洗滌劑，在實施例中予以說明。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下明顯的優(yōu)點1、技術(shù)效果好本發(fā)明的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜，由于具備有紅外反射層、雙吸收層和減反射層等選擇性吸收膜層，對于陽光的可見及近紅外波段反射率較低即太陽吸收比較高，在紅外波段反射率較高即紅外發(fā)射率較低，因而集熱效率相對較高。且產(chǎn)品內(nèi)部無真空環(huán)境，不怕漏氣，使用壽命相對較長，不易破碎損壞，能制作成圓弧、圓球面等異形使用；2、本發(fā)明以卷對卷方式(Roll to Roll)操控基片箔膜在濺射過程的移動，能以較快的速度均勻地在很長的基片箔膜上進行磁控濺射鍍膜，便于大規(guī)模生產(chǎn)，在反應(yīng)濺射過程中，通過改變金屬靶材和工作氣體的種類，調(diào)節(jié)工作氣體流量、濺射電流即濺射功率的大小和基片箔膜移動的線速度，達到同時在鍍膜機內(nèi)，沉積生成不同材質(zhì)、不同厚度的金屬態(tài)或介電態(tài)的集熱膜層；3、本發(fā)明的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜用途廣泛，可以用作太陽能平板熱水器、異形特形太陽能熱水器、太陽能水暖器等類型產(chǎn)品的集熱元件；4、采用本發(fā)明制作的整體式太陽能陽臺熱水器，環(huán)保節(jié)能，作為建筑物陽臺的一部分，使用范圍廣。


以下是本發(fā)明的

圖1是太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是卷對卷形式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機工作原理示意圖；圖3是卷對卷形式的五槽超聲波清洗烘干裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1～3中，1是基片箔膜，2是紅外反射膜層，3是第一吸收膜層，4是第二吸收膜層，5是減反射膜層，11是從動輪，12是上料段，13，14是中性洗滌槽，15是工業(yè)水洗滌槽，16，17是去離子水洗滌槽，18是紅外烘干箱，19是下料段，20是驅(qū)動輪，21是除水風刀，22是隔污板，23超聲振動板，24是超聲波發(fā)生器，25紅外電熱板。
參照圖1，在基片箔膜1的上方自下而上依次具有紅外反射膜層2、第一吸收膜層3、第二吸收膜層4和減反射膜層5，各膜層在基片箔膜1上沉積并層疊于一體。
參照圖2，用卷對卷式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機鍍膜，工藝過程如下將清洗和烘干的基片箔膜1的卷料通過滾筒，經(jīng)張緊輪張緊，此時抽真空機組抽真空，同時中心滾筒，基片箔膜1的卷料沿中心滾筒勻速運動，先后向第一濺射室通入氬氣，向第二濺射室通入氧氣和氮氣，向第三濺射室通入氧氣和氮氣，向第四濺射室通入氧氣，分別進行紅外反射層2、第一吸收層3、第二吸收層4和減反射層5的濺射沉積，停機，最后下料并將已鍍膜基片箔膜1的卷料下料，卷料剪裁成所需尺寸。
參照圖3，用卷對卷式五槽超聲波清洗烘干裝置連續(xù)清洗和烘干的具體流程說明如下基片箔膜1的卷料經(jīng)從動輪進入12由上料段12先后進入中性洗滌槽13，14即第一槽、第二槽，進行兩次超聲波、中性洗滌劑漂洗，然后進入工業(yè)水洗滌槽15即第三槽，進行工業(yè)水漂洗，在先后進入去離子水洗滌槽16，17即第四槽、第五槽，進行入去離子水漂洗，接著進入紅外烘干箱18進行紅外烘干，在進入下料段19，由驅(qū)動輪20送去鍍膜，在前四個洗滌槽內(nèi)有隔污板22、超聲振動板23，前四個洗滌槽下方有超聲波發(fā)生器24，紅外烘干箱18下方有紅外電熱板25。
具體實施例方式
以下通過具體的實施方式對本發(fā)明進行更加詳細的描述實施例1. 300mm銅基片的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的制造(1)選用寬度為300mm，厚度為0.2mm，長度為200m的卷料銅箔膜作為太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的沉積基片，首先把其放置在卷對卷形式的五槽超聲波清洗烘干裝置的上料位置，把料頭引向下料位置，啟動機器，對基片進行清洗、烘干處理，清洗、烘干的工藝流程是第一次超聲波、中性洗滌劑漂洗——第二次超聲波、中性洗滌劑漂洗——工業(yè)水漂洗——去離子水漂洗——去離子水漂洗——紅外烘干。具體的工藝參數(shù)是中性洗滌槽13內(nèi)，第一次超聲波、中性洗滌劑漂洗，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶12；超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min。中性洗滌劑采用珠海潔星牌CS-T101H，以下各實施例相同；中性洗滌槽14內(nèi)，第二次超聲波、中性洗滌劑漂洗，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶5；超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min。中性洗滌劑采用中海牌W23-222，以下各實施例相同；工業(yè)水洗滌槽15內(nèi)，工業(yè)水漂洗，工業(yè)水工作溫度為40℃，超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；去離子水洗滌槽16內(nèi)，去離子水漂洗，去離子水工作溫度為40℃，超聲波的功率為3KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；去離子水洗滌槽17內(nèi)，去離子水漂洗，去離子水工作溫度為室溫，基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；紅外烘干時間為2分鐘。然后，(2)在銅基片箔膜一側(cè)表面上，采用磁控反應(yīng)濺射法，制作紅外反射層、吸收層和減反射層。
首先把完成清洗烘干的基片箔膜卷料放入卷對卷形式的磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的上料位置，并把料頭穿過張緊輪、中心滾筒引向收卷位置，啟動機器，自動將基片箔膜張緊。
具體的工藝流程和工藝參數(shù)是第一步把磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的工作室抽真空，使其真空度達到2.0×10-3Pa～5.0×10-3Pa，同時隨著抽真空過程，把通向中心滾筒的加熱油升溫至150℃，使中心滾筒外壁溫度達到約150℃，從而間接把緊貼中心滾筒外壁的基片箔膜加熱至145℃。
第二步向第一濺射室通通入工作氣體氬氣，其流量為240ml/min；向第二濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為40ml/min，氮氣的流量為120ml/min；向第三濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為60ml/min，氮氣的流量為80ml/min；向第四濺射室通通入工作氣體氧氣，氧氣的流量為80ml/min；第三步將第一濺射室的濺射電流調(diào)至8.5A，濺射電壓調(diào)至0.88kV，工作氣體的濺射壓力為0.5Pa；將第二濺射室的濺射電流調(diào)至12A，濺射電壓調(diào)至0.45kV，工作氣體的濺射壓力為0.5Pa；將第三濺射室的濺射電流調(diào)至10A，濺射電壓調(diào)至0.45kV，工作氣體的濺射壓力為0.5Pa；第四濺射室的濺射電流調(diào)至8A，濺射電壓調(diào)至0.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.4Pa；第四步啟動卷對卷基片箔膜移動功能，在自動保持恒定張力(基片材料不同，恒定張力值設(shè)定亦有不同)的前提下，使基片箔膜作恒定線速度移動通過四個濺射室，先后完成紅外反射層、兩個吸收層、減反射層的濺射沉積工藝。
(3)當上料卷內(nèi)的基片箔膜完全開卷，張力加大使卷對卷移動系統(tǒng)停止下來，此時關(guān)閉并打開磁控反應(yīng)濺射鍍膜機，剪掉料頭部分，在下料端取出已完成鍍膜的料卷，最后按產(chǎn)品設(shè)計要求把卷料剪裁成如下外形尺寸2000mm×300mm×0.2mm。
實施例2.800mm銅基片的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的制造(1)選用寬度為800mm，厚度為0.2mm，長度為108m的卷料銅箔膜作為太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的沉積基片。首先把其放置在卷對卷形式的五槽超聲波清洗烘干裝置的上料位置，把料頭引向下料位置，啟動機器，對基片進行清洗、烘干處理。處理過程同實施例1，具體工藝參數(shù)為中性洗滌槽13內(nèi)，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶12；超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；中性洗滌槽14內(nèi)，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶5；超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；
工業(yè)水洗滌槽15內(nèi)，工業(yè)水工作溫度為40℃，超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min。
去離子水洗滌槽16內(nèi)，去離子水工作溫度為40℃，超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min。
去離子水洗滌槽17內(nèi)，去離子水工作溫度為室溫，基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；紅外烘干時間為3分鐘，然后，(2)在銅基片箔膜一側(cè)表面上，采用磁控反應(yīng)濺射法，制作紅外反射層、吸收層和減反射層。
首先把完成清洗烘干的基片箔膜卷料放入卷對卷形式的磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的上料位置，并把料頭穿過張緊輪、中心滾筒引向收卷位置，啟動機器，自動將基片箔膜張緊。
具體的工藝流程和工藝參數(shù)是第一步把磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的工作室抽真空，使其真空度達到2.0×10-3Pa～5.0×10-3Pa，同時隨著抽真空過程，把通向中心滾筒的加熱油升溫至160℃，使中心滾筒外壁溫度達到約155℃，從而間接把緊貼中心滾筒外壁的基片箔膜加熱至150℃；第二步向第一濺射室通通入工作氣體氬氣，其流量為700ml/min；向第二濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為120ml/min，氮氣的流量為350ml/min；向第三濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為180ml/min，氮氣的流量為240ml/min；向第四濺射室通通入工作氣體氧氣，氧氣的流量為240ml/min；第三步將第一濺射室的濺射電流調(diào)至24A，濺射電壓調(diào)至2.4kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；將第二濺射室的濺射電流調(diào)至35A，濺射電壓調(diào)至1.2kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；將第三濺射室的濺射電流調(diào)至28A，濺射電壓調(diào)至1.2kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；第四濺射室的濺射電流調(diào)至30A，濺射電壓調(diào)至1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；第四步啟動卷對卷基片箔膜移動功能，在自動保持恒定張力(基片材料不同，恒定張力值設(shè)定亦有不同)的前提下，使基片箔膜作恒定線速度移動通過四個濺射室，先后完成紅外反射層、兩個吸收層、減反射層的濺射沉積工藝；(3)當上料卷內(nèi)的基片箔膜完全開卷，張力加大使卷對卷移動系統(tǒng)停止下來，此時關(guān)閉并打開磁控反應(yīng)濺射鍍膜機，剪掉料頭部分，在下料端取出已完成鍍膜的料卷，最后按產(chǎn)品設(shè)計要求把卷料剪裁成如下外形尺寸4800mm×800mm×0.2mm。
實施例3.1000mm鋁合金基片的太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的制造(1)選用市場購買的寬度為1000mm，厚度為0.3mm，長度為150m的卷料鋁合金箔膜作為太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻(Ni-Cr)集熱膜的沉積基片。首先把其放置在卷對卷形式的五槽超聲波清洗烘干裝置的上料位置，把料頭引向下料位置，啟動機器，對基片進行清洗、烘干處理。處理過程同實施例1，具體的工藝參數(shù)是中性洗滌槽13內(nèi)，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶12；超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；中性洗滌槽14內(nèi)，中性洗滌劑溶液的工作溫度為60℃，配比為100∶5；超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；
工業(yè)水洗滌槽15內(nèi)，工業(yè)水工作溫度為40℃，超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；去離子水洗滌槽16內(nèi)，去離子水工作溫度為40℃，超聲波的功率為9KW，頻率為20Hz；基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；去離子水洗滌槽17內(nèi)，去離子水工作溫度為室溫，基片箔膜移動的線速度為1200mm/min；紅外烘干時間為3分鐘，然后(2)在銅基片箔膜一側(cè)表面上，采用磁控反應(yīng)濺射法，制作紅外反射層、吸收層和減反射層。
首先把完成清洗烘干的基片箔膜卷料放入卷對卷形式的磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的上料位置，并把料頭穿過張緊輪、中心滾筒引向收卷位置，啟動機器，自動將基片箔膜張緊。
具體的工藝流程和工藝參數(shù)是第一步；把磁控反應(yīng)濺射鍍膜機的工作室抽真空，使其真空度達到2.0×10-3Pa～5.0×10-3Pa，同時隨著抽真空過程，把通向中心滾筒的加熱油升溫至160℃，使中心滾筒外壁溫度達到約155℃，從而間接把緊貼中心滾筒外壁的基片箔膜加熱至150℃；第二步向第一濺射室通通入工作氣體氬氣，其流量為800ml/min；向第二濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為140ml/min，氮氣的流量為380ml/min；向第三濺射室通通入工作氣體氧氣氮氣混合氣體，氧氣的流量為200ml/min，氮氣的流量為280ml/min；向第四濺射室通通入工作氣體氧氣，氧氣的流量為300ml/min；第三步將第一濺射室的濺射電流調(diào)至26A，濺射電壓調(diào)至2.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；將第二濺射室的濺射電流調(diào)至38A，濺射電壓調(diào)至1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；將第三濺射室的濺射電流調(diào)至32A，濺射電壓調(diào)至1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；第四濺射室的濺射電流調(diào)至35A，濺射電壓調(diào)至1.8kV，工作氣體的濺射壓力為0.6Pa；第四步啟動卷對卷基片箔膜移動功能，在自動保持恒定張力(基片材料不同，恒定張力值設(shè)定亦有不同)的前提下，使基片箔膜作恒定線速度移動通過四個濺射室，先后完成紅外反射層、兩個吸收層、減反射層的濺射沉積工藝。
(3)當上料卷內(nèi)的基片箔膜完全開卷，張力加大使卷對卷移動系統(tǒng)停止下來，此時關(guān)閉并打開磁控反應(yīng)濺射鍍膜機，剪掉料頭部分，在下料端取出已完成鍍膜的料卷，最后按產(chǎn)品設(shè)計要求把卷料剪裁成如下外形尺寸5000mm×1000mm×0.3mm。
權(quán)利要求
1.一種太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜，以金屬銅箔膜或者鋁箔膜為基片箔膜，其特征在于在基片箔膜(1)的上方自下而上依次具有紅外反射膜層(2)、第一吸收膜層(3)、第二吸收膜層(4)和減反射膜層(5)，所述的紅外反射膜層(2)是沉積金屬態(tài)銅質(zhì)薄膜層，第一吸收膜層(3)、第二吸收膜層(4)均是氧氮鎳鉻合金NiCrOxNy薄膜層，減反射膜層(5)是介電態(tài)氧鎳鉻合金NiCrOx薄膜層，各膜層在基片箔膜(1)上沉積并層疊于一體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎳鉻集熱膜，其特征在于基片箔膜(1)和各膜層的厚度范圍分別是基片箔膜(1)0.1～0.3mm，紅外反射膜層(2)130～160nm，第一吸收膜層(3)30～40nm，第二吸收膜層(4)10～20nm，減反射膜層(5)40～60nm。
3.權(quán)利要求1所述的鎳鉻集熱膜的制造方法，用卷對卷式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機鍍膜，其特征在于工藝過程如下(1)基片箔膜卷料清洗及烘干將基片箔膜卷料，用卷對卷式五槽超聲波清洗烘干裝置連續(xù)清洗和烘干；(2)鍍膜層的鍍制A、先用卷對卷形式磁控反應(yīng)濺射鍍膜機將基片箔膜卷料張緊，然后B、鍍膜機的工作室抽真空至2.0×10-3Pa～5.0×10-3Pa，同時將通向中心滾筒的加熱油升溫至110～160℃，再C、各濺射室通入工作氣體向第一濺射室通入流量為100～800ml/min的氬氣，向第二濺射室通入氧氣和氮氣流量分別為10～180ml/min和100～400ml/min的混合氣體，向第三濺射室通入氧氣和氮氣流量分別為30～240ml/min和60～300ml/min的混合氣體，向第四濺射室通入流量為40～300ml/min的氧氣，然后D、將第一濺射室的濺射電流調(diào)至5～30A，濺射電壓調(diào)至0.85～2.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第二濺射室的濺射電流調(diào)至8～50A，濺射電壓調(diào)至0.30～1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第三濺射室的濺射電流調(diào)至8～50A，濺射電壓調(diào)至0.30～1.5kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，將第四濺射室的濺射電流調(diào)至8～60A，濺射電壓調(diào)至0.50～2.2kV，工作氣體的濺射壓力為0.2Pa～0.8Pa，接著E、啟動卷對卷基片箔膜卷料移動功能，基片箔膜卷料按線速度為200～600mm/min恒速移動先后通過各濺射室，分別進行紅外反射層(2)、第一吸收層(3)、第二吸收層(4)和減反射層(5)的濺射沉積，停機，最后F、卷料剪裁成所需尺寸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種太陽能光熱轉(zhuǎn)換鎳鉻集熱膜及其制造方法，在基片箔膜(1)的上方自下而上依次具有紅外反射膜層(2)、第一吸收膜層(3)、第二吸收膜層(4)和減反射膜層(5)，其中紅外反射膜層(2)是沉積金屬態(tài)銅質(zhì)薄膜層，第一吸收膜層(3)、第二吸收膜層(4)均是氧氮鎳鉻合金NiCrO
文檔編號C23C14/06GK101093115SQ20071007639
公開日2007年12月26日 申請日期2007年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月6日
發(fā)明者陳五奎, 唐伯寧, 雷曉全 申請人:深圳市拓日新能源科技股份有限公司