專利名稱：一種新型平面濺射陰極的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備用的平面濺射陰極。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作原理通常為在真空條件下，帶有正電荷的粒子轟擊帶有負(fù)電荷的固體表面(靶材)，使靶材表面濺射出來(lái)原子或分子，從靶材表面濺射出的粒子沉積在基體上形成薄膜，這種過(guò)程就是濺射鍍膜，靶材因帶有負(fù)電荷而被稱為“陰極”。
為了提高陰極靶材濺射的速率，在垂直離子運(yùn)動(dòng)方向上設(shè)置磁場(chǎng)，離子在正交電磁場(chǎng)中由直線運(yùn)動(dòng)變成擺線運(yùn)動(dòng)，以最大能量轟擊靶材。然而，在離子轟擊靶材時(shí)大部分能量用于靶材粒子濺射，一部分能量轉(zhuǎn)變成熱能，這些熱量會(huì)導(dǎo)致永久磁鐵因高溫而消磁，從而使陰極裝置失效。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種新型平面濺射陰極，能夠防止離子轟擊靶材時(shí)一部分能量轉(zhuǎn)變成熱能后，導(dǎo)致磁鐵因高溫而消磁，以保證陰極裝置的正常工作。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案提供一種新型平面濺射陰極，包括陰極體、磁鐵、密封銅板和靶材，所述帶阻磁且耐水腐蝕復(fù)合層的陰極體，與密封銅板一起構(gòu)成冷卻水槽，所述的磁鐵直接放置在冷卻水槽內(nèi)。
在本實(shí)用新型所述的一種新型平面濺射陰極中，所述的冷卻水槽中純水直接與磁鐵接觸。所述的磁鐵采用永久磁鐵，并采用釤鈷材料，制作成方型或橢圓型磁條。所述的永久磁鐵與復(fù)合層之間安置有磁鐵座，磁鐵座采用電工純鐵材料，外表鍍鎳。所述的復(fù)合層材料選用不銹鋼或銅或鋁。
在本實(shí)用新型所述的一種新型平面濺射陰極中，所述的陰極體與密封銅板構(gòu)成一個(gè)整體，該整體與靶材通過(guò)靶材壓條和密封壓條堅(jiān)固。所述的陰極體與密封銅板之間設(shè)置有O型密封圈。
在本實(shí)用新型所述的一種新型平面濺射陰極中，所述的陰極體連接陰極電源，并安置于真空腔體內(nèi)。所述的真空腔體內(nèi)連接電源陽(yáng)極，鍍膜基板安置于靶材下方。所述的鍍膜基板置于使基板運(yùn)動(dòng)的傳動(dòng)輥筒上。
由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，將帶阻磁且耐水腐蝕復(fù)合層的陰極體，與密封銅板一起構(gòu)成冷卻水槽，磁鐵直接放置在冷卻水槽內(nèi)；工作過(guò)程中，磁鐵能夠得到有效地冷卻，可以防止離子轟擊靶材時(shí)一部分能量轉(zhuǎn)變成熱能后導(dǎo)致磁鐵因高溫而消磁，從而能保證陰極裝置的正常工作。


圖1是本實(shí)用新型一種新型平面濺射陰極的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實(shí)用新型一種新型平面濺射陰極的工作原理圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
圖1示出了本實(shí)用新型一種新型平面濺射陰極1的結(jié)構(gòu)示意圖，其主要由陰極體19、磁鐵17、密封銅板14和靶材13等構(gòu)成。陰極體19一般采用碳鋼制成，由于碳鋼不能直接接觸冷卻純水，故其內(nèi)壁設(shè)置有具有阻磁且耐水腐蝕功能的復(fù)合層16，復(fù)合層16可由不銹鋼或銅或鋁等制成。陰極體19與密封銅板14一起構(gòu)成冷卻水槽10，陰極體19與密封銅板14構(gòu)成一個(gè)整體，陰極體19與密封銅板14之間設(shè)置有O型密封圈15。陰極體19與密封銅板14構(gòu)成的整體與靶材13通過(guò)靶材壓條11和密封壓條12堅(jiān)固，在使用中和更換靶材13時(shí)不再進(jìn)行拆卸，更換靶材13時(shí)只需要拆卸開(kāi)靶材壓條11即可。磁鐵17直接放置在冷卻水槽10內(nèi)，并與冷卻水槽10中的純水直接接觸，磁鐵17與復(fù)合層16之間安置有磁鐵座18，磁鐵座18采用電工純鐵材料，外表鍍鎳。
工作過(guò)程中，靶材13在生產(chǎn)中產(chǎn)生的熱量經(jīng)密封銅板14傳遞給冷卻純水帶走，不會(huì)使磁鐵17產(chǎn)生高溫，保證磁鐵17的磁場(chǎng)強(qiáng)度不會(huì)降低，從而使整個(gè)平面陰極保持可靠。磁鐵17采用永久磁鐵，并采用釤鈷材料，制作成方型或橢圓型磁條。
圖2示出了本實(shí)用新型的工作原理圖，如圖所示，濺射陰極1的陰極體19連接陰極電源的陰極端3，并安置于真空腔體2內(nèi)。真空腔體2內(nèi)連接電源陽(yáng)極4，鍍膜基板5安置于靶材13下方。鍍膜基板5置于使基板5運(yùn)動(dòng)的傳動(dòng)輥筒6上。在真空條件下，帶有正電荷的粒子轟擊帶有負(fù)電荷的靶材13，使靶材13表面濺射出來(lái)原子或分子，從靶材13表面濺射出的粒子沉積在基板5上形成薄膜，這種過(guò)程就是濺射鍍膜，另外，可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其它各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種新型平面濺射陰極，包括陰極體、磁鐵、密封銅板和靶材，其特征在于所述帶阻磁且耐水腐蝕復(fù)合層的陰極體，與密封銅板一起構(gòu)成冷卻水槽，所述的磁鐵直接放置在冷卻水槽內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的冷卻水槽中純水直接與磁鐵接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的磁鐵采用永久磁鐵，并采用釤鈷材料，制作成方型或橢圓型磁條。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的永久磁鐵與復(fù)合層之間安置有磁鐵座，磁鐵座采用電工純鐵材料，外表鍍鎳。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的復(fù)合層材料選用不銹鋼或銅或鋁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的陰極體與密封銅板構(gòu)成一個(gè)整體，該整體與靶材通過(guò)靶材壓條和密封壓條堅(jiān)固。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的陰極體與密封銅板之間設(shè)置有O型密封圈。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的陰極體連接陰極電源，并安置于真空腔體內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的真空腔體內(nèi)連接電源陽(yáng)極，鍍膜基板安置于靶材下方。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種新型平面濺射陰極，其特征在于所述的鍍膜基板置于使基板運(yùn)動(dòng)的傳動(dòng)輥筒上。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種新型平面濺射陰極，包括陰極體、磁鐵、密封銅板和靶材，所述帶阻磁且耐水腐蝕復(fù)合層的陰極體，與密封銅板一起構(gòu)成冷卻水槽，所述的磁鐵直接放置在冷卻水槽內(nèi)。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，將帶阻磁且耐水腐蝕復(fù)合層的陰極體，與密封銅板一起構(gòu)成冷卻水槽，磁鐵直接放置在冷卻水槽內(nèi)；工作過(guò)程中，磁鐵能夠得到有效地冷卻，可以防止離子轟擊靶材時(shí)一部分能量轉(zhuǎn)變成熱能后導(dǎo)致磁鐵因高溫而消磁，從而能保證陰極裝置的正常工作。
文檔編號(hào)C23C14/35GK2775069SQ20052005585
公開(kāi)日2006年4月26日 申請(qǐng)日期2005年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月14日
發(fā)明者白振中 申請(qǐng)人:深圳南玻南星玻璃加工有限公司