專利名稱：組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的制作方法
背景技術(shù)：
一般遇到兩種軌道手持打磨機(jī)，即隨機(jī)軌道型的軌道打磨機(jī)(下面稱為隨機(jī)軌道打磨機(jī)(random orbit sander)或ROS)和四分之一片型的軌道打磨機(jī)(下面稱為四分之一片打磨機(jī)(quarter-sheet sander)或QSS)。每種類型都具有連接到動力傳輸裝置的電機(jī)。兩部分的蛤殼型磁場屏蔽罩容納電機(jī)，兩部分的蛤殼型護(hù)罩容納動力傳輸裝置。
由于顯示出不同的振動類型，故ROS和QSS的動力傳輸裝置不同。類似地，ROS和QSS的電機(jī)不同。因此，用于ROS和用于QSS的磁場屏蔽罩不同。并且用于ROS和用于QSS的護(hù)罩也不同。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的至少一個實(shí)施例提供了一種打磨機(jī)外殼，包括至少容納電機(jī)的磁場屏蔽罩，該磁場屏蔽罩具有可連接到下述每個部件的界面(1)隨機(jī)軌道打磨機(jī)(ROS)護(hù)罩，其中可容納ROS型動力傳輸裝置，和(2)四分之一片打磨機(jī)(QSS)護(hù)罩，其中可容納QSS型動力傳輸裝置。
本發(fā)明的至少一個其它實(shí)施例提供了一種制造隨機(jī)軌道打磨機(jī)和四分之一片打磨機(jī)的方法。該方法可包括提供打磨機(jī)適用的電機(jī)；至少部分地將電機(jī)裝入磁場屏蔽罩中，以形成至少部分組裝的電源單元；以及庫存多個所述至少部分組裝的電源單元，通過反復(fù)地重復(fù)提供和裝入的步驟，而不庫存相應(yīng)數(shù)量的打磨機(jī)適用的動力傳輸裝置，所述多個至少部分組裝的電源單元可以與該動力傳輸裝置相匹配。
本發(fā)明另外的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將從下面對示例性實(shí)施例、附圖和有關(guān)權(quán)利要求的詳細(xì)描述中變得更加明顯。
附圖旨在描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，而不應(yīng)當(dāng)解釋為限制本發(fā)明的范圍。特別地，為了清晰，圖中元件的相對尺寸可能縮小或放大。換言之，圖不是成比例繪出的。
圖1是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的側(cè)面分解透視圖。
圖2A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的隨機(jī)軌道打磨機(jī)(ROS)外殼的外部構(gòu)造的側(cè)面透視圖。
圖2B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的四分之一片打磨機(jī)(QSS)外殼的外部構(gòu)造的側(cè)面透視圖。
圖3A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的更加詳細(xì)地示出圖1的磁場屏蔽罩的側(cè)視圖。
圖3B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的更加詳細(xì)地示出圖1的磁場屏蔽罩的底部的側(cè)面透視圖。
圖3C是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的示出圖1的磁場屏蔽罩的底部的底視圖。
圖3D是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的(更加詳細(xì)地)向內(nèi)觀察圖1的磁場屏蔽罩的俯視圖。
圖4A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的ROS護(hù)罩半體的側(cè)視圖。
圖4B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的QSS護(hù)罩半體的側(cè)視圖。
圖5A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖3A的磁場屏蔽罩的側(cè)視圖，圖4A的ROS護(hù)罩半體裝配到該圖3A的磁場屏蔽罩。
圖5B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖3A的磁場屏蔽罩的側(cè)視圖，圖4B的QSS護(hù)罩半體裝配到該圖3A的磁場屏蔽罩。
圖6A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖3A的磁場屏蔽罩及其相應(yīng)的ROS護(hù)罩半體的布置的底視圖，圖4A的ROS護(hù)罩半體松裝配到該圖3A的磁場屏蔽罩。
圖6B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖3A的磁場屏蔽罩及其相應(yīng)的QSS護(hù)罩半體的布置的底視圖，圖4A的QSS護(hù)罩半體110B松裝配到該圖3A的磁場屏蔽罩。
圖7是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖2A的ROS外殼的側(cè)面透視剖面圖。
圖8是沿著斷開線VIII-VIII’剖開的圖7所示的ROS外殼的切面。
圖9是沿著斷開線IX-IX’剖開的圖7所示的ROS外殼的切面。
圖10A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的另一磁場屏蔽罩的側(cè)面透視圖。
圖10B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)的另一ROS護(hù)罩半體的側(cè)視圖。
圖10C是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的沿著圖10A的磁場屏蔽罩的第一斷開線剖開的側(cè)面透視剖面圖，圖10B的ROS護(hù)罩半體裝配到該圖10A的磁場屏蔽罩。
圖10D是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的沿著圖10A的磁場屏蔽罩的第二斷開線剖開的側(cè)面透視剖面圖，圖10B的ROS護(hù)罩半體裝配到該圖10A的磁場屏蔽罩。
圖11是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的制造打磨機(jī)的模塊化方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式
在本發(fā)明的開發(fā)過程中，意識到了背景技術(shù)中存在的問題，并確定了一種方案。如上所述，ROS(隨機(jī)軌道打磨機(jī))和QSS(四分之一片打磨機(jī))的動力傳輸裝置不同，并且電機(jī)也不同。類似地，背景技術(shù)的外殼元件不同。更具體地，用于ROS和用于QSS的磁場屏蔽罩(用于裝入電機(jī))不同，并且用于ROS和用于QSS的護(hù)罩(用于裝入動力傳輸裝置)不同。四個外殼元件(用于ROS的有兩個，用于QSS的有兩個)中每一個都代表一個或多個專用模具，而這些模具必定需要大量的人力來制造，以使各元件和與其相關(guān)的模具相協(xié)調(diào)，而這又帶來了成本的問題。
在本發(fā)明的開發(fā)過程中，認(rèn)識到ROS和QSS磁場屏蔽罩的基本相似的輪廓可以采用一共同的磁場屏蔽罩。如果該共同的磁場屏蔽罩可以用于ROS和QSS，則可以節(jié)省很多研發(fā)和制造成本。換言之，因消除了四個外殼元件中的一個，故研發(fā)和制造成本可以減少約25％。本發(fā)明的一個或多個實(shí)施例提供了這種共同的磁場屏蔽罩，ROS護(hù)罩和QSS護(hù)罩都可以連接到該共同磁場屏蔽罩。為了確保制造一定數(shù)量的ROS或QSS的能力，本發(fā)明的一個或多個實(shí)施例具有這樣一個好處，即，相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明需要的磁場屏蔽罩存量減少(現(xiàn)有技術(shù)的一半)。類似地，本發(fā)明的一個或多個實(shí)施例可以具有更細(xì)粒度的生產(chǎn)控制和/或更好的符合實(shí)時制造的總原則的能力。
圖1是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)100的側(cè)面分解透視圖。
打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)100包括至少容納打磨機(jī)適用的電機(jī)的共同磁場屏蔽罩102；安裝到磁場屏蔽罩102上的頂蓋112；容納ROS型動力傳輸裝置的ROS(隨機(jī)軌道打磨機(jī))護(hù)罩104，ROS護(hù)罩104可連接到磁場屏蔽罩102；以及容納QSS型動力傳輸裝置的QSS(四分之一片打磨機(jī))護(hù)罩108，QSS護(hù)罩108也可連接到磁場屏蔽罩102。ROS護(hù)罩104可以是包括基本鏡面對稱的半體106A和106B的蛤殼構(gòu)造。QSS護(hù)罩108可以是包括基本鏡面對稱的截平的半體110A和110B的蛤殼構(gòu)造。為了簡化說明，在圖1中半體106A、106B、110A和110B都描繪成截平的；它們?nèi)鄙倮绶勰┡懦隹诘取?br>
每個護(hù)罩106和108都適于連接到磁場屏蔽罩102。例如，磁場屏蔽罩102可包括作為部分舌榫布置的圓周凹槽118(將在下面更加詳細(xì)地描述)。相應(yīng)地，每個ROS護(hù)罩106和QSS護(hù)罩108可包括圓周唇緣(將在下面更加詳細(xì)地描述)，該唇緣在舌榫布置中用作對應(yīng)于凹槽118的舌片。
按照箭頭120A和120B所指示，分別將ROS護(hù)罩半體106A和106B緊靠并圍繞磁場屏蔽罩102，從而可以組裝ROS的外殼。按照箭頭122A和122B所指示，分別將QSS護(hù)罩半體110A和110B緊靠并圍繞磁場屏蔽罩102，從而可以組裝QSS的外殼。
圖2A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的隨機(jī)軌道打磨機(jī)(ROS)外殼200A的外部構(gòu)造的側(cè)面透視圖。
圖2A的ROS外殼200A包括頂蓋112；ROS護(hù)罩104的半體106A和106B；以及圓形打磨壓板114A。壓板114A支承砂紙圓盤(未示出)。例如，壓板114A經(jīng)由ROS動力傳輸裝置(未示出)的中心軸承(未示出)安裝，并由電機(jī)(未示出)等供電。壓板114A沿著一軌道路徑來回運(yùn)動，該軌道路徑相對于QSS打磨機(jī)上壓板運(yùn)動的大致非隨機(jī)的軌道路徑來講被認(rèn)為是隨機(jī)的。護(hù)罩半體106A和106B的圖示與圖1相比截掉的較少(如果是這樣)，例如這是因為它們的圖示包括排塵口116A。
圖2B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的四分之一片打磨機(jī)(QSS)外殼200B的外部構(gòu)造的側(cè)面透視圖。
圖2B的QSS外殼200B包括頂蓋112；QSS護(hù)罩108的半體110A和110B；以及矩形打磨壓板114B。壓板114B支承標(biāo)準(zhǔn)砂紙(未示出)片的四分之一。壓板114B經(jīng)由QSS動力傳輸裝置(未示出)的中心軸承(未示出)安裝，并由電機(jī)(未示出)等供電。壓板114B沿著一軌道路徑來回運(yùn)動，該軌道路徑相對于ROS打磨機(jī)上壓板運(yùn)動的較為隨機(jī)的軌道路徑來講被認(rèn)為是非隨機(jī)的。護(hù)罩半體110A和110B的圖示與圖1相比截掉的較少(如果是這樣)，例如這是因為它們的圖示包括排塵口116B。
圖3A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的更加詳細(xì)地示出磁場屏蔽罩102的側(cè)視圖。
圖3B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的更加詳細(xì)地示出磁場屏蔽罩102的底部的側(cè)面透視圖。
圖3C是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的更加詳細(xì)地示出磁場屏蔽罩102的底視圖。
圖3D是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的(更加詳細(xì)地)向內(nèi)觀察磁場屏蔽罩102的內(nèi)部的俯視圖。
在圖3A-3D中，磁場屏蔽罩102具有可以描述為果醬罐型外殼的大致管狀的形狀；具有中心軸，沿著該中心軸將對準(zhǔn)設(shè)置在磁場屏蔽罩102中的電機(jī)(未示出)的電樞軸(未示出)；由合適的聚合物注模；并且是整體式的構(gòu)造。或者，磁場屏蔽罩102可以是兩部分的蛤殼型外殼。凹槽118可以被描述成界面結(jié)構(gòu)，通過該凹槽118，護(hù)罩104和108可連接到磁場屏蔽罩102。磁場屏蔽罩102可以被描述為由凹槽118分成下部306和上部308。
再參照圖1、2A和2B，應(yīng)當(dāng)知道，磁場屏蔽罩102的下部306分別容納在護(hù)罩104和108內(nèi)。下部306可包括分別與護(hù)罩104和108上的相應(yīng)突出部相對準(zhǔn)的突出部302。突出部302(以及分別在護(hù)罩104和108上的對應(yīng)部分)接收緊固件(未示出)，這些緊固件分別將護(hù)罩半體106A和106B以及110A和110B壓在一起緊靠并圍繞磁場屏蔽罩102的下部306。
在下部306的遠(yuǎn)離凹槽118的一端，形成支承結(jié)構(gòu)310以容納中心軸承(未示出)。孔314形成在支承結(jié)構(gòu)310中，設(shè)置在磁場屏蔽罩102中的電機(jī)(未示出)的電樞軸(未示出)將穿過該孔314。此外，孔口312形成在下部306的末端?？卓?12允許用于冷卻磁場屏蔽罩102中設(shè)置的電機(jī)的空氣通過。
磁場屏蔽罩的上部308的遠(yuǎn)離凹槽118的一端可以描述為向外張開。該末端與頂蓋112一起確定了適于使用者的手抓握的形狀。該末端可具有形成在其中的孔口304，該孔口304允許用于冷卻磁場屏蔽罩102中設(shè)置的電機(jī)(未示出)的空氣通過。
圖4A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的ROS護(hù)罩104的護(hù)罩半體106A的側(cè)視圖。
圖4B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的QSS護(hù)罩108的護(hù)罩半體110A的側(cè)視圖。
圖4A和4B的透視圖分別看到的是護(hù)罩半體106A和110A的內(nèi)部表面。除非指出，否則護(hù)罩半體106B和110B與護(hù)罩半體106A和110B基本相似。
在圖4A中，護(hù)罩半體106A的內(nèi)側(cè)可以描述為由從ROS護(hù)罩半體106A的外壁突出的翼片415A分成電機(jī)室414A和風(fēng)扇室416A。翼片415A的表面417A是弓形的，以適于抵靠磁場屏蔽罩102的下部306的圓周安裝。當(dāng)ROS護(hù)罩104容納磁場屏蔽罩102時，孔口312和支承結(jié)構(gòu)310設(shè)置在翼片415A的下面，即在風(fēng)扇室416A中。突出部402A和403A與磁場屏蔽罩102上的突出部302對準(zhǔn)。護(hù)罩半體106A的側(cè)壁的凹入部分404A和405A形成為分別鄰近突出部402A和403A，從而為通過突出部402A和402B的緊固件(未示出)提供較大的開放區(qū)域?？梢蕴峁┝硗獾耐怀霾?06和408。
在風(fēng)扇室416A中，空氣入口422A形成在護(hù)罩半體106A的側(cè)壁中。離心式風(fēng)扇(未示出)將設(shè)置在風(fēng)扇室416A中，并例如由電機(jī)(未示出)的電樞軸(未示出)驅(qū)動。
前面提到，凹槽118是界面結(jié)構(gòu)，通過該凹槽118，護(hù)罩104可以連接到磁場屏蔽罩102。唇緣424A是護(hù)罩半體106A上的對應(yīng)的界面結(jié)構(gòu)。唇緣424A是弓形的，以適于位于凹槽118中，從而用作舌榫布置中的舌片。
另一沿著相對側(cè)壁的鄰接表面的舌榫布置可以使護(hù)罩半體106A到護(hù)罩半體106B的連接容易。具體而言，凹槽410A形成在護(hù)罩半體106A的側(cè)壁的鄰接表面中。對應(yīng)的舌片(未示出)形成在護(hù)罩半體106B的對應(yīng)的鄰接側(cè)壁表面中。此外，鑲榫型(mortise-and-tenon type)裝配可以進(jìn)一步使護(hù)罩半體106A到護(hù)罩半體106B的連接容易，榫眼412可形成在護(hù)罩半體106A的側(cè)壁的鄰接表面中，而凸榫(未示出)形成在護(hù)罩半體106B的對應(yīng)的鄰接側(cè)壁表面中。
在圖4B中，QSS護(hù)罩半體110A的內(nèi)側(cè)可以描述為由從護(hù)罩半體110A的外壁突出的翼片415B分成電機(jī)室414B和風(fēng)扇室416B。翼片415B的表面417B是弓形的，以適于抵靠磁場屏蔽罩102的下部306的圓周安裝。當(dāng)QSS護(hù)罩108容納磁場屏蔽罩102時，孔口312和支承結(jié)構(gòu)310設(shè)置在翼片415B的下面，即在風(fēng)扇室416B中。突出部402B和403B與磁場屏蔽罩102上的突出部302對準(zhǔn)。護(hù)罩半體110A的側(cè)壁的凹入部分404B和405B形成為分別鄰近突出部402B和403B，從而為通過突出部402B和402B的緊固件(未示出)提供較大的開放區(qū)域?？梢蕴峁┝硗獾耐怀霾?18和420。
在風(fēng)扇室416B中，空氣入口422B形成在護(hù)罩半體110A的側(cè)壁中。離心式風(fēng)扇(未示出)將設(shè)置在風(fēng)扇室416B中，并例如由電機(jī)(未示出)的電樞軸(未示出)驅(qū)動。
前面提到，凹槽118是界面結(jié)構(gòu)，通過該凹槽118，護(hù)罩108可以連接到磁場屏蔽罩102。唇緣424B是護(hù)罩半體106B上的對應(yīng)的界面結(jié)構(gòu)。唇緣424B是弓形的，以適于位于凹槽118中，從而用作舌榫布置中的舌片。
另一沿著相對側(cè)壁的鄰接表面的舌榫布置可以使護(hù)罩半體110A到護(hù)罩半體110B的連接容易。具體而言，凹槽410B形成在護(hù)罩半體110A的側(cè)壁的鄰接表面中。對應(yīng)的舌片(未示出)形成在護(hù)罩半體110B的對應(yīng)的鄰接側(cè)壁表面中。
凹槽118和唇緣424A/424B描繪為連續(xù)的。或者，唇緣424A/424B可以是不連續(xù)的，以用作可插入到凹槽118中的多個舌片。這樣，凹槽118可以在唇緣424A/424B不連續(xù)的情況下相應(yīng)地不連續(xù)。后一可選方案可以分配舌片部分和對應(yīng)的凹槽部分，以促使(如果不是完全確保)獲得護(hù)罩104相對于磁場屏蔽罩102的期望定位。
圖5A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的磁場屏蔽罩102(圖3A)的布置500A的側(cè)視圖，ROS護(hù)罩半體106A(圖4A)裝配到該磁場屏蔽罩102。
圖5B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的磁場屏蔽罩102(圖3A)的布置500B的側(cè)視圖，QSS護(hù)罩半體110A(圖4B)裝配到該磁場屏蔽罩102。
在圖5A中，前述的凹槽118和唇緣424A的舌榫布置由具有附圖標(biāo)記502A的圓圈區(qū)域示出。為了加強(qiáng)說明，圖5A示出從支承結(jié)構(gòu)310延伸出的電樞軸504。
在圖5B中，前述的凹槽118和唇緣424B的舌榫布置由具有附圖標(biāo)記502B的圓圈區(qū)域示出。為了加強(qiáng)說明，圖5B示出從支承結(jié)構(gòu)310延伸出的電樞軸504。
圖6A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的磁場屏蔽罩102及其相應(yīng)的ROS護(hù)罩半體106B的布置600A的底視圖，ROS護(hù)罩半體106A(圖4A)松裝配到該磁場屏蔽罩102。
圖6B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的磁場屏蔽罩102及其相應(yīng)的QSS護(hù)罩半體110B的布置600B的底視圖，QSS護(hù)罩半體110A(圖4A)松裝配到該磁場屏蔽罩102。
要指出，畫出圖6A-6B的磁場屏蔽罩102的支承結(jié)構(gòu)310的最左和最右邊緣之間的假想線是為了更好地示出圖6A-6B之間的相似性。
圖7是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的圖2A的ROS外殼200A的側(cè)面透視剖面圖。
圖8是沿著圖7的斷開線VIII-VIII’剖開的圖7所示的ROS外殼的切面。由于圖8是切面，因此ROS護(hù)罩半體106B的突出部402A具有形成在其中的盲孔，而在其它的圖中，突出部402A具有通孔。應(yīng)當(dāng)理解，圖7中斷開線VIII-VIII’相對于磁場屏蔽罩102的中心軸的角度是不規(guī)則畫出的。
圖9是沿著斷開線IX-IX’剖開的圖2A所示的ROS外殼200A的切面。
在圖9中，頂蓋112通過舌榫布置902連接到磁場屏蔽罩102。
圖10A是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)100的另一磁場屏蔽罩102’的側(cè)面透視圖。
圖10B是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)100的另一ROS護(hù)罩半體106A’的側(cè)視圖。
圖10A中，磁場屏蔽罩102’與圖3A的磁場屏蔽罩102基本相似。而相比之下，磁場屏蔽罩102’還包括從下部306的外圓周表面法向伸出的隆起1002。隆起1002的橫截面可以是L形?？梢圆捎枚喾N其它形狀。
在圖10B中，ROS護(hù)罩半體106A’與圖4A的ROS護(hù)罩半體106A基本相似。而相比之下，ROS護(hù)罩半體106A’還包括從ROS護(hù)罩半體106A’的內(nèi)側(cè)壁法向伸出的隆起1004。隆起1004可以在基本平行于突出部402A和/或突出部403A的長軸方向延伸。隆起1004的橫截面可以是L形。可以采用多種其它形狀。要指出，可以得到對QSS護(hù)罩半體106B相似的描述等。
ROS護(hù)罩半體106A’和106B’上的突出部402A和403A以及磁場屏蔽罩102上的對應(yīng)突出部302的布置促使(如果不完全確保)實(shí)現(xiàn)兩種定位，一種定位是更為期望的，另一種定位與該更為期望的定位相反而且不很期望。隆起1002和1004定位成促使(如果不完全確保)實(shí)現(xiàn)兩種定位中的更為期望的定位。當(dāng)完成更為期望的定位時，ROS護(hù)罩半體106’裝配到磁場屏蔽罩102’，使得隆起1002和1004不相碰撞。但是當(dāng)不經(jīng)意地實(shí)施了不很期望的定位時，試圖將ROS護(hù)罩半體106’抵靠磁場屏蔽罩102’裝配會導(dǎo)致隆起1002和1004相碰撞，這至少阻礙了實(shí)現(xiàn)不很期望的定位。
圖10C是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的沿著磁場屏蔽罩102’的第一斷開線剖開的側(cè)面透視剖面圖，ROS護(hù)罩半體106A’和106B裝配到該磁場屏蔽罩102’。由于實(shí)現(xiàn)了期望的定位，因此隆起1004不與隆起1002(圖10C中未示出)相碰撞。
圖10D是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的沿著磁場屏蔽罩102’的第二斷開線剖開的側(cè)面透視剖面圖，ROS護(hù)罩半體106A’和106B裝配到該磁場屏蔽罩102’。由于實(shí)現(xiàn)了期望的定位，因此隆起1002不與隆起1004(圖10D中未示出)相碰撞。
圖11是根據(jù)本發(fā)明至少一個實(shí)施例的制造打磨機(jī)(例如，隨機(jī)軌道打磨機(jī)(ROS)和四分之一片打磨機(jī)(QSS))的模塊化方法的流程圖。
圖11的流程圖起始于塊1102并前進(jìn)至塊1104，在塊1104處使用磁場屏蔽罩102或102’庫存至少部分組裝的打磨機(jī)適用的電源單元，而不庫存可與該多個至少部分組裝的電源單元相匹配的相應(yīng)數(shù)量的打磨機(jī)適用的動力傳輸裝置。假設(shè)同一電機(jī)用于ROS打磨機(jī)和QSS打磨機(jī)，并且因為磁場屏蔽罩102/102’可以與ROS護(hù)罩104或QSS護(hù)罩108一起使用，故至少部分預(yù)組裝的電源單元可與ROS動力傳輸裝置和ROS護(hù)罩104或者QSS動力傳輸裝置和QSS護(hù)罩108一起使用。換言之，根據(jù)圖11的方法，用于制造ROS和QSS的庫存可以包括X個多個磁場屏蔽罩102或102’，其中X是正整數(shù)，以及Y個ROS護(hù)罩104，其中0≤Y≤X，和/或Z個QSS護(hù)罩108，其中0≤Z≤X。
流程圖從塊1104前進(jìn)至判定塊1106，在判定塊1106處判斷是否已接收到ROS和/或QSS的一個或多個指令。如果未接收到，則可以重復(fù)執(zhí)行判定塊1106以等待指令。如果已接收(即，已接收到一個或多個指令)，則流程圖前進(jìn)至塊1108。
在塊1108處，根據(jù)該一個或多個指令的細(xì)節(jié)分別提供至少部分組裝的ROS動力傳輸裝置和/或QSS動力傳輸裝置。接下來，在塊1110處，根據(jù)該一個或多個指令的細(xì)節(jié)分別提供R0S護(hù)罩104和QSS護(hù)罩108。而后在塊1112處，將各護(hù)罩(ROS和/或QSS)、各動力傳輸裝置(ROS和/或QSS)、至少部分預(yù)組裝的電源單元等組裝在一起。考慮到塊1112中組裝可能出現(xiàn)的不同情況，可構(gòu)想的是采用各種組裝順序。作為一個示例，兩個護(hù)罩半體可以較松地附接到至少部分組裝的電源單元，而后各動力傳輸裝置可連接到該至少部分組裝的電源單元等。
流程圖從塊1112前進(jìn)到判定塊1114，在判定塊1114處，判斷電源單元的庫存是否已經(jīng)充分減少到要保證補(bǔ)給。如果未減少到該程度，則流程圖循環(huán)返回到判定塊1106，以等待另一指令。如果減少到該程度，則流程圖循環(huán)返回到庫存塊1104以補(bǔ)給庫存。
當(dāng)然，雖然這里討論了本發(fā)明的幾個變型和示例，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員容易理解，還可以對本發(fā)明做各種另外的修改。因此，這里討論的示例性實(shí)施例不是對本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
1.一種打磨機(jī)外殼，包括至少容納電機(jī)的磁場屏蔽罩，所述磁場屏蔽罩具有可連接到下述每個部件的界面隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納隨機(jī)軌道打磨機(jī)型動力傳輸裝置，和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納四分之一片打磨機(jī)型動力傳輸裝置。
2.權(quán)利要求1的打磨機(jī)外殼，其中，所述磁場屏蔽罩是果醬罐型的罩。
3.權(quán)利要求2的打磨機(jī)外殼，其中，所述果醬罐型的罩是整體式構(gòu)造。
4.權(quán)利要求1的打磨機(jī)外殼，還包括隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩中的一個；每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩包括與所述磁場屏蔽罩的界面可配合的界面。
5.權(quán)利要求4的打磨機(jī)外殼，其中，每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩是兩部分的蛤殼型布置。
6.權(quán)利要求1的打磨機(jī)外殼，其中，所述磁場屏蔽罩是管狀的并具有中心軸。
7.權(quán)利要求6的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩具有舌榫布置的圓周凹槽；并且每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩具有與所述磁場屏蔽罩的凹槽可配合的圓周舌片。
8.權(quán)利要求7的打磨機(jī)外殼，其中，所述舌片和所述凹槽中至少一個至少是不連續(xù)的。
9.權(quán)利要求6的打磨機(jī)外殼，其中每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩容納所述管狀磁場屏蔽罩的下部。
10.權(quán)利要求9的打磨機(jī)外殼，其中，無論所述磁場屏蔽罩由所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩容納還是由所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩容納，所述磁場屏蔽罩的相同部分都保持在相應(yīng)護(hù)罩的外部。
11.權(quán)利要求1的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩具有一個或多個突出部，所述一個或多個突出部分別與隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩各自上的相應(yīng)的一個或多個突出部可配合；并且每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩或所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩分別具有與所述磁場屏蔽罩上的所述一個或多個突出部可配合的一個或多個突出部。
12.權(quán)利要求11的打磨機(jī)外殼，其中，所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩上的所述一個或多個突出部與所述磁場屏蔽罩上的一個或多個突出部可配合，而對于該磁場屏蔽罩上的相同的所述一個或多個突出部，所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩上的所述一個或多個突出部可與之配合。
13.權(quán)利要求11的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩上有兩個突出部；并且在所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩各自上有兩個突出部，它們分別與所述磁場屏蔽罩上的兩個突出部可配合。
14.權(quán)利要求1的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩在內(nèi)表面上具有第一隆起；并且所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩各自在內(nèi)表面上具有第二隆起；所述第一和第二隆起定位成使得當(dāng)所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩中任一個按照期望定位連接到所述磁場屏蔽罩時，所述第一和第二隆起不相互碰撞；和當(dāng)所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩中任一個按照不期望定位連接到所述磁場屏蔽罩時，所述第一和第二隆起相互碰撞。
15.一種打磨機(jī)外殼裝置，包括用于至少容納電機(jī)的磁場屏蔽罩部件，其連接到至少兩個不同形狀的動力傳輸裝置的護(hù)罩；至少下列其中之一用于容納隨機(jī)軌道打磨機(jī)型動力傳輸裝置的隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩裝置，和用于容納四分之一片打磨機(jī)型動力傳輸裝置的四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩裝置；和界面裝置，所述磁場屏蔽罩通過該界面裝置可連接到所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩。
16.權(quán)利要求15的裝置，還包括所述磁場屏蔽罩部件上的第一隆起部件；和每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩部件和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩部件上的第二隆起部件，每個第二隆起部件用于阻礙所述護(hù)罩部件相對于所述磁場屏蔽罩部件的不期望定位，這由以下實(shí)現(xiàn)按照不期望定位相互碰撞，和按照期望定位不相互碰撞。
17.一種組裝打磨機(jī)外殼的方法，所述方法包括提供用于至少容納電機(jī)的磁場屏蔽罩，所述磁場屏蔽罩具有可連接到下述每個部件的界面隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩，其中可至少容納隨機(jī)軌道打磨機(jī)型動力傳輸裝置，和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩，其中可至少容納四分之一片打磨機(jī)型動力傳輸裝置；提供所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩中的一個；以及將所提供的護(hù)罩設(shè)置在所述磁場屏蔽罩周圍。
18.權(quán)利要求17的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩具有舌榫布置的圓周凹槽；所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩各自具有與所述磁場屏蔽罩的凹槽的形狀可配合的圓周舌片；和設(shè)置所提供的護(hù)罩的步驟包括將所述舌片裝配到凹槽中。
19.權(quán)利要求17的打磨機(jī)外殼，其中所述磁場屏蔽罩在內(nèi)表面上具有第一隆起；并且每個所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩在內(nèi)表面上具有第二隆起；并且設(shè)置所提供的護(hù)罩的步驟包括使所提供的護(hù)罩相對于所述磁場屏蔽罩定位成使得所述第二隆起不與所述第一隆起相碰撞。
20.一種制造隨機(jī)軌道打磨機(jī)和四分之一片打磨機(jī)的方法，所述方法包括提供打磨機(jī)適用的電機(jī)；至少部分地將電機(jī)裝入磁場屏蔽罩中，以形成至少部分組裝的電源單元；和庫存多個所述至少部分組裝的電源單元，通過反復(fù)地重復(fù)提供和裝入的步驟，而不庫存相應(yīng)數(shù)量的打磨機(jī)適用的動力傳輸裝置，所述多個至少部分組裝的電源單元可以與所述動力傳輸裝置相匹配。
21.權(quán)利要求20的方法，其中所述多個至少部分組裝的電源單元中的每一個都具有相同的界面，所述界面可連接到下述每個部件隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納隨機(jī)軌道打磨機(jī)型動力傳輸裝置，和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納四分之一片打磨機(jī)型動力傳輸裝置。
22.一種打磨機(jī)外殼庫存裝置，包括分別至少容納電機(jī)的多個磁場屏蔽罩，每個所述磁場屏蔽罩具有可連接到下述每個部件的界面隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納隨機(jī)軌道打磨機(jī)型動力傳輸裝置，和四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩，其中可容納四分之一片打磨機(jī)型動力傳輸裝置；以及所述隨機(jī)軌道打磨機(jī)護(hù)罩和所述四分之一片打磨機(jī)護(hù)罩中的至少一個。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種組合式打磨機(jī)外殼結(jié)構(gòu)。打磨機(jī)外殼可包括至少容納電機(jī)的磁場屏蔽罩，所述磁場屏蔽罩具有可連接到隨機(jī)軌道打磨機(jī)(ROS)護(hù)罩和四分之一片打磨機(jī)(QSS)護(hù)罩的界面。ROS護(hù)罩可容納ROS型動力傳輸裝置。QSS護(hù)罩可容納QSS型動力傳輸裝置。
文檔編號B24B55/05GK1792568SQ200510136248
公開日2006年6月28日 申請日期2005年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月23日
發(fā)明者邁克爾·J·沃爾斯特魯姆, 斯圖爾特·J·賴特 申請人:布萊克和戴克公司